CN113488428A - 一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法 - Google Patents
一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113488428A CN113488428A CN202110622499.XA CN202110622499A CN113488428A CN 113488428 A CN113488428 A CN 113488428A CN 202110622499 A CN202110622499 A CN 202110622499A CN 113488428 A CN113488428 A CN 113488428A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wafer
- adjusting
- fixing component
- wafer carrier
- wafer carrying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 4
- 238000011165 process development Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68764—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel
Abstract
本发明提供了一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法,包括:晶圆载台、螺丝旋钮、伺服电机、晶圆载台固定组件和晶圆载台调节可动组件;其中,晶圆载台与晶圆载台固定组件相连,螺丝旋钮穿过晶圆载台调节可动组件与晶圆载台固定组件相接触,螺丝旋钮旋转使晶圆载台固定组件上升或下降。本发明结构节简单、操作方便、安全可靠,通过伺服电机控制晶圆载台垂直和水平角度位置,可满足调整极板间距及位置角度可调,避免了人工通过旋转螺丝调整带来的误差,提高设备利用率,便于工艺开发;调节过程中,晶圆载台垂直及水平位置可调,进而控制晶圆在真空腔室位置姿态。
Description
技术领域
本发明涉及半导体设备领域,尤其涉及一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法。
背景技术
当前PECVD反应室中的组件通常可以允许晶圆升降机构的横向调节和水平,一般PECVD工艺Recipe中都设置有极间距GAP这一参数,主要为垂直方向,而工艺过程中晶圆在水平方向角度上很少可动,需要提前确定晶圆载台的水平角度位置,即晶圆载台与上极板的相对倾斜角度,在同一种PECVD设备类型下,在固定的晶圆载台水平角度位置情况下,多种工艺条件下很难兼容,因此有必要设计出一种可调节的晶圆载台垂直和水平角度位置的装置及调节方法,来调节晶圆载台的垂直和水平角度位置,便于工艺开发,提高设备的队中工艺的兼容性。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法。
本发明一方面提供了一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置,包括:晶圆载台、螺丝旋钮、伺服电机、晶圆载台固定组件和晶圆载台调节可动组件;
其中,晶圆载台与晶圆载台固定组件相连,螺丝旋钮穿过晶圆载台调节可动组件与晶圆载台固定组件相接触,螺丝旋钮旋转使晶圆载台固定组件上升或下降。
优选,所述设有三个螺丝旋钮,每一个螺丝旋钮下设有一个伺服电机。
进一步优选,所述晶圆载台固定组件下方设有晶圆载台调节可动组件(5),螺丝旋钮穿过晶圆载台调节可动组件。
进一步优选,所述伺服电机设有终端机、控制模块和反馈模块,终端机输入参数传送给控制模块,控制器接收到参数产生控制信号传送给伺服电机,伺服电机根据控制信号得到指定的输出功率及转速使螺丝旋钮产生旋转动作,当晶圆载台固定组件达到终端机输入的参数状态时,反馈模块产生反馈信号将此时的晶圆载台固定组件状态发送给控制模块。
本发明另一方面提供了一种晶圆载台垂直和水平位置的调节方法,利用上述晶圆载台垂直和水平位置的调节装置,包括如下步骤:
1)在终端机输入指令参数,参数下发给控制模块;
2)控制模块接收到指令参数后,指令参数经过控制模块产生控制信号下发给伺服电机;
3)伺服电机接收到控制信号后,根据控制信号输出指定的输出功率及转速使螺丝旋钮产生旋转动作,螺丝旋钮穿过晶圆载台调节可动组件调整晶圆载台固定组件;
4)当晶圆载台固定组件调整至达到终端机输入的参数状态时,反馈模块产生反馈信号将此时的晶圆载台固定组件状态发送给控制模块,同时完成晶圆载台的调节过程。
相对现有技术,本发明具有以下有益效果:
本发明结构节简单、操作方便、安全可靠,通过伺服电机控制晶圆载台垂直和水平角度位置,可满足调整极板间距及位置角度可调,避免了人工通过旋转螺丝调整带来的误差,提高设备利用率,便于工艺开发;
调节过程中,晶圆载台垂直及水平位置可调,进而控制晶圆在真空腔室位置姿态。
附图说明
图1为本发明提供的一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置结构示意图;
图2为本发明提供的一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置调节中的示意图;
图3为本发明提供的一种晶圆载台垂直和水平位置的调节方法流程图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
如图1至2所示,本发明提供了一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置,包括:晶圆载台1、螺丝旋钮2、伺服电机3、晶圆载台固定组件4和晶圆载台调节可动组件5;
其中,晶圆载台1与晶圆载台固定组件4相连,螺丝旋钮2穿过晶圆载台调节可动组件5与晶圆载台固定组件4相接触,螺丝旋钮2旋转使晶圆载台固定组件4上升或下降。
优选,所述设有三个螺丝旋钮2,每一个螺丝旋钮2下设有一个伺服电机3,每一个伺服电机3对应控制一个螺丝旋钮2。
进一步优选,所述晶圆载台固定组件4下方设有晶圆载台调节可动组件5,螺丝旋钮2穿过晶圆载台调节可动组件5。
进一步优选,所述伺服电机3设有终端机6、控制模块7和反馈模块8,终端机6输入参数传送给控制模块7,控制器接收到参数产生控制信号传送给伺服电机3,伺服电机3根据控制信号得到指定的输出功率及转速使螺丝旋钮2产生旋转动作,当晶圆载台固定组件4达到终端机输入的参数状态时,反馈模块8产生反馈信号将此时的晶圆载台固定组件4状态发送给控制模块7。
本发明还提供了一种应用上述晶圆载台垂直和水平位置的调节装置的调节方法,包括以下步骤:
1)在终端机6输入指令参数,参数下发给控制模块7;
2)控制模块7接收到指令参数后,指令参数经过控制模块7产生控制信号下发给伺服电机3;
3)伺服电机3接收到控制信号后,根据控制信号输出指定的输出功率及转速使螺丝旋钮2产生旋转动作,螺丝旋钮2穿过晶圆载台调节可动组件5调整晶圆载台固定组件4;
4)当晶圆载台固定组件4调整至达到终端机输入的参数状态时,反馈模块2产生反馈信号将此时的晶圆载台固定组件4状态发送给控制模块7,同时完成晶圆载台1的调节过程。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后,将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本发明的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是,本发明并不局限于上面已经描述的内容,可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (5)
1.一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置,其特征在于,包括:晶圆载台(1)、螺丝旋钮(2)、伺服电机(3)、晶圆载台固定组件(4)和晶圆载台调节可动组件(5);
其中,晶圆载台(1)与晶圆载台固定组件(4)相连,螺丝旋钮(2)穿过晶圆载台调节可动组件(5)与晶圆载台固定组件(4)相接触,螺丝旋钮(2)旋转使晶圆载台固定组件(4)上升或下降。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置,其特征在于,所述设有三个螺丝旋钮(2),每一个螺丝旋钮(2)下设有一个伺服电机(3)。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置,其特征在于,所述晶圆载台固定组件(4)下方设有晶圆载台调节可动组件(5),螺丝旋钮(2)穿过晶圆载台调节可动组件(5)。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置,其特征在于,所述伺服电机(3)设有终端机(6)、控制模块(7)和反馈模块(8),终端机(6)输入参数传送给控制模块(7),控制器接收到参数产生控制信号传送给伺服电机(3),伺服电机(3)根据控制信号得到指定的输出功率及转速使螺丝旋钮(2)产生旋转动作,当晶圆载台固定组件(4)达到终端机输入的参数状态时,反馈模块(8)产生反馈信号将此时的晶圆载台固定组件(4)状态发送给控制模块(7)。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆载台垂直和水平位置的调节方法,其特征在于,利用权利要求1至4中的任一项所述的晶圆载台垂直及水平位置的调节装置,包括如下步骤:
1)在终端机(6)输入指令参数,参数下发给控制模块(7);
2)控制模块(7)接收到指令参数后,指令参数经过控制模块(7)产生控制信号下发给伺服电机(3);
3)伺服电机(3)接收到控制信号后,根据控制信号输出指定的输出功率及转速使螺丝旋钮(2)产生旋转动作,螺丝旋钮(2)穿过晶圆载台调节可动组件(5)调整晶圆载台固定组件(4);
4)当晶圆载台固定组件(4)调整至达到终端机输入的参数状态时,反馈模块(2)产生反馈信号将此时的晶圆载台固定组件(4)状态发送给控制模块(7),同时完成晶圆载台(1)的调节过程。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110622499.XA CN113488428A (zh) | 2021-06-04 | 2021-06-04 | 一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110622499.XA CN113488428A (zh) | 2021-06-04 | 2021-06-04 | 一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113488428A true CN113488428A (zh) | 2021-10-08 |
Family
ID=77934653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110622499.XA Pending CN113488428A (zh) | 2021-06-04 | 2021-06-04 | 一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113488428A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117248195A (zh) * | 2023-11-15 | 2023-12-19 | 无锡尚积半导体科技有限公司 | Cvd晶圆水平调节机构 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030016903A (ko) * | 2001-08-23 | 2003-03-03 | 삼성전자주식회사 | 노광 설비의 웨이퍼 스테이지 |
US20040244694A1 (en) * | 2001-01-10 | 2004-12-09 | Daisuke Hayashi | Processing unit and processing method |
CN209822594U (zh) * | 2019-04-16 | 2019-12-20 | 长鑫存储技术有限公司 | 晶圆加热装置 |
-
2021
- 2021-06-04 CN CN202110622499.XA patent/CN113488428A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040244694A1 (en) * | 2001-01-10 | 2004-12-09 | Daisuke Hayashi | Processing unit and processing method |
KR20030016903A (ko) * | 2001-08-23 | 2003-03-03 | 삼성전자주식회사 | 노광 설비의 웨이퍼 스테이지 |
CN209822594U (zh) * | 2019-04-16 | 2019-12-20 | 长鑫存储技术有限公司 | 晶圆加热装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117248195A (zh) * | 2023-11-15 | 2023-12-19 | 无锡尚积半导体科技有限公司 | Cvd晶圆水平调节机构 |
CN117248195B (zh) * | 2023-11-15 | 2024-04-12 | 无锡尚积半导体科技有限公司 | Cvd晶圆水平调节机构 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105429551B (zh) | 一种伺服系统电流环控制参数自整定方法 | |
CN113488428A (zh) | 一种晶圆载台垂直和水平位置的调节装置及其调节方法 | |
CN201470805U (zh) | 铆接机 | |
US20100262289A1 (en) | Device utilizing a pid controller,control method thereof, and robot utilizing the controller | |
CN104875101B (zh) | 抛光方法及系统 | |
CN1219663A (zh) | 电动气动定位装置 | |
CN112255991B (zh) | 一种远程监控式炭黑母粒生产制备控制系统及其方法 | |
CN103414418B (zh) | 一种直流电机电流pi控制系统的控制方法 | |
US11086281B2 (en) | Method and apparatus for online simulation of complex motion systems | |
CN109245623A (zh) | 话筒同步升降的方法和系统 | |
EP3879690A3 (en) | Control apparatus for motor | |
CN116819946A (zh) | 半导体设备的实时控压系统、半导体设备和控制方法 | |
CN116095939A (zh) | 用于降低大束流回旋加速器高频功率反射的装置和方法 | |
CN112193900A (zh) | 一种伺服驱动张力辊的微张力控制系统及方法 | |
CN111123828A (zh) | 一种自动同步控制系统及其控制方法 | |
CN116938051B (zh) | 一种高精度智能恒转速源及其实现方法 | |
CN109622773A (zh) | 一种模高指示器、冲压机床的装模高度调整系统及方法 | |
CN220455724U (zh) | 一种加热盘控温系统及半导体设备 | |
CN207891257U (zh) | 一种跟踪控制装置和冷却控制系统 | |
KR101141334B1 (ko) | 이송 장치 및 그 제어 방법 | |
CN210295389U (zh) | 封边机调试的设备和系统 | |
CN115821227A (zh) | Cvd设备的上盖平衡调节系统及其平衡调节方法 | |
CN213298979U (zh) | 一种微波等离子体设备自动控压装置 | |
CN112983726B (zh) | 调速器比例阀振荡电流大小整定方法 | |
CN110441042B (zh) | 一种heps-tf高精度支架锁紧力校准系统及方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |