CN113488598A - 显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种显示面板及其制造方法，该显示面板包括显示区和边框区，包括阵列基板、包括位于显示区的第一像素和位于非显示区的第二像素且设置于阵列基板一侧的像素层、设置于像素层远离阵列基板一侧且覆盖像素层的第一无机层、在阵列基板上的正投影至少覆盖第一像素在阵列基板上的正投影且设置于第一无机层远离像素层一侧的有机层、设置于有机层远离第一无机层一侧且覆盖有机层和第一无机层设置的第二无机层；第二像素包括紫外发光层。通过设置紫外发光层使位于边框区第二像素远离阵列基板一侧的有机层优先固化的方式，避免有机层沿远离显示区的方向溢流的同时不会增加边框的宽度，更有利于窄边框效果的实现。

Description

显示面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制造方法。

背景技术

OLED(Organic light-emitting diode，有机发光二极管)显示面板因其具备低功耗、高饱和度、广视角、薄厚度、柔性化等优势而被广泛推广。

在如今的发展趋势中，OLED显示面板正朝着柔性化的方向发展。在OLED显示面板中，通常在发光器件的一侧制备薄膜封装结构，在薄膜封装结构中无机材料和有机材料层叠设置，无机材料具有良好的致密性，有机材料则赋予薄膜封装结构更低的杨氏模量，从而在保证显示面板的可弯折性的基础上，有效地阻挡氧气和水汽的侵蚀、降低显示面板受损失效的风险。

然而，在现有的显示面板中，通常会在显示面板的边框区域设置封装坝以阻挡固化前的有机材料溢流，但是同时封装坝的设置会增加边框区域的宽度，影响显示面板窄边框效果的实现。

发明内容

基于此，有必要针对封装坝的设置会增加边框区域的宽度，影响显示面板的显示效果的问题，提供一种显示面板，进一步包括：

阵列基板；

设置于所述阵列基板一侧的像素层，所述像素层包括第一像素和第二像素，所述第一像素位于所述显示区，所述第二像素位于所述非显示区；

设置于所述像素层远离所述阵列基板一侧的第一无机层，所述第一无机层覆盖所述像素层设置；

设置于所述第一无机层远离所述像素层一侧的有机层，所述有机层在所述阵列基板上的正投影至少覆盖所述第一像素在所述阵列基板上的正投影；

设置于所述有机层远离所述第一无机层一侧的第二无机层，所述第二无机层覆盖所述有机层和所述第一无机层设置；

其中，所述第二像素包括紫外发光层。

在其中一个实施例中，在所述阵列基板的延伸方向上，所述有机层远离所述显示区的一端和所述显示区之间的间距小于或等于所述第二像素远离所述显示区的一端和所述显示区之间的间距。

进一步地，所述有机层在所述阵列基板上的正投影部分覆盖所述第二像素在所述阵列基板上的正投影。

在其中一个实施例中，在垂直于所述阵列基板的方向上，所述有机层远离所述阵列基板一侧的厚度小于或等于所述第二像素远离所述阵列基板一侧的厚度。

进一步地，在所述阵列基板的延伸方向上，所述有机层远离所述显示区方向的一侧与所述第二像素在朝向所述显示区方向的一侧之间通过所述第一无机层间隔设置。

在其中一个实施例中，所述有机层包括含活性官能团的高分子预聚物，所述含活性官能团的高分子预聚物包括光引发剂。

在其中一个实施例中，所述有机层的材质为氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、乙烯基醚中的一种或多种。

在其中一个实施例中，所述紫外发光层的材质为TPD。

进一步地，所述第一像素阵列分布于所述显示区，所述第二像素围绕所述显示区且所述第二像素与所述第一像素间隔设置。

本申请还提供了一种显示面板的制造方法，用于制造前述显示面板，所述制造方法包括：

提供阵列基板；

在所述阵列基板的一侧形成像素层，所述像素层包括第一像素和第二像素，所述第二像素包括紫外发光层；

在所述像素层远离所述阵列基板的一侧形成第一无机层，所述第一无机层覆盖所述像素层设置；

导通所述第二像素，所述紫外发光层发出紫外光并在所述第一无机层远离所述阵列基板的一侧形成有机层，所述有机层在所述阵列基板上的正投影至少覆盖所述第一像素在所述阵列基板上的正投影

沿朝向所述阵列基板的方向对所述有机层进行固化；

在所述有机层远离所述第一无机层的一侧形成第二无机层，所述第二无机层覆盖所述有机层和所述第一无机层设置。

本申请提供的显示面板，包括显示区和边框区，进一步包括阵列基板、包括位于显示区的第一像素和位于非显示区的第二像素且设置于阵列基板一侧的像素层、设置于像素层远离阵列基板一侧、覆盖像素层的第一无机层、在阵列基板上的正投影至少覆盖第一像素在阵列基板上的正投影且设置于第一无机层远离像素层一侧的有机层、设置于有机层远离第一无机层一侧且覆盖有机层和第一无机层设置的第二无机层；其中，第二像素包括紫外发光层。通过设置紫外发光层并使位于边框区第二像素远离阵列基板一侧的有机层优先固化的方式，避免有机层沿远离显示区的方向溢流的同时不会增加边框的宽度，更有利于窄边框效果的实现。

附图说明

图1为现有技术中的显示面板的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的显示面板的结构示意图；

图3为图2中本申请实施例提供的显示面板沿SS’线的截面图；

图4为本申请实施例提供的紫外发光层的材料分子结构图；

图5为图2中本申请实施例提供的显示面板沿SS’线的又一截面图；

图6为本申请实施例提供的显示面板的另一结构示意图；

图7为本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

针对前述背景技术中提及的技术问题，发明人通过研究后发现，在现有技术中，请参照图1，现有技术中的显示面板包括显示区AA和围绕显示区设置的边框区NA，进一步地，显示面板还包括阵列基板001，像素层002设置在阵列基板001位于显示区AA的一侧；在阵列基板001位于边框区NA的一侧设置有第一封装坝DAM1和第二封装坝DAM2，第二封装坝DAM2远离阵列基板001一侧的高度大于第一封装坝DAM1远离阵列基板001一侧的高度；第一无机层003位于像素层002远离阵列基板001的一侧，且同时覆盖像素层002、第一封装坝DAM1和第二封装坝DAM2；有机层004设置于第一无机层003远离阵列基板001的一侧，且有机层004远离显示区AA的一侧与第一封装坝DAM1通过第一无机层003间隔设置，由于有机层004在形成时通常呈现流体的形态，设置于第一无机层003远离阵列基板001的一侧之后通过加热固化才能稳定为固体的形态，因此在加热固化前第一封装坝DAM1阻挡了有机层004沿远离显示区AA的方向溢流，第二封装坝DAM2设置于第一封装坝DAM1远离显示区AA的一侧，从而为加热固化前的有机层004沿远离显示区AA的方向溢流提供了更进一步地阻挡作用；第二无机层005设置于第一无机层003远离阵列基板001的一侧且覆盖有机层004和第一无机层003设置。由第一无机层003、有机层004和第二无机层005形成的叠层构成薄膜封装结构(Thin-Film Encapsulation，TFE)，无机材料具有较好的致密性，从而可以为像素层002阻挡水汽和氧气从而避免像素层002受损；但是值得注意的是，为了同时保证显示面板的稳定性以及加热固化前的有机层004沿远离显示区AA的方向溢流提供的阻挡效果，第一封装坝DAM1和第二封装坝DAM2在边框区NA通常会占据较大的体积、增加边框区NA的宽度，影响显示面板的窄边框效果实现。

为了解决上述技术问题，本申请旨在提供一种显示面板，请参照图2-3，包括：

请参照图2，显示区AA和边框区NA，边框区NA围绕显示区AA设置，可以理解的是，显示区AA显示画面，而边框区NA不显示画面。

图3是图2中示出的显示面板沿分割线SS’的截面示意图，本申请实施例提供的显示面板进一步包括阵列基板010以及设置于阵列基板010一侧的像素层，像素层进一步包括位于显示区AA的第一像素100和位于边框区NA的第二像素101，并且在阵列基板010的延伸方向上第一像素100和第二像素101间隔设置，第二像素101既可以和第一像素100采用相同的掩膜板制备形成，也可以在第一像素100制备形成之后采用不同的掩膜板制备形成单独形成，本申请实施例对此不作限制；具体地，第一像素100包括沿远离阵列基板010方向层叠设置的阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极，对应地，第二像素101也可以包括沿远离阵列基板010方向层叠设置的阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极，其中，第二像素101的发光层为紫外发光层。

在本申请所提供的显示面板中，还包括第一无机层201、有机层202和第二无机层203，第一无机层201设置于像素层远离阵列基板010的一侧，同时覆盖像素层设置，换言之，第一无机层201覆盖第一像素100和第二像素101；有机层202设置于第一无机层201远离像素层的一侧，在垂直于阵列基板010的方向上，有机层202在阵列基板010上的投影至少覆盖第一像素100在阵列基板010上的投影，换言之，有机层202在阵列基板010上的正投影至少覆盖第一像素100在阵列基板010上的正投影；第二无机层203设置于第一无机层201远离阵列基板010的一侧且覆盖有机层202和第一无机层201设置。

作为一种较佳的实施方式，在垂直于阵列基板010的方向上，有机层202在阵列基板010上的投影落入像素层在阵列基板010上的投影范围内，也即有机层202在阵列基板010上的正投影落入像素层在阵列基板010上的正投影范围内，换言之，在垂直于阵列基板010的方向上，有机层202在阵列基板010上的投影和像素层在阵列基板010上的投影重合；再换言之，在阵列基板010的延伸方向上，有机层202远离显示区AA的一端和显示区AA之间的间距小于或等于第二像素101远离显示区AA的一端显示区AA之间的间距；与此同时，在阵列基板010的延伸方向上，有机层202的最大宽度小于或等于像素层的最大宽度。

进一步地，在本申请实施例所提供的显示面板中，有机层202在阵列基板010上的正投影部分覆盖第二像素101在阵列基板010上的正投影。

在本申请实施例所提供的显示面板中，第二像素101包括发光层，且该发光层为紫外发光层，进而可知前述紫外发光层在电路导通状态下可以发出紫外光；对应地，有机层202包括含活性官能团的高分子预聚物，具体可以是紫外光固化材料，例如树脂等，由于预聚物具有不饱和性的分子，在受到紫外光照射的条件下，可以液态变成固态；从而，在有机层202形成于第一无机层201远离像素层一侧时，通过导通第二像素101，使紫外发光层发出紫外光，本领域技术人员应知的是，含活性官能团的高分子预聚物中包括光引发剂，故有机层202中的光引发剂受刺激变为自由基或者阳离子，从而引发含活性官能团的高分子预聚物由液态聚合成固态，从而使在第二像素101远离阵列基板010的一侧的有机层202固化；在边框区NA第二像素101远离阵列基板010的一侧固化的有机层202可以作为挡墙，阻挡未被紫外光照射、呈现液体状态的有机层202沿远离显示区AA的方向溢流，之后再对未被紫外光照射、呈现液体状态的有机层202进行固化并形成第二有机层203，从而在不设置封装坝的前提下，避免有机层202沿远离显示区AA的方向溢流的同时实现有机层202在边框区NA第二像素101远离阵列基板010一侧的固化，避免设置封装坝带来的边框区NA宽度增加的问题，更有利于窄边框效果的实现。

可以理解的是，紫外发光层在第二像素101导通状态下可以发出紫外光，其波长小于410nm，由于肉眼的可见光波长范围在390nm-780nm之间，当紫外发光层发出的紫外光波长范围设置在390nm-410nm之间时可以被人眼识别，从而确保第二像素101处于导通状态；作为一种可选的实施方式，紫外发光层的波长也可以小于390nm，本申请实施例对此不做限定。

作为一种可选的实施方式，紫外发光层的厚度可以为10nm-40nm，本申请实施例对此不做具体限定。

可选地，有机层202的材质可以为氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、乙烯基醚中的一种或多种，只要满足有机层202可以在紫外光照射后可以固化即可，本申请实施例对有机层202的具体材质选择不做限定。

可选地，第二像素101中的紫外发光层的材质可以为TPD(N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-1,1'-联苯-4,4'-二胺)，其化学式为C38H32N2，TPD的分子式请参考图4所示，TPD材料的发光波长波峰为398mm，故可以应用在本申请实施例提供的技术方案中作为紫外发光层的制备材料；本申请实施例对紫外发光层的材质做具体限定，只要能够作为紫外光光源发出紫外光即可。

请参照图4，本申请还提供了一种显示面板的另外一种实施方式，在该显示面板中同样包括阵列基板010、包括第一像素100和第二像素101的像素层、设置在像素层远离阵列基板010一侧的第一无机层201、有机层202和设置在第一无机层201远离像素层一侧的第二无机层203；在本申请实施例中，在垂直于阵列基板010的方向上，有机层202远离阵列基板010一侧的厚度小于或等于第二像素101远离阵列基板010一侧的厚度。

作为一种较佳的实施方式，有机层202在阵列基板010上的投影至少覆盖第一像素100在阵列基板010上的投影，并且在阵列基板010的延伸方向上，有机层202在远离显示区AA方向的一侧与第二像素101在朝向显示区AA方向的一侧之间通过第一无机层201间隔设置。

可以理解的是，在本申请实施例所提供的显示面板中，由于第二像素101紫外发光层，在电路导通状态下可以发出紫外光；在有机层202形成时，通过导通第二像素101，使紫外发光层发出紫外光，此时有机层202中的光引发剂受刺激变为自由基或者阳离子，从而引发含活性官能团的高分子预聚物由液态聚合成固态，从而使有机层202固化。由于在本申请实施例中，在阵列基板010的延伸方向上，有机层202远离显示区AA方向的一侧与第二像素101在朝向显示区AA方向的一侧之间通过第一无机层201间隔设置，并且有机层202远离阵列基板010一侧的厚度小于或等于第二像素101远离阵列基板010一侧的厚度，从而在有机层202形成时，第二像素101可以作为挡墙阻挡呈现液体状态的有机层202沿远离显示区AA的方向溢流，通过导通第二像素101使紫外发光层发射紫外光，可以使有机层202朝向第二像素101的一侧固化，进而保证有机层202不会发生溢流现象，在有机层202朝向第二像素101的一侧固化后再对有机层202进行整体固化，之后再形成第二无机层203。通过上述设置，相比于前述实施例更为保险地进行封装，更有利于避免呈现液体状态的有机层202沿远离显示区AA的方向溢流。

可以理解的是，在本申请提供的显示面板中，还包括像素驱动电路(图未示出)，其中：第一像素100和第二像素101采用的像素驱动电路不同，从而可以在有机层202形成之后，可以单独导通第二像素101，从而使紫外发光层发出紫外光；在显示面板实现显示效果时，可以单独导通第一像素100，从而避免第二像素101在显示面板显示时对第一像素100的发光产生干扰，提升显示均一性。

本申请提供的显示面板中，请参照图6，第一像素100阵列分布于显示区AA，第二像素101围绕显示区AA且第二像素101与第一像素100间隔设置。

作为一种可选的实施方式，第二像素101可以依次间隔设置于第一像素100远离显示面板的显示区AA的一侧。

作为一种较佳的实施方式，第二像素101也可以首尾连接形成环状结构设置于第一像素100远离显示面板的显示区AA的一侧、环绕显示区AA设置。当第二像素101首尾连接形成环状结构设置于第一像素100远离显示面板的显示区AA的一侧、环绕显示区AA设置时，有机层202可以更好地被第二像素101阻挡、避免沿远离显示区AA的方向溢流，并且此时第一像素100可以仅通过一根驱动信号线单独导通，即第一像素100仅需接受单一的驱动信号单独导通，从而节省了生产成本。

根据发明人经过实验验证获知，在图1中示出的现有技术中的显示面板中，薄膜封装结构远离显示区AA的一端到显示区AA的距离范围为0.6mm-0.7mm，而在本申请实施例提供的技术方案中，薄膜封装结构远离显示区AA的一端到到显示区AA的距离小于0.1mm，因此本申请实施例提供的显示面板可以设置比现有技术更窄的边框。

请参照图7，本申请还提供了一种显示面板的制造方法，用于制造前述实施例中所提到的显示面板，包括：

S1：提供阵列基板010；

本申请实施例提供的阵列基板包括但不限于衬底、缓冲层、驱动器件层、绝缘层、导电柱、平坦化层、像素限定层和像素层。

可以理解的是，本申请实施例提供的显示面板中，由于该显示面板可以实现弯折的功能，因此需要保证该阵列基板010具有可弯折性，所以在阵列基板010中，衬底为柔性衬底，可选的衬底材质为聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯、聚醚砜、聚醚酰亚胺的一种或多种。

可选地，驱动器件层包括薄膜晶体管，本申请实施例所提供的薄膜晶体管既可以是低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS-TFT)也可以是氧化物薄膜晶体管(OTFT)，作为一种较佳的实施方式，若薄膜晶体管的类型选择氧化物薄膜晶体管，那么可以选择铟镓锌氧化物薄膜晶体管作为本申请实施例的薄膜晶体管。

S2：在阵列基板010的一侧形成像素层，像素层包括第一像素100和第二像素101，第二像素101包括紫外发光层；

在本申请提供的显示面板中，像素层进一步包括位于显示区AA的第一像素100和位于边框区NA的第二像素101，并且在阵列基板010的延伸方向上第一像素100和第二像素101间隔设置。

具体地，第一像素100包括沿远离阵列基板010方向层叠设置的阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极，第二像素101也可以包括沿远离阵列基板010方向层叠设置的阳极、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极，其中，第二像素101的发光层为紫外发光层。

第二像素101既可以和第一像素100同时制备形成，也可以在第一像素100制备形成之后单独形成，本申请实施例对此不作限制。

S3：在像素层远离阵列基板010的一侧形成第一无机层201，第一无机层201覆盖像素层设置；

第一无机层201设置于像素层远离阵列基板010的一侧，第一无机层201覆盖像素层设置，换言之，第一无机层201同时覆盖第一像素100和第二像素101。

第一无机层201的材质可以是氧化硅(SiN_x)或氮氧化硅(SiO_xN_y)中的一种或二者的组合，由于第一无机层201具有较好的致密性和更加稳定的分子结构，故其作用在于隔绝远离阵列基板010一侧的水汽和氧气侵入像素层导致像素层失效、影响显示面板的显示效果。

第一无机层201可以通过化学气相沉积(CVD)的方式形成，作为一种较佳的实施方式，第一无机层201可以通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方式形成于像素层远离阵列基板010的一侧，从而为像素层提供封装保护。

S4：导通第二像素101，紫外发光层发出紫外光并在第一无机层201远离阵列基板010的一侧形成有机层202，有机层202在阵列基板010上的正投影至少覆盖第一像素100在阵列基板010上的正投影

有机层202形成于第一无机层201远离像素层的一侧，在垂直于阵列基板010的方向上，有机层202在阵列基板010上的投影至少覆盖第一像素100在阵列基板010上的投影。由于第一像素100位于显示区AA，有机层202至少能够为显示区AA区提供更好的可弯折性。

有机层202可以由引发含活性官能团的高分子预聚物制备形成，具体可以是紫外光固化材料，例如树脂等，由于预聚物具有不饱和性的分子，在受到紫外光照射的条件下，可以液态变成固态。

第二像素101包括紫外发光层，在本步骤中，导通第二像素101，第二像素101中的紫外发光层发出紫外光，由于有机层202可以由引发含活性官能团的高分子预聚物制备形成，本领域技术人员应知的是，含活性官能团的高分子预聚物中包括光引发剂，故有机层202中的光引发剂受刺激变为自由基或者阳离子，从而引发含活性官能团的高分子预聚物由液态聚合成固态，从而使在边框区NA第二像素101远离阵列基板010的一侧的有机层202固化，在边框区NA第二像素101远离阵列基板010的一侧固化的有机层202可以作为挡墙，阻挡未被紫外光照射、呈现液体状态的有机层202沿远离显示区AA的方向溢流。

作为一种较佳的实施方式，在垂直于阵列基板010的方向上，有机层202在阵列基板010上的投影落入像素层在阵列基板010上的投影范围内，或者，在垂直于阵列基板010的方向上，有机层202在阵列基板010上的投影和像素层在阵列基板010上的投影重合；换言之，在阵列基板010的延伸方向上，有机层202的最大宽度小于或等于像素层的最大宽度。

有机层202可以通过喷墨打印(IJP)的方式形成于第一无机层201远离像素层一侧，有机层的作用主要是使第一无机层201远离像素层一侧的表面更为平整，同时在显示面板发生弯折时吸收外界传递到显示面板内部的应力。

S5：沿朝向阵列基板010的方向对有机层202进行固化；

由于在步骤S5中，仅能够保证边框区NA第二像素101远离阵列基板010的一侧固化的有机层202被固化，位于第二像素101朝向显示区AA一侧的有机层202仍然存在呈现液体形态的部分，故需要对该部分进行固化已面其出现溢流的风险，这样也有助于使有机层202远离阵列基板010一侧的表面更为平整。

本申请实施例对沿朝向阵列基板010的方向对有机层202的固化方法做具体的限定，但是作为一种较佳的实施方式，在对沿朝向阵列基板010的方向对有机层202的固化时也可以采用紫外光照射的方式进行；可选地，沿朝向阵列基板010的方向对有机层202的固化率大于90％，从此可以保证有机层202可以满足更好的可弯折需求。

S6：在有机层202远离第一无机层201的一侧形成第二无机层203，第二无机层203覆盖有机层202和第一无机层201设置。

第二无机层203的材质可以是氮化硅(SiN_x)或氮氧化硅(SiO_xN_y)中的一种或二者的组合，由于第二无机层203具有较好的致密性和更加稳定的分子结构，故其作用在于隔绝远离阵列基板010一侧的水汽和氧气侵入像素层导致像素层失效、影响显示面板的显示效果。可选地，第二无机层203也可以为氮化硅(SiN_x)和氮氧化硅(SiO_xN_y)交替层叠设置的复合膜层，从而可以延长水汽和氧气入侵进入像素层的路径，增强封装效果。

第二无机层203可以通过化学气相沉积(CVD)的方式形成，作为一种较佳的实施方式，第二无机层203可以通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方式形成于有机层202远离第一无机层201的一侧，从而为像素层提供封装保护。

在本申请的其他一些实施例中，前述显示面板的制造方法中，导通第二像素101，紫外发光层发出紫外光的步骤可以先于第一无机层201远离阵列基板010的一侧形成有机层202的步骤进行，也可以是，紫外发光层发出紫外光的步骤和执行第一无机层201远离阵列基板010的一侧形成有机层202的步骤同时进行，换言之，紫外发光层发出紫外光的步骤可以在执行第一无机层201远离阵列基板010的一侧形成有机层202的步骤之后进行；作为一种较佳的实施方式，紫外发光层发出紫外光的步骤先于在第一无机层201远离阵列基板010的一侧形成有机层202的步骤之前进行，这样可以使第二像素101为位于第二像素101远离阵列基板010一侧的有机层202提供更好的固化效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括显示区和边框区，其特征在于，所述显示面板包括：

阵列基板；

设置于所述阵列基板一侧的像素层，所述像素层包括第一像素和第二像素，所述第一像素位于所述显示区，所述第二像素位于所述非显示区；

设置于所述像素层远离所述阵列基板一侧的第一无机层，所述第一无机层覆盖所述像素层设置；

设置于所述第一无机层远离所述像素层一侧的有机层，所述有机层在所述阵列基板上的正投影至少覆盖所述第一像素在所述阵列基板上的正投影；

设置于所述有机层远离所述第一无机层一侧的第二无机层，所述第二无机层覆盖所述有机层和所述第一无机层设置；

其中，所述第二像素包括紫外发光层。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于：

在所述阵列基板的延伸方向上，所述有机层远离所述显示区的一端和所述显示区之间的间距小于或等于所述第二像素远离所述显示区的一端和所述显示区之间的间距。

3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于：

所述有机层在所述阵列基板上的正投影部分覆盖所述第二像素在所述阵列基板上的正投影。

4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于：

在垂直于所述阵列基板的方向上，所述有机层远离所述阵列基板一侧的厚度小于或等于所述第二像素远离所述阵列基板一侧的厚度。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于：

在所述阵列基板的延伸方向上，所述有机层远离所述显示区方向的一侧与所述第二像素在朝向所述显示区方向的一侧之间通过所述第一无机层间隔设置。

6.如权利要求1-5任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述有机层包括含活性官能团的高分子预聚物，所述含活性官能团的高分子预聚物包括光引发剂。

7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述有机层的材质为氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、乙烯基醚中的一种或多种。

8.如权利要求1-5任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述紫外发光层的材质为TPD。

9.如权利要求1-5任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素阵列分布于所述显示区，所述第二像素围绕所述显示区且所述第二像素与所述第一像素间隔设置。

10.一种显示面板的制造方法，其特征在于，用于制造如权利要求1-8所述的显示面板，所述制造方法包括：

提供阵列基板；

在所述阵列基板的一侧形成像素层，所述像素层包括第一像素和第二像素，所述第二像素包括紫外发光层；

在所述像素层远离所述阵列基板的一侧形成第一无机层，所述第一无机层覆盖所述像素层设置；

导通所述第二像素，所述紫外发光层发出紫外光并在所述第一无机层远离所述阵列基板的一侧形成有机层，所述有机层在所述阵列基板上的正投影至少覆盖所述第一像素在所述阵列基板上的正投影；

沿朝向所述阵列基板的方向对所述有机层进行固化；

在所述有机层远离所述第一无机层的一侧形成第二无机层，所述第二无机层覆盖所述有机层和所述第一无机层设置。

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