CN113403600A - 一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质 - Google Patents

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CN113403600A CN202110659680.8A CN202110659680A CN113403600A CN 113403600 A CN113403600 A CN 113403600A CN 202110659680 A CN202110659680 A CN 202110659680A CN 113403600 A CN113403600 A CN 113403600A
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张少华
黄颖
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杜彦廷
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余光辉
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艾发智
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Abstract

本发明实施例公开了一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质,涉及低辐射镀膜玻璃制造技术领域。所述镀膜设备靶位的功率调整方法:包括实时获取玻璃距靶位的距离;判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值;若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第一功率值;若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第二功率值;其中,第二功率值小于第一功率值。本发明能够避免能量浪费,更节能;进一步地,无需人工调整,节省人力;进一步地,功率调整控制精准,产品质量好。

Description

一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质
技术领域
本发明涉及低辐射镀膜玻璃制造技术领域,尤其涉及一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质。
背景技术
外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分,占建筑物能耗的50%以上。有关研究资料表明,玻璃内表面的传热以辐射为主,占58%,这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失,最有效的方法是抑制其内表面的辐射。普通浮法玻璃的辐射率高达0.84,当镀上一层以银为基础的低辐射薄膜后,其辐射率可降至0.1以下。随着低碳经济的发展,镀膜低辐射玻璃已成为建筑玻璃市场的主流。
由于不同设备、不同环境对镀膜玻璃的性能有很大的影响,每生产一种镀膜玻璃都要根据当时生产情况对产品根据产品的工作参数进行微调,使生产出的产品性能满足客户要求。镀膜线调片时,一锅只能放一片玻璃。这就造成很多靶位没有玻璃,在空烧,很浪费电能和靶材。现有技术通过人工调整靶位功率,耗费人力,控制精准度差,导致产品质量差。
发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题是现有镀膜设备电能浪费严重的问题。
为了解决上述问题,本发明实施例提出如下技术方案:
第一方面,本发明实施例提出一种镀膜设备靶位的功率调整方法,包括:
实时获取玻璃距靶位的距离;
判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值;
若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第一功率值;
若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第二功率值;
其中,第二功率值小于第一功率值。
其进一步的技术方案为,所述实时获取玻璃距靶位的距离,包括:
检测玻璃是否到达镀膜室的入口;
若检测到玻璃到达镀膜室的入口,开始记录玻璃的传输时间;
根据玻璃的运输时间以及传输速度计算玻璃距镀膜室的入口的距离;
根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离。
其进一步的技术方案为,所述检测玻璃是否到达镀膜室的入口,包括:
通过传感器检测玻璃是否到达镀膜室的入口。
其进一步的技术方案为,所述根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离,包括:
计算玻璃距镀膜室的入口的距离与靶位距镀膜室的入口的距离的差的绝对值作为玻璃距靶位的距离。
其进一步的技术方案为,所述距离阈值为50-200mm。
第二方面,本发明实施例提出一种镀膜设备靶位的功率调整装置,所述镀膜设备靶位的功率调整装置包括用于执行如第一方面所述的镀膜设备靶位的功率调整方法的单元。
第三方面,本发明实施例提出一种镀膜设备,所述镀膜设备包括控制器、镀膜室及靶位,靶位设于镀膜室内,靶位与控制器连接且受控于控制器,所述控制器用于执行如第一方面所述的镀膜设备靶位的功率调整方法。
其进一步的技术方案为,所述镀膜设备还包括传感器,所述传感器设于镀膜室的入口。
其进一步的技术方案为,所述镀膜设备还包括玻璃传输装置,所述玻璃传输装置依次穿过镀膜室的入口以及出口,所述玻璃传输装置用于传输玻璃。
第四方面,本发明实施例提出一种计算机可读存储介质,所述存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序当被处理器执行时可实现如第一方面所述的镀膜设备靶位的功率调整方法。
与现有技术相比,本发明实施例所能达到的技术效果包括:
通过应用本发明实施例的技术方案,在玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值时,控制靶位的功率为预设的第一功率值(对应于靶位的工作状态);在玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值时,控制靶位的功率为预设的第二功率值(对应于靶位的节能状态);从而能够自动调整靶位的功率,避免能量浪费,更节能;进一步地,无需人工调整,节省人力;进一步地,功率调整控制精准,产品质量好。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提出的一种镀膜设备靶位的功率调整方法的流程示意图;
图2为本发明实施例提出的一种镀膜设备的结构示意图。
附图标记
控制器10、镀膜室20、靶位30、传感器40、玻璃传输装置50、玻璃60以及传输辊51。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,附图中类似的组件标号代表类似的组件。显然,以下将描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应当理解,当在本说明书和所附权利要求书中使用时,术语“包括”和“包含”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在,但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
还应当理解,在此本发明实施例说明书中所使用的术语仅仅是出于描述特定实施例的目的而并不意在限制本发明实施例。如在本发明实施例说明书和所附权利要求书中所使用的那样,除非上下文清楚地指明其它情况,否则单数形式的“一”、“一个”及“该”意在包括复数形式。
参见图1,本发明实施例提出一种镀膜设备靶位的功率调整方法,该方法应用于镀膜设备的控制器中,镀膜设备还包括靶位以及镀膜室,靶位设于镀膜室内。由图1可知,该镀膜设备靶位的功率调整方法包括如下步骤S1-S4。
S1,实时获取玻璃距靶位的距离。
具体实施中,镀膜室内,玻璃在玻璃传输装置的传输下从靶位下部经过时,由靶位给玻璃镀膜。因此,靶位的高度比玻璃高。本实施例中,玻璃距靶位的距离具体是指玻璃距靶位在水平方向的距离。
在一实施例中,以上步骤S1具体包括如下步骤S11-S14。
S11,检测玻璃是否到达镀膜室的入口。
具体实施中,实时检测玻璃是否到达镀膜室的入口。
在一实施例中,通过传感器检测玻璃是否到达镀膜室的入口。具体地,在镀膜室的入口设置传感器,在玻璃到达镀膜室的入口时,可被镀膜室的入口设置传感器检测到。
S12,若检测到玻璃到达镀膜室的入口,开始记录玻璃的传输时间。
具体实施中,若检测到玻璃到达镀膜室的入口,开始记录玻璃的传输时间。传输时间即为玻璃离开镀膜室入口的时间。根据玻璃的传输时间以及玻璃的传输速度可以实时计算玻璃距镀膜室的入口距离。
S13,根据玻璃的运输时间以及传输速度计算玻璃距镀膜室的入口的距离。
具体实施中,玻璃由玻璃传输装置以一定的传输速度移动。在得到了玻璃的传输时间后,根据玻璃的传输时间以及玻璃的传输速度可以实时计算玻璃距镀膜室的入口距离。
具体地,通过以下公式d1=vt计算,其中,d1为玻璃距镀膜室的入口距离,v为传输速度,t为传输时间。
S14,根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离。
具体实施中,预先测量镀膜室内的靶位距离镀膜室的入口的距离(水平方向的距离),然后根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离。
具体地,计算玻璃距镀膜室的入口的距离与靶位距镀膜室的入口的距离的差的绝对值作为玻璃距靶位的距离。
可以理解地,镀膜室内可设有多个靶位,则针对每个靶位均执行本发明实施例提出的一种镀膜设备靶位的功率调整方法。
S2,判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值。
具体实施中,判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值。距离阈值可由本领域技术人员根据玻璃的调试效果进行调整,距离阈值为绝对值,距离阈值需在一合适的范围内,通常设置为50-200mm。
例如,在一实施例中,距离阈值通常设置为80mm。
在一实施例中,距离阈值通常设置为100mm。
在一实施例中,距离阈值通常设置为150mm。
S3,若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第一功率值。
具体实施中,第一功率值对应于靶位的工作状态。
S4,若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第二功率值。
具体实施中,第一功率值对应于靶位的节能(待机)状态。
本发明实施例中,第二功率值小于第一功率值。
通过应用本发明实施例的技术方案,在玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值时,控制靶位的功率为预设的第一功率值(对应于靶位的工作状态);在玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值时,控制靶位的功率为预设的第二功率值(对应于靶位的节能状态);从而能够自动调整靶位的功率,更节能;无需人工调整,节省人力;功率调整控制精准,产品质量好。
本发明实施例提出一种镀膜设备靶位的功率调整装置,包括用于执行上述实施例提出的镀膜设备靶位的功率调整方法的单元。
具体地,所述镀膜设备靶位的功率调整装置包括:
获取单元,用于实时获取玻璃距靶位的距离;
判断单元,用于判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值;
第一控制单元,用于若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第一功率值;
第二控制单元,用于若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第二功率值;
其中,第二功率值小于第一功率值。
在一实施例中,所述实时获取玻璃距靶位的距离,包括:
检测玻璃是否到达镀膜室的入口;
若检测到玻璃到达镀膜室的入口,开始记录玻璃的传输时间;
根据玻璃的运输时间以及传输速度计算玻璃距镀膜室的入口的距离;
根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离。
在一实施例中,所述检测玻璃是否到达镀膜室的入口,包括:
通过传感器检测玻璃是否到达镀膜室的入口。
在一实施例中,所述根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离,包括:
计算玻璃距镀膜室的入口的距离与靶位距镀膜室的入口的距离的差的绝对值作为玻璃距靶位的距离。
在一实施例中,距离阈值为50-200mm。
参见图2,本发明实施例提出一种镀膜设备,所述镀膜设备包括控制器10、镀膜室20及靶位30,靶位30设于镀膜室20内,靶位30与控制器10连接且受控于控制器10,所述控制器10用于执行上述实施例提出的镀膜设备靶位的功率调整方法。镀膜室20可具体为真空镀膜室。
进一步地,所述镀膜设备还包括传感器40,所述传感器40设于镀膜室20的入口。
进一步地,所述镀膜设备还包括玻璃传输装置50,所述玻璃传输装置50依次穿过镀膜室20的入口以及出口,所述玻璃传输装置50用于传输玻璃60。所述玻璃传输装置具体包括多个传输辊51。
本发明实施例提出一种计算机可读存储介质,所述存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序当被处理器(例如,上述实施例提出的镀膜设备的控制器的处理器)执行时可实现上述实施例提出的镀膜设备靶位的功率调整方法。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详细描述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,尚且本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
以上所述,为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到各种等效的修改或替换,这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种镀膜设备靶位的功率调整方法,其特征在于,包括:
实时获取玻璃距靶位的距离;
判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值;
若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第一功率值;
若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值,控制靶位的功率为预设的第二功率值;
其中,第二功率值小于第一功率值。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备靶位的功率调整方法,其特征在于,所述实时获取玻璃距靶位的距离,包括:
检测玻璃是否到达镀膜室的入口;
若检测到玻璃到达镀膜室的入口,开始记录玻璃的传输时间;
根据玻璃的运输时间以及传输速度计算玻璃距镀膜室的入口的距离;
根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备靶位的功率调整方法,其特征在于,所述检测玻璃是否到达镀膜室的入口,包括:
通过传感器检测玻璃是否到达镀膜室的入口。
4.根据权利要求2所述的镀膜设备靶位的功率调整方法,其特征在于,所述根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离,包括:
计算玻璃距镀膜室的入口的距离与靶位距镀膜室的入口的距离的差的绝对值作为玻璃距靶位的距离。
5.根据权利要求1所述的镀膜设备靶位的功率调整方法,其特征在于,所述距离阈值为50-200mm。
6.一种镀膜设备靶位的功率调整装置,其特征在于,包括用于执行如权利要求1-5任一项所述方法的单元。
7.一种镀膜设备,其特征在于,包括控制器、镀膜室及靶位,靶位设于镀膜室内,靶位与控制器连接且受控于控制器,所述控制器用于执行如权利要求1-5任一项所述的方法。
8.根据权利要求7所述的镀膜设备,其特征在于,所述镀膜设备还包括传感器,所述传感器设于镀膜室的入口。
9.根据权利要求7所述的镀膜设备,其特征在于,所述镀膜设备还包括玻璃传输装置,所述玻璃传输装置依次穿过镀膜室的入口以及出口,所述玻璃传输装置用于传输玻璃。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序当被处理器执行时可实现如权利要求1-5任一项所述的方法。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017041337A1 (zh) * 2015-09-08 2017-03-16 广东美的制冷设备有限公司 空调器的控制方法、终端及系统
CN110221630A (zh) * 2019-06-04 2019-09-10 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 一种建筑玻璃镀膜参数自动调整控制系统
CN111020506A (zh) * 2019-12-18 2020-04-17 东南大学 一种基于磁控溅射的在铌酸锂基片上的钛酸锶钡成膜方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017041337A1 (zh) * 2015-09-08 2017-03-16 广东美的制冷设备有限公司 空调器的控制方法、终端及系统
CN110221630A (zh) * 2019-06-04 2019-09-10 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 一种建筑玻璃镀膜参数自动调整控制系统
CN111020506A (zh) * 2019-12-18 2020-04-17 东南大学 一种基于磁控溅射的在铌酸锂基片上的钛酸锶钡成膜方法

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