CN115406489B - 一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统，涉及数字处理技术领域，方法包括：根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息，输入镀膜监测模型中，生成镀膜监测结果；获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；按照镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；通过对目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；根据基材镀膜指标、成膜均匀指标和镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。解决镀膜控制参数的调整精度低的技术问题，达到多维度进行匹配度分析，提高镀膜控制参数的调整精度，同步进行监测预警，实现镀膜加工的智能化监测的技术效果。

Description

一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统

技术领域

本发明涉及数字处理技术领域，具体涉及一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统。

背景技术

镀膜机镀膜就是采用镀膜机，通过镀膜技术，将薄膜镀到基片上。薄膜、基片、基片和薄膜的位置会直接影响到镀膜的质量和性能，如镀铝层的连续性优于银、铜镀膜层，镀层厚度达到0.9nm即可导电，镀层达到30nm时，性能就与固态铝材相同，银镀层小于5nm时不能导电，铜镀层对基材附着力较差且容易被氧化，在镀膜过程中，需要保证附着力的同时，保证成品的性能，以满足成品的使用需求。

常见的，在镀膜机镀膜过程中，通过高清晰度的图像采集设备进行影响采集分析，但监测数据无法直接反馈应用于镀膜操作的偏差调整，在镀膜机镀膜过程，无法保证镀膜全阶段控制参数的有效性，镀膜成品偏差度较大。

现有技术中存在镀膜控制参数的调整精度低的技术问题。

发明内容

本申请通过提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统，解决了镀膜控制参数的调整精度低的技术问题，达到了多维度进行匹配度分析，提高镀膜控制参数的调整精度，同步进行监测预警，实现镀膜加工的智能化监测的技术效果。

鉴于上述问题，本申请提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统。

本申请的第一个方面，提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法，其中，所述方法应用于镀膜机镀膜监测预警系统，所述系统与数据采集装置通信连接，所述方法包括：根据所述数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。

本申请的第二个方面，提供了一种镀膜机镀膜的监测预警系统，其中，所述系统包括：信息获取单元，所述信息获取单元用于根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；信息输入单元，所述信息输入单元用于将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；材料组分获取单元，所述材料组分获取单元用于获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；均匀性分析单元，所述均匀性分析单元用于按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；结构分析单元，所述结构分析单元用于通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；匹配度分析单元，所述匹配度分析单元用于根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；预警信息生成单元，所述预警信息生成单元用于根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。

本申请中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

由于采用了根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息，输入镀膜监测模型中，根据镀膜监测模型，生成镀膜监测结果；获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；按照镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；通过对目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；根据基材镀膜指标、成膜均匀指标和镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。本申请达到了多维度进行匹配度分析，提高镀膜控制参数的调整精度，同步进行监测预警，实现镀膜加工的智能化监测的技术效果。

附图说明

图1为本申请一种镀膜机镀膜的监测预警方法的流程示意图；

图2为本申请一种镀膜机镀膜的监测预警方法的输出镀膜成品质量的流程示意图；

图3为本申请一种镀膜机镀膜的监测预警方法的生成环境预警信息的流程示意图；

图4为本申请一种镀膜机镀膜的监测预警系统的结构示意图。

附图标记说明：信息获取单元11，信息输入单元12，材料组分获取单元13，均匀性分析单元14，结构分析单元15，匹配度分析单元16，预警信息生成单元17。

具体实施方式

本申请通过提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统，解决了镀膜控制参数的调整精度低的技术问题，达到了多维度进行匹配度分析，提高镀膜控制参数的调整精度，同步进行监测预警，实现镀膜加工的智能化监测的技术效果。

实施例一

如图1所示，本申请提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法，其中，所述方法应用于镀膜机镀膜监测预警系统，所述系统与数据采集装置通信连接，所述方法包括：

步骤S100：根据所述数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；

步骤S200：将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；

具体而言，镀膜机镀膜即采用镀膜机将薄膜镀于基片表面，通过对于基片和薄膜的位置匹配程度、贴合检测、气泡检测等实时数据采集，基于偏差的偏离程度进行实时预警，并生成生产的反馈控制参数，进行生产的智能化监测和优化。

具体而言，所述数据采集装置可以是图像采集设备、气泡检测传感器、贴合度检测传感器等多种数据监测采集设备，所述目标基片即被镀膜的晶体本身，通过所述数据采集装置对所述目标基片进行数据采集，获取基片表面信息（表面的材质信息、表面硬度信息等相关基础信息）、基片位置信息（基片位置信息也就是基片的固定位置信息）和基片角度信息（曲面度）；

基于经验数据训练并构建镀膜监测模型，将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息作为输入信息，输入所述镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，输出镀膜监测结果，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标（基材镀膜指标即标识基片自身进行镀膜的适配程度的指标），为后续代入镀膜监测模型，进行基片镀膜适配程度评估提供参考。

基于经验数据训练并构建镀膜监测模型，具体包括：以历史基片表面信息、历史基片位置信息、历史基片角度信息与历史基片镀膜适配程度为训练数据，以bp网络模型为模型基础，将所述训练数据输入bp网络模型的输入端，进行拟合训练，在模型输出趋于稳定后，确定镀膜监测模型。

步骤S300：获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；

步骤S400：按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；

步骤S500：通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；

具体而言，所述镀膜材料组分即薄膜的材料组分，如薄膜柔性指标（曲面镀膜时，薄膜材料的柔性指标是否达标）、薄膜透明度指标（高清镀膜时，薄膜材料的透明度指标是否达标）、薄膜厚度指标（纤薄镀膜时，薄膜材料的厚度指标是否达标）等相关参数指标，获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；

按照所述镀膜材料组分，进行镀膜均匀性分析（所述均匀性分析即分析薄膜上的各个点位的材料组分的指标差异程度，以薄膜厚度指标进行示例性说明，各个点位薄膜厚度的众数为基点，对各个点位薄膜厚度进行指标差异程度评估，如各个点位薄膜厚度为0.03、0.031、0.033、0.027、0.031，进行指标差异程度评估：-0.001、0、0.002、-0.004、0，薄膜厚度均匀指标为-0.001、0、0.002、-0.004、0的平方之和），获取成膜均匀指标，所述成膜均匀指标包括薄膜柔性均匀指标、薄膜透明度均匀指标、薄膜厚度均匀指标；

通过对所述目标镀膜机的基片放置结构（所述基片放置结构即目标镀膜机中用于固定目标基片的构件本身的结构）进行材料稳定性分析（通过元素周期表的位置，材料稳定性分析），获取镀膜稳定指标，为后续进行数据处理提供数据基础。

步骤S600：根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；

步骤S700：根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。

进一步的，输出匹配度分析结果，步骤S600包括：

步骤S610：将所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标输入匹配度分析模型中；

步骤S620：根据所述匹配度分析模型进行分析，获取匹配度数据集，其中，所述匹配度数据集包括所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度；

步骤S630：根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度，输出所述匹配度分析结果。

具体而言，根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；根据所述匹配度分析结果，所述匹配度分析结果包括匹配度满足预设的结果和匹配度不满足预设的结果，当所述匹配度分析结果处于匹配度不满足预设的结果状态时，生成镀膜预警信息，为保证镀膜的监测预警信息的有效性提供支持。

具体而言，设定匹配度分析模型，将所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标作为输入数据，输入匹配度分析模型中；根据所述匹配度分析模型进行分析，对匹配度分析模型输入的对象两两均完成匹配度计算，获取所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度，通过所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度，确定所述匹配度数据集；根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度，输出所述匹配度分析结果，为后续进行代入运算提供参考。

设定匹配度分析模型，具体包括：对匹配度分析模型输入的对象两两均完成匹配度计算，所述匹配度分析结果为目标基片、薄膜与固定目标基片的构件之间相对的匹配度评估结果，简单来说即，固定（固定可以是放置或内嵌）目标基片的构件结构与目标基片本身之间的固定摩擦阻抗的稳定匹配度、目标基片本身材料与镀膜材料的材料匹配度；固定目标基片的构件与镀膜材料的镀膜适配性，为后续进行指标匹配度分析提供模型基础。

进一步的，所述根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息，步骤S700还包括：

步骤S710：获取预设匹配度数据集，包括第一预设匹配度、第二预设匹配度和第三预设匹配度；

步骤S720：根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度分别与所述第一预设匹配度、所述第二预设匹配度和所述第三预设匹配度进行判断，获取判断结果，包括匹配不成功的结果和匹配成功的结果；

步骤S730：若所述判断结果为匹配不成功的结果，生成所述镀膜预警信息。

具体而言，设定预设匹配度数据集（预设数据指标），所述预设匹配度数据集包括第一预设匹配度、第二预设匹配度和第三预设匹配度，获取预设匹配度数据集，根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度分别与所述第一预设匹配度、所述第二预设匹配度和所述第三预设匹配度依次进行判断，获取判断结果，所述判断结果包括匹配不成功的结果和匹配成功的结果，若所述判断结果为匹配不成功的结果，生成所述镀膜预警信息，所述匹配度数据集中，所有的匹配度不满足预设匹配度所对应的指标信息合成所述镀膜预警信息，为保证镀膜预警信息的完整度提供支持。

进一步的，本申请实施例还包括：

步骤S740：若所述基材-成膜匹配度大于等于所述第一预设匹配度、所述成膜-镀膜匹配度大于等于所述第二预设匹配度、且所述基材-镀膜匹配度大于等于所述第三预设匹配度，获取匹配成功的结果；

步骤S750：当处于匹配成功的结果时，对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整。

具体而言，有且仅有的，若所述基材-成膜匹配度大于等于所述第一预设匹配度、所述成膜-镀膜匹配度大于等于所述第二预设匹配度、且所述基材-镀膜匹配度大于等于所述第三预设匹配度，获取匹配成功的结果（3个均满足条件，即匹配成功；任意一项不满足，均不成立，即判断结果处于匹配不成功的结果）；当处于匹配成功的结果时，对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整，为保证镀膜参数指标的精度提供基础。

进一步的，所述对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整，步骤S750包括：

步骤S751：通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测，获取镀膜偏差度；

步骤S752：根据所述镀膜偏差度，获取偏差控制参数；

步骤S753：将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令；

步骤S754：根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整。

具体而言，对镀膜机进行调整，进行镀膜时的偏差控制（如镀膜角度偏离），以满足全阶段的镀膜的适配条件，具体包括：在目标基片完成固定（目标基片固定于固定目标基片的构件）后，开始进行镀膜操作，在进行镀膜操作过程中，对所述目标基片进行镀膜偏差监测（曲面镀膜时，镀膜角度可能发生偏差），获取镀膜偏差度，所述镀膜偏差度即镀膜偏差的百分比；在镀膜偏差度不小于3%后（镀膜偏差太小，控制指令调整精度无法满足，具体可以通过目标镀膜机的调整精度，对应确定镀膜偏差度需要满足的阈值限定），根据所述镀膜偏差度，获取偏差控制参数，所述偏差控制参数即对应调整镀膜偏差度的控制指令调整参数；将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令，所述偏差调整指令包括偏差控制参数；根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差控制调整，为保证镀膜过程全阶段的稳定性提供支持。

进一步的，如图2所示，本申请实施例还包括：

步骤S755：若所述镀膜偏差度处于预设镀膜偏差度阈值中，获取成品检测指令；

步骤S756：根据所述成品检测指令，控制所述数据采集装置对镀膜成品进行成膜贴合度检测和表面气泡检测，以成膜贴合度检测结果和表面气泡检测结果进行计算，输出镀膜成品质量。

具体而言，在完成加工后，需要通过成品的曲面贴合度、气泡大小、气泡数量，进行镀膜成品质量评估，具体包括：所述预设镀膜偏差度阈值为一预设参数指标，通过目标镀膜机的调整精度，获取预设镀膜偏差度阈值，所述预设镀膜偏差度阈值可以设定为小于3%，若所述镀膜偏差度处于预设镀膜偏差度阈值中，获取成品检测指令；在镀膜操作完成后，发生所述成品检测指令至所述数据采集装置，根据所述成品检测指令，控制所述数据采集装置中的贴合度检测传感器、气泡检测传感器，对镀膜成品进行成膜贴合度检测和表面气泡检测，获取成膜贴合度检测结果和表面气泡检测结果，（结合用户需求进行赋权，成膜贴合度要求高的，贴合度权重比与表面气泡权重比可以设定为7:3；成膜表面气泡要求高的，贴合度权重比与表面气泡权重比可以设定为3:7，具体可以结合用户需求对应赋权）对成膜贴合度检测结果和表面气泡检测结果进行加权计算（所述加权计算即成膜贴合度检测结果与贴合度权重比之积加上表面气泡检测结果与表面气泡权重比之积），加权计算输出镀膜成品质量，满足用户质量评估需求的同时，保证镀膜成品质量的稳定性。

进一步的，如图3所示，本申请实施例还包括：

步骤S810：获取所述目标镀膜机的镀膜环境信息；

步骤S820：根据所述镀膜环境信息进行影响因子识别，输出多个影响因子；

步骤S830：以所述多个影响因子，搭建环境自动监测模型；

步骤S840：根据所述环境自动监测模型对所述目标基片的镀膜过程进行环境监测，生成环境预警信息。

具体而言，目标镀膜机所处的环境中的灰尘、气体振动，会对目标镀膜机产生一定的影响，具体包括：获取所述目标镀膜机的镀膜环境信息，所述镀膜环境信息包括灰尘的微粒密度信息、微粒直径信息、气体流向信息、气体振动频率；根据所述镀膜环境信息进行影响因子识别，所述影响因子识别即通过度量准则（所述度量准则即目标镀膜机使用指南中，使用环境相关的规范性准则），对镀膜环境信息进行度量，确定镀膜环境信息对应的多个影响因子；将所述多个影响因子确定为环境自动监测模型的检测规范，搭建环境自动监测模型，所述环境自动监测模型即环境监测装置的环境监测控制模型，环境自动监测模型的自动检测频率可以通过检测指标变化速率进行确定，环境自动监测模型可以对所述多个影响因子对应的镀膜环境信息进行自动检测，实现镀膜环境信息的同步更新；在所述目标基片的镀膜过程中，根据所述环境自动监测模型，对所述目标基片进行加工环境监测，在镀膜环境信息更新后，获取第一镀膜环境信息，通过度量准则，对第一镀膜环境信息进行度量，若不满足目标镀膜机使用指南中的规范性准则，生成环境预警信息，所述环境预警信息包括第一镀膜环境信息，为保证目标镀膜机使用环境的合理性提供基础。

综上所述，本申请所提供的一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统具有如下技术效果：

由于采用了根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息，输入镀膜监测模型中，根据镀膜监测模型，生成镀膜监测结果；获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；按照镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；通过对目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；根据基材镀膜指标、成膜均匀指标和镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果，生成镀膜预警信息，本申请通过提供了一种镀膜机镀膜的监测预警方法及系统，达到了多维度进行匹配度分析，提高镀膜控制参数的调整精度，同步进行监测预警，实现镀膜加工的智能化监测的技术效果。

由于采用了通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测，获取镀膜偏差度，获取偏差控制参数，发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令，对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整，为保证镀膜过程全阶段的稳定性提供支持。

由于采用了获取所述目标镀膜机的镀膜环境信息，进行影响因子识别，输出多个影响因子，搭建环境自动监测模型，对所述目标基片的镀膜过程进行环境监测，生成环境预警信息，为保证目标镀膜机使用环境的合理性提供基础。

实施例二

基于与前述实施例中一种镀膜机镀膜的监测预警方法相同的发明构思，如图4所示，本申请提供了一种镀膜机镀膜的监测预警系统，其中，所述系统包括：

信息获取单元11，所述信息获取单元11用于根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；

信息输入单元12，所述信息输入单元12用于将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；

材料组分获取单元13，所述材料组分获取单元13用于获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；

均匀性分析单元14，所述均匀性分析单元14用于按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；

结构分析单元15，所述结构分析单元15用于通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；

匹配度分析单元16，所述匹配度分析单元16用于根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；

预警信息生成单元17，所述预警信息生成单元17用于根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息。

进一步的，所述系统包括：

指标输入单元，所述指标输入单元用于将所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标输入匹配度分析模型中；

匹配度数据集获取单元，所述匹配度数据集获取单元用于根据所述匹配度分析模型进行分析，获取匹配度数据集，其中，所述匹配度数据集包括所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度；

匹配度分析结果输出单元，所述匹配度分析结果输出单元用于根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度，输出所述匹配度分析结果。

进一步的，所述系统包括：

预设匹配度数据集获取单元，所述预设匹配度数据集获取单元用于获取预设匹配度数据集，包括第一预设匹配度、第二预设匹配度和第三预设匹配度；

判断结果获取单元，所述判断结果获取单元用于根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度分别与所述第一预设匹配度、所述第二预设匹配度和所述第三预设匹配度进行判断，获取判断结果，包括匹配不成功的结果和匹配成功的结果；

镀膜预警信息生成单元，所述镀膜预警信息生成单元用于若所述判断结果为匹配不成功的结果，生成所述镀膜预警信息。

进一步的，所述系统包括：

匹配成功结果获取单元，所述匹配成功结果获取单元用于若所述基材-成膜匹配度大于等于所述第一预设匹配度、所述成膜-镀膜匹配度大于等于所述第二预设匹配度、且所述基材-镀膜匹配度大于等于所述第三预设匹配度，获取匹配成功的结果；

镀膜偏差监测调整单元，所述镀膜偏差监测调整单元用于当处于匹配成功的结果时，对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整。

进一步的，所述系统包括：

镀膜偏差监测单元，所述镀膜偏差监测单元用于通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测，获取镀膜偏差度；

偏差控制参数获取单元，所述偏差控制参数获取单元用于根据所述镀膜偏差度，获取偏差控制参数；

指令下发单元，所述指令下发单元用于将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令；

偏差调整单元，所述偏差调整单元用于根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整。

进一步的，所述系统包括：

镀膜环境信息获取单元，所述镀膜环境信息获取单元用于获取所述目标镀膜机的镀膜环境信息；

影响因子识别单元，所述影响因子识别单元用于根据所述镀膜环境信息进行影响因子识别，输出多个影响因子；

环境自动监测模型搭建单元，所述环境自动监测模型搭建单元用于以所述多个影响因子，搭建环境自动监测模型；

环境监测单元，所述环境监测单元用于根据所述环境自动监测模型对所述目标基片的镀膜过程进行环境监测，生成环境预警信息。

进一步的，所述系统包括：

成品检测指令获取单元，所述成品检测指令获取单元用于若所述镀膜偏差度处于预设镀膜偏差度阈值中，获取成品检测指令；

镀膜成品质量输出单元，所述镀膜成品质量输出单元用于根据所述成品检测指令，控制所述数据采集装置对镀膜成品进行成膜贴合度检测和表面气泡检测，以成膜贴合度检测结果和表面气泡检测结果进行计算，输出镀膜成品质量。

本说明书和附图仅仅是本申请的示例性说明，在不脱离本申请的精神和范围的情况下，可对其进行各种修改和组合。本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请意图包括这些改动和变型在内。

Claims (6)

1.一种镀膜机镀膜的监测预警方法，其特征在于，所述方法应用于镀膜机镀膜监测预警系统，所述系统与数据采集装置通信连接，所述方法包括：

根据所述数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；

将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；

获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；

按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；

通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；

根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；

将所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标输入匹配度分析模型中；

根据所述匹配度分析模型进行分析，获取匹配度数据集，其中，所述匹配度数据集包括所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度；

根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度，输出所述匹配度分析结果；

根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息；

当处于匹配成功的结果时，对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整；

通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测，获取镀膜偏差度；

根据所述镀膜偏差度，获取偏差控制参数；

将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令；

根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息，方法还包括：

获取预设匹配度数据集，包括第一预设匹配度、第二预设匹配度和第三预设匹配度；

根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度分别与所述第一预设匹配度、所述第二预设匹配度和所述第三预设匹配度进行判断，获取判断结果，包括匹配不成功的结果和匹配成功的结果；

若所述判断结果为匹配不成功的结果，生成所述镀膜预警信息。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

若所述基材-成膜匹配度大于等于所述第一预设匹配度、所述成膜-镀膜匹配度大于等于所述第二预设匹配度、且所述基材-镀膜匹配度大于等于所述第三预设匹配度，获取匹配成功的结果。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

获取所述目标镀膜机的镀膜环境信息；

根据所述镀膜环境信息进行影响因子识别，输出多个影响因子；

以所述多个影响因子，搭建环境自动监测模型；

根据所述环境自动监测模型对所述目标基片的镀膜过程进行环境监测，生成环境预警信息。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，方法还包括：

若所述镀膜偏差度处于预设镀膜偏差度阈值中，获取成品检测指令；

根据所述成品检测指令，控制所述数据采集装置对镀膜成品进行成膜贴合度检测和表面气泡检测，以成膜贴合度检测结果和表面气泡检测结果进行计算，输出镀膜成品质量。

6.一种镀膜机镀膜的监测预警系统，其特征在于，所述系统包括：

信息获取单元，所述信息获取单元用于根据数据采集装置，获取目标基片的基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息；

信息输入单元，所述信息输入单元用于将所述基片表面信息、基片位置信息和基片角度信息输入镀膜监测模型中，根据所述镀膜监测模型，生成镀膜监测结果，其中，所述镀膜监测结果为基材镀膜指标；

材料组分获取单元，所述材料组分获取单元用于获取目标镀膜机中用于进行镀膜的镀膜材料组分；

均匀性分析单元，所述均匀性分析单元用于按照所述镀膜材料组分进行镀膜均匀性分析，获取成膜均匀指标；

结构分析单元，所述结构分析单元用于通过对所述目标镀膜机的基片放置结构进行分析，获取镀膜稳定指标；

匹配度分析单元，所述匹配度分析单元用于根据所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标进行匹配度分析，输出匹配度分析结果；

指标输入单元，所述指标输入单元用于将所述基材镀膜指标、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标输入匹配度分析模型中；

匹配度数据集获取单元，所述匹配度数据集获取单元用于根据所述匹配度分析模型进行分析，获取匹配度数据集，其中，所述匹配度数据集包括所述基材镀膜指标与所述成膜均匀指标的基材-成膜匹配度、所述成膜均匀指标和所述镀膜稳定指标的成膜-镀膜匹配度、所述基材镀膜指标和所述镀膜稳定指标的基材-镀膜匹配度；

匹配度分析结果输出单元，所述匹配度分析结果输出单元用于根据所述基材-成膜匹配度、所述成膜-镀膜匹配度和所述基材-镀膜匹配度，输出所述匹配度分析结果；

预警信息生成单元，所述预警信息生成单元用于根据所述匹配度分析结果，生成镀膜预警信息；

镀膜偏差监测调整单元，所述镀膜偏差监测调整单元用于当处于匹配成功的结果时，对所述目标基片进行镀膜偏差监测调整；

镀膜偏差监测单元，所述镀膜偏差监测单元用于通过对所述目标基片进行镀膜偏差监测，获取镀膜偏差度；

偏差控制参数获取单元，所述偏差控制参数获取单元用于根据所述镀膜偏差度，获取偏差控制参数；

指令下发单元，所述指令下发单元用于将所述偏差控制参数发送至所述目标镀膜机的控制系统终端，根据所述目标镀膜机的控制系统终端，下发偏差调整指令；

偏差调整单元，所述偏差调整单元用于根据所述偏差调整指令对所述目标基片的镀膜操作进行偏差调整。

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