CN113467101A - 一种双渐进镜片及其制备方法 - Google Patents

一种双渐进镜片及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种双渐进镜片及其制备方法，双渐进镜片包括基片，以眼睛的上方为上，则所述基片的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层，所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合，所述基片的内表面设置内增透薄膜层，其中，所述渐进高反射薄膜层包含11层膜层，所述外增透薄膜层和所述内增透薄膜层皆包括7层膜层。本发明通过渐进高反射薄膜层和增透薄膜层配合，利用光学薄膜的反射及增透原理，镜片上方反射大部分的强光和散射光，减轻这部分光源对视线物体的干扰，镜片下方增加透视率，从而提升可视物体的清晰度。

Description

一种双渐进镜片及其制备方法
技术领域
本发明涉及镜片技术领域，尤其是一种双渐进镜片及其制备方法。
背景技术
眼镜不仅可以保护眼睛，还能起到美观的作用。在实际的生活环境中的太阳光、强灯灯光、车灯灯光等一系列光源时刻威胁着我们人类的眼睛。为了保护眼睛，需要镜片能够反射一定波长范围的光线。
渐进镜片是一种既能看远又可以兼顾看近的镜片。渐进片上设计两个主要光度区：上方较大范围是看远的区域；下方中间偏鼻侧为看近的区域；看远的区域与看近的区域通过过渡区完成视像的连续性。现有的渐进镜片是在镜片的上方设定一定的渐进位置比沉积一层高折射率薄膜材料，这样的镜片反射率在20％左右，镜片下方一般不沉积薄膜层，镜片的透光率在92％左右，还原可视物体的清晰度很差，长久使用眼镜伤害眼睛。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有的渐进镜片存在的不足，提供一种双渐进镜片，包括基片，定义所述双渐进镜片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，眼睛的上方为上，则所述基片的外表面上方设置渐进高反射薄膜层，外表面下方设置外增透薄膜层，所述基片的内表面设置内增透薄膜层。
所述渐进高反射薄膜层包括与所述基片外表面相连的L1膜层，所述L1膜层为打底层，所述打底层的外表面依次层叠L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11膜层，其中，L2、L4、L6、L8、L10膜层为高折射率薄膜层；L3、L5、L7、L9、L11膜层为低折射率薄膜层。
所述外增透薄膜层包括与所述基片内表面相连的N1、N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1、N3、N5、N7膜层为低折射率薄膜层；N2、N4、N6膜层为高折射率薄膜层。
所述内增透薄膜层包括与所述基片内表面相连的M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层。
所述渐进高反射薄膜层、所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层中的低折射率薄膜层的折射率为1.3-1.5，高折射率薄膜层的折射率为1.9-2.5，该镜片的设计思路是：在镜片上方通过渐进高反射薄膜层反射大部分的强光和散射光，减轻这部分光源对视线物体的干扰，在镜片下方通过增透薄膜层配合内增透薄膜层来增加透视率，提升可视物体的清晰度。
具体方案如下：
一种双渐进镜片，包括基片，定义所述双渐进镜片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，以眼睛的上方为上，则所述基片的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层，所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合，所述基片的内表面设置内增透薄膜层；其中，
所述渐进高反射薄膜层包括与所述基片外表面相连的L1膜层，所述L1膜层为打底层，所述打底层的外表面依次层叠L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11膜层，其中，L2、L4、L6、L8、L10膜层为高折射率薄膜层；L3、L5、L7、L9、L11膜层为低折射率薄膜层；
所述外增透薄膜层包括与所述基片外表面相连的N1膜层，所述N1膜层表面依次层叠N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1、N3、N5、N7膜层为低折射率薄膜层；N2、N4、N6膜层为高折射率薄膜层；
所述内增透薄膜层包括与所述基片内表面相连的M1膜层，所述M1膜层表面依次层叠M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层；
所述渐进高反射薄膜层、所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层中的低折射率薄膜层的折射率为1.3-1.5，高折射率薄膜层的折射率为1.9-2.5。
进一步的，所述基片为PC基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。
进一步的，所述L1膜层的厚度为800-3000埃，材料为SiO2或真空镀膜材料L5。
进一步的，所述渐进高反射薄膜层中，L2、L4、L6、L8、L10膜层的厚度为200-1000埃，L3、L5、L7、L9、L11膜层的厚度为300-1500埃。
进一步的，所述外增透薄膜层中，N1、N3、N5、N7膜层的厚度为100-1100埃，N2、N4、N6膜层的厚度为100-800埃；
任选的，所述内增透薄膜层中，M1、M3、M5、M7膜层的厚度为100-1100埃，M2、M4、M6膜层的厚度为100-800埃。
进一步的，所述高折射率薄膜层为过渡金属的化合物，优选为钛和镧的化合物H4；所述低折射率薄膜层为SiO2、真空镀膜材料L5中的任意一种形成的膜层。
进一步的，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为5.5-6:4-4.5；所述外增透薄膜层的渐进位置比为5-5.5:4.5-5。
进一步的，还包括位于所述双渐进镜片最外层的防水层，所述防水层的厚度为100-600埃。
进一步的，所述双渐进镜片中，所述渐进高反射薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率大于50％，所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率小于1％。
本发明还提供所述双渐进镜片的制备方法，包括以下步骤：S1、将基片清洗干净后烘干，得到洁净基片；
S2、将洁净基片摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000041
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片内表面形成所述内增透薄膜层；
S3、将S2镀膜好后的基片按渐进位置比摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000042
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片外表面上方形成所述渐进高反射薄膜层；
S4、将S3镀膜好后的基片按渐进位置比摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000043
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片外表面下方形成所述外增透薄膜层；
上述步骤中S2、S3、S4的顺序任意排列；
可选的，还包括最后形成防水层，将镀膜好后的基片摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000051
采用防水薄膜材料，在基片最外层形成防水层。
有益效果：
本发明所述双渐进镜片，在基片外表面上方设置渐进高反射薄膜层，在可见光波长400-750nm平均反射率大于50％，下方设置外增透薄膜层，在可见光波长400-750nm平均反射率小于1％。
本发明所述双渐进镜片，内增透薄膜层与外增透薄膜层配合，可以使得镜片下方透视率由92％提升到98％以上，很好的提升可视问题的清晰度。
总之，通过反射率的递减变化可以有效的保护佩戴者的眼睛，同时因厚度差异基片表面颜色渐变效果明显非常贴合镜片的时尚效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1是本发明一个实施例提供的镜片结构示意图；
图2是本发明一个实施例提供的镜片下方增透薄膜层的反射光谱图；
图3是本发明一个实施例提供的镜片渐进高反射薄膜层的反射光谱图；
图4是本发明一个实施例提供的镜片下方增透薄膜层的透射光谱图。
具体实施方式
下面给出本发明中使用的部分术语的定义，其他未述及的术语具有本领域所公知的定义和含义：
渐进位置：基片同一表面成膜位置
渐进位置比：基片同一表面成膜位置和没有成膜位置的比例
渐进高反射薄膜层：增加基片反射率的若干组合薄膜层
增透薄膜层：增加基片透光率的若干薄膜层
H4：为德国默克公司开发的真空光学镀膜材料，产品型号为H4
下面将更详细地描述本发明的优选实施方式。虽然以下描述了本发明的优选实施方式，然而应该理解，可以以各种形式实现本发明而不应被这里阐述的实施方式所限制。实施例中未注明具体技术或条件者，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。在下面的实施例中，如未明确说明，“％”均指重量百分比。
实施例1
一种双渐进镜片，如图1所示，包括PC基片0，定义所述双渐进镜片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，眼睛的上方为上，则所述基片0的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层，所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合，所述基片的内表面设置内增透薄膜层；其中，
所述渐进高反射薄膜层包括与所述基片外表面相连的L1膜层，所述L1膜层为打底层，所述打底层的外表面依次层叠L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11膜层，其中，L2、L4、L6、L8、L10膜层为高折射率薄膜层；L3、L5、L7、L9、L11膜层为低折射率薄膜层；
所述外增透薄膜层包括与所述基片外表面相连的N1膜层，所述N1膜层表面依次层叠N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1、N3、N5、N7膜层为低折射率薄膜层；N2、N4、N6膜层为高折射率薄膜层；
所述内增透薄膜层包括与所述基片内表面相连的M1膜层，所述M1膜层表面依次层叠M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层。
具体的，所述渐进高反射薄膜层中，所述L1膜层与所述基片外表面相连，为二氧化硅层，厚度为2400埃。L2、L4、L6、L8、L10膜层为钛和镧的化合物H4，L2、L4、L6、L8、L10膜层的厚度依次为350埃、450埃、600埃、650埃和700埃；L3、L5、L7、L9、L11膜层为二氧化硅层，厚度依次为700埃、900埃、1100埃、1300埃和700埃。
所述外增透薄膜层包括依次相连的N1、N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1膜层与所述基片内表面相连，N1、N3、N5、N7膜层为二氧化硅层，厚度分别为300埃、350埃、150埃和950埃；N2、N4、N6膜层为钛和镧的化合物H4，N2、N4、N6膜层的厚度为250埃、600埃和500埃。
所述内增透膜层包括依次层叠M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层，为二氧化硅层，厚度分别为300埃、350埃、150埃和950埃；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层，为钛和镧的化合物H4，M2、M4、M6膜层的厚度分别为250埃、600埃和500埃。
上述镜片采用真空离子镀膜技术进行制备，镀膜技术采用现有方式逐层镀膜，需要注意的是，在制备时，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为6:4，外增透膜层的渐进位置比为5:5，三类膜层的形成顺序可以任意排列，从而得到双渐进镜片。
通过日本HITACHI分光光度计U-3900H对上述双渐进镜片进行光谱检测，测试镜片上方的高反射薄膜层的光谱图3，测试镜片下方的增透薄膜层的反射光谱图2，通过日本HITACHI分光光度计U-2900测试镜片下方的增透薄膜层的透光率光谱图4。
实施例2
制备双渐进镜片，各膜层设计参照实施例1，具体包括以下步骤：
S1、将基片清洗干净后烘干，得到洁净基片；
S2、将洁净基片摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000081
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片内表面形成所述内增透薄膜层；
S3、将S2镀膜好后的基片按渐进位置比摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000083
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片外表面上方形成所述渐进高反射薄膜层；
S4、将S3镀膜好后的基片按渐进位置比摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000082
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片外表面下方形成所述外增透薄膜层；
上述步骤中S2、S3、S4的顺序任意排列，镀膜材料同实施例1。为了增强镜片的防水效果，可选的，还包括最后形成防水层，将镀膜好后的基片摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure BDA0003184272720000091
采用防水薄膜材料，在基片最外层形成防水层。防水层的厚度优选为100-600埃。
实施例3
一种双渐进镜片，包括玻璃基片0，定义所述双渐进镜片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，眼睛的上方为上，则所述基片0的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层，所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合，所述基片的内表面设置内增透薄膜层；其中，
所述渐进高反射薄膜层包括与所述基片外表面相连的L1膜层，所述L1膜层为打底层，所述打底层的外表面依次层叠L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11膜层，其中，L2、L4、L6、L8、L10膜层为高折射率薄膜层；L3、L5、L7、L9、L11膜层为低折射率薄膜层；
所述外增透薄膜层包括与所述基片外表面相连的N1膜层，所述N1膜层表面依次层叠N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1、N3、N5、N7膜层为低折射率薄膜层；N2、N4、N6膜层为高折射率薄膜层；
所述内增透薄膜层包括与所述基片内表面相连的M1膜层，所述M1膜层表面依次层叠M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层。
具体的，所述渐进高反射薄膜层中，所述L1膜层与所述基片外表面相连，为真空镀膜材料L5，厚度为3000埃。L2、L4、L6、L8、L10膜层为钛和镧的化合物H4，L2、L4、L6、L8、L10膜层的厚度依次为450埃、550埃、650埃、700埃和800埃；L3、L5、L7、L9、L11膜层为真空镀膜材料L5，厚度依次为800埃、1000埃、1200埃、1400埃和800埃。
所述外增透薄膜层包括依次相连的N1、N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1膜层与所述基片内表面相连，N1、N3、N5、N7膜层为二氧化硅层，厚度分别为350埃、390埃、250埃和900埃；N2、N4、N6膜层为钛和镧的化合物H4，N2、N4、N6膜层的厚度为300埃、550埃和600埃。
所述内增透膜层包括依次层叠M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层，为真空镀膜材料L5，厚度分别为350埃、390埃、250埃和900埃；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层，为钛和镧的化合物H4，M2、M4、M6膜层的厚度分别为300埃、550埃和600埃。
上述镜片采用真空离子镀膜技术进行制备，镀膜技术采用现有方式逐层镀膜，需要注意的是，在制备时，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为5.5:4.5，外增透膜层的渐进位置比为5:5，三类膜层的形成顺序可以任意排列，从而得到双渐进镜片。
通过光谱检测，该双渐进镜片中，所述渐进高反射薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率大于50％，所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率小于1％。
实施例4
一种双渐进镜片，如图1所示，包括尼龙基片0，定义所述双渐进镜片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，眼睛的上方为上，则所述基片0的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层，所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合，所述基片的内表面设置内增透薄膜层；其中，
所述渐进高反射薄膜层包括与所述基片外表面相连的L1膜层，所述L1膜层为打底层，所述打底层的外表面依次层叠L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11膜层，其中，L2、L4、L6、L8、L10膜层为高折射率薄膜层；L3、L5、L7、L9、L11膜层为低折射率薄膜层；
所述外增透薄膜层包括与所述基片外表面相连的N1膜层，所述N1膜层表面依次层叠N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1、N3、N5、N7膜层为低折射率薄膜层；N2、N4、N6膜层为高折射率薄膜层；
所述内增透薄膜层包括与所述基片内表面相连的M1膜层，所述M1膜层表面依次层叠M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层。
具体的，所述渐进高反射薄膜层中，所述L1膜层与所述基片外表面相连，为二氧化硅层，厚度为1000埃。L2、L4、L6、L8、L10膜层为钛和镧的化合物H4，L2、L4、L6、L8、L10膜层的厚度依次为450埃、550埃、700埃、850埃和900埃；L3、L5、L7、L9、L11膜层为二氧化硅层，厚度依次为600埃、700埃、800埃、1000埃和1100埃。
所述外增透薄膜层包括依次相连的N1、N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1膜层与所述基片内表面相连，N1、N3、N5、N7膜层为二氧化硅层，厚度分别为200埃、300埃、350埃和850埃；N2、N4、N6膜层为钛和镧的化合物H4，N2、N4、N6膜层的厚度为150埃、450埃和700埃。
所述内增透膜层包括依次层叠M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层，为二氧化硅层，厚度分别为200埃、300埃、350埃和850埃；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层，为钛和镧的化合物H4，M2、M4、M6膜层的厚度分别为150埃、450埃和700埃。
上述镜片采用真空离子镀膜技术进行制备，镀膜技术采用现有方式逐层镀膜，需要注意的是，在制备时，所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为6:4，外增透膜层的渐进位置比为5.5:4.5，三类膜层的形成顺序可以任意排列，从而得到双渐进镜片。
通过光谱检测，该双渐进镜片中，所述渐进高反射薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率大于50％，所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率小于1％。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (10)

1.一种双渐进镜片，包括基片，其特征在于：定义所述双渐进镜片在佩戴状态下远离眼睛的一面为外，以眼睛的上方为上，则所述基片的外表面设置位于上方的渐进高反射薄膜层和位于下方的外增透薄膜层，所述渐进高反射薄膜层的下边缘与所述外增透薄膜层的上边缘重合，所述基片的内表面设置内增透薄膜层；其中，
所述渐进高反射薄膜层包括与所述基片外表面相连的L1膜层，所述L1膜层为打底层，所述打底层的外表面依次层叠L2、L3、L4、L5、L6、L7、L8、L9、L10、L11膜层，其中，L2、L4、L6、L8、L10膜层为高折射率薄膜层；L3、L5、L7、L9、L11膜层为低折射率薄膜层；
所述外增透薄膜层包括与所述基片外表面相连的N1膜层，所述N1膜层表面依次层叠N2、N3、N4、N5、N6、N7膜层，其中，N1、N3、N5、N7膜层为低折射率薄膜层；N2、N4、N6膜层为高折射率薄膜层；
所述内增透薄膜层包括与所述基片内表面相连的M1膜层，所述M1膜层表面依次层叠M2、M3、M4、M5、M6、M7膜层，其中，M1、M3、M5、M7膜层为低折射率薄膜层；M2、M4、M6膜层为高折射率薄膜层；
所述渐进高反射薄膜层、所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层中的低折射率薄膜层的折射率为1.3-1.5，高折射率薄膜层的折射率为1.9-2.5。
2.根据权利要求1所述双渐进镜片，其特征在于：所述基片为PC基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。
3.根据权利要求1所述双渐进镜片，其特征在于：所述L1膜层的厚度为800-3000埃，材料为SiO2或真空镀膜材料L5。
4.根据权利要求1所述双渐进镜片，其特征在于：所述渐进高反射薄膜层中，L2、L4、L6、L8、L10膜层的厚度为200-1000埃，L3、L5、L7、L9、L11膜层的厚度为300-1500埃。
5.根据权利要求1所述双渐进镜片，其特征在于：所述外增透薄膜层中，N1、N3、N5、N7膜层的厚度为100-1100埃，N2、N4、N6膜层的厚度为100-800埃；
任选的，所述内增透薄膜层中，M1、M3、M5、M7膜层的厚度为100-1100埃，M2、M4、M6膜层的厚度为100-800埃。
6.根据权利要求1-5中任一项所述双渐进镜片，其特征在于：所述高折射率薄膜层为过渡金属的化合物，优选为钛和镧的化合物H4；所述低折射率薄膜层为SiO2、真空镀膜材料L5中的任意一种形成的膜层。
7.根据权利要求1-5中任一项所述双渐进镜片，其特征在于：所述渐进高反射薄膜层的渐进位置比为5.5-6:4-4.5；所述外增透薄膜层的渐进位置比为5-5.5:4.5-5。
8.根据权利要求1-5中任一项所述双渐进镜片，其特征在于：还包括位于所述双渐进镜片最外层的防水层，所述防水层的厚度为100-600埃。
9.根据权利要求1-5中任一项所述双渐进镜片，其特征在于：所述双渐进镜片中，所述渐进高反射薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率大于50％，所述内增透薄膜层和所述外增透薄膜层在波长400-750nm形成平均反射率小于1％。
10.一种权利要求1-9中任一项所述双渐进镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、将基片清洗干净后烘干，得到洁净基片；
S2、将洁净基片摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure FDA0003184272710000021
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片内表面形成所述内增透薄膜层；
S3、将S2镀膜好后的基片按渐进位置比摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure FDA0003184272710000032
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片外表面上方形成所述渐进高反射薄膜层；
S4、将S3镀膜好后的基片按渐进位置比摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure FDA0003184272710000033
采用电子枪依次轰击膜材，依次在基片外表面下方形成所述外增透薄膜层；
上述步骤中S2、S3、S4的顺序任意排列；
可选的，还包括最后形成防水层，将镀膜好后的基片摆放在治具上，送入真空镀膜腔室中并抽真空，当真空腔室内真空度达到3*10-5Torr以下时，开启离子源，对基片进行表面清洗，当真空腔室内真空度达到1.5*10-5Torr以下时，将蒸镀速率控制在
Figure FDA0003184272710000031
采用防水薄膜材料，在基片最外层形成防水层。
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