CN113391499B - 成像系统 - Google Patents

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Abstract

一种用于拍摄物体的成像系统，包括用于照亮物体的多个光源和多个光学传感器，其中所述多个光源发射光辐射，并且其中所述多个光学传感器被布置成检测从所述物体反射的光辐射。

Description

成像系统
技术领域
本申请涉及用于借助光学传感器来拍摄物体的成像系统。
背景技术
这一小节提供了与本公开相关的背景信息，这些信息并不一定是现有技术。
用于拍摄物体的成像系统具有用于照亮物体的光源和例如用于采集在传送机系统上传送的物体的图像或检测物体上的码的光学传感器。在物流中，成像系统例如用于运输、处置和储存过程，其中物体用传送机来移动。
发明内容
这一小节提供了本公开的大体发明内容，并且不是对其完整范围或其所有特征的详尽公开。
在至少一个实施例中，本公开涉及一种用于拍摄物体的成像系统，包括用于照亮物体的多个光源和多个光学传感器，其中所述多个光源发射光辐射，并且其中所述多个光学传感器被适配成检测从所述物体反射的光辐射。多个光源中的第一光源和第二光源发射具有相同波特性的光辐射。该成像系统还包括被适配成影响波特性的第一滤光器，第一滤光器被布置成使得第一光源和物体之间的光辐射落在第一滤光器上，并且物体和多个传感器中的第一传感器之间的反射光辐射落在第一滤光器上。此外，该成像系统包括被适配成影响波特性的第二滤光器，第二滤光器被布置成使得第二光源和物体之间的光辐射落在第二滤光器上，并且物体和多个传感器中的第二传感器之间的反射光辐射落在第二滤光器，第一滤光器与第二滤光器不同地影响波特性。
在成像系统的至少一个实施例中，提供多个光源中的第三光源，其发射具有与第一光源和第二光源相同的波特性的光辐射，其中提供第三滤光器，其被适配成影响波特性，第三滤光器被布置成使得第三光源和物体之间的光辐射落在第三滤光器上，并且使得物体和多个传感器中的第三传感器之间的反射光辐射落在第三滤光器上，并且其中第三滤光器与第一滤光器和第二滤光器不同地影响波特性。
在成像系统的至少一个实施例中，光辐射的相同波特性是光波长的相同光源波段范围，其中多个光源发射具有光波长的相同光源波段范围的光辐射。多个传感器被适配成检测光波长的光源波段范围上的反射光辐射，其中第一滤光器影响波特性以使得光源波段范围被限制在光波长的第一子波段范围，并且其中所述第二滤光器影响波特性以使得光源波段范围被限制在光波长的第二子波段范围。例如，光波长的第一子波段范围不同于光波长的第二子波段范围，使得避免了归因于具有交叉光路的光波的叠加而导致的过度曝光。光波长的光源波段范围可被划分成第一子波段范围和第二子波段范围，例如以提供大的子波段范围，可能提供大致相等大小的子波段范围。
在成像系统的至少一个实施例中，第三滤光器影响波特性，使得光源波段范围被限制在光波长的第三子波段范围，光波长的第三子波段范围不同于光波长的第一子波段范围和光波长的第二子波段范围。光波长的光源波段范围可被划分成第一子波段范围、第二子波段范围和第三子波段范围，例如以提供大的子波段范围，可能提供大致相等大小的子波段范围。
在成像系统的至少一个实施例中，提供多个镜，其允许光辐射被反射并且因此可以使用现有的安装空间。
在成像系统的至少一个实施例中，该多个镜中的第一镜包括第一滤光器，而该多个镜中的第二镜包括第二滤光器。
在成像系统的至少一个实施例中，多个镜中的第三镜包括第三滤光器。
在成像系统的至少一个实施例中，第一滤光器和第二滤光器各自作为滤光盘来提供。
在成像系统的至少一个实施例中，相同的波特性是不规则取向的横向振荡，其中第一光源和第二光源发射具有该不规则取向的横向振荡的光辐射，并且其中第一传感器和第二传感器被适配成检测具有任意取向的横向振荡的反射光辐射。第一滤光器影响波特性，使得横向振荡被限于第一振荡方向，且第二滤光器影响波特性，使得横向振荡被限于第二振荡方向，其中横向振荡的第一振荡方向不同于横向振荡的第二振荡方向。
通过本文中提供的说明书，进一步的可用性领域将变得显而易见。本发明内容中的描述以及特定示例仅旨在说明的目的，并且不旨在限制本公开的范围。
附图说明
本文中所描述的附图用于仅说明所选实施例而非所有可能的实施方式的目的，并且不旨在限制本公开的范围。
图1示出了用于拍摄物体的成像系统(在物体尚未处于被拍摄的状态下)的实施例；
图2示出了在物体正被拍摄时根据图1的成像系统的实施例；
图3示出在物体正被拍摄时成像系统的另一实施例；
图4示出了成像系统的又一实施例。
在所有附图中，对应附图标记标识对应组件。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施例。尽管术语第一、第二、第三等可以在本文中用于描述各种元素、部件、区域、层和/或部分，但是这些元素、部件、区域、层和/或部分不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于区分诸元素、组件、区域、层或部分。除非上下文明确指出，否则本文中使用的数字术语并不意味着序列或次序。
图1示出了用于拍摄物体2的成像系统。如该示例性实施例中所示，物体2可以在传送机1上在箭头P的方向上移动。拍摄物体2的目的可以是读取物体2上的码3，例如条形码。码3可以位于物体2的任何一侧，并且在物体2的不同侧上可以有多个码3。物体2沿着传送带1上的成像系统被引导。尽管示例性实施例的描述涉及单个物体2，但是成像系统的应用不限于单件货物，还可以用于散装货物的运输、处置和储存过程。
该成像系统具有用于照亮物体2的多个光源6、6'以及多个光学传感器5、5'，该多个光源6、6'发射光辐射9。光学传感器5、5'中的每一者可分别与光源6、6'中的一者相组合以形成拍摄单元4、4'。在示例性实施例中，多个光源6、6'中的第一光源6和第二光源6'发射具有相同波特性的光辐射9。波特性是光波的物理性质。多个光源6、6'的光辐射9在至少一个波特性方面是相同的。多个光源6、6'的光辐射9的光波的若干或全部物理性质也可以相同。例如，多个光源6、6'是相同的，这使得成像系统的结构简单，因为只需要一种类型的光源6、6'。
该成像系统包括第一滤光器8，其被适配成影响波特性，第一滤光器8被布置成使得第一光源6和物体2之间的光辐射9落在第一滤光器8上，使得光辐射9在受第一滤光器8影响之后变成第一经影响光束11。第二滤光器8'也被适配成影响波特性，第二滤光器8'被布置成使得第二光源6'和物体2之间的光辐射9落在第一滤光器8'上，使得光辐射9在受第二滤光器8'影响之后变成第二经影响光束11'。第一滤光器8与第二滤光器8'不同地影响波特性，使得第一经影响光束11在其波特性上与第二经影响光束11'不同。第一光源6的光辐射9的光束路径与第二光源6'的光辐射9的光束路径受第一滤光器8和第二滤光器8'的影响后在拍摄区12中交叉。由于光辐射9在波特性方面受到第一滤光器8和第二滤光器8'的不同影响，因此在拍摄区12中不存在第一经影响光辐射11和第二经影响光辐射11'的叠加。
在所示的示例性实施例中，提供了多个镜7、7'，其中在所描绘的版本中，多个镜中的第一镜7包括第一滤光器8，而多个镜中的第二镜7'包括第二滤光器8'。多个光源6、6'的光辐射9被多个镜7、7'镜面反射，并且由此在波特性方面一方面受第一滤光器8的影响，另一方面受第二滤光器8'的影响。例如，多个镜7、7'在拍摄区12的方向上镜面反射光辐射9。
参考图2，下面描述通过成像系统对物体2的拍摄，成像系统的实施例与图1相同，不再详细描述。物体2是借助传送机1来运送到拍摄区12的。第一光源6的光辐射9被第一镜7在拍摄区12的方向上镜面反射，并且由此在波特性方面受第一滤光器8的影响，使得光辐射9作为第一经影响光辐射11落在物体2上。第二光源6'的光辐射9被第二镜7'在拍摄区12的方向上镜面反射，并且由此在波特性方面受到第二滤光器8'的影响，使得光辐射9作为第二经影响光辐射11'落在物体2上。在物体2的表面上，第一经影响光辐射11和第二经影响光辐射11'被汇流(remit)，也称为漫反射。汇流光辐射在下文中通常称为反射光辐射。在反射光辐射的总量中，下面仅描述具有相关光束路径的那些部分，即归因于漫反射而不能到达光学传感器5、5'之一的部分不再进一步描述。
第一经影响光辐射11由物体2反射，由此第一经影响光辐射11的第一反射部分16到达第一镜7，并且第一经影响光辐射11的第二反射部分16'到达第二镜7'。相应地，第二经影响光辐射11'由物体2反射，由此第二经影响光辐射11'的第一反射部分15'到达第一镜7，并且第二经影响光辐射11'的第二反射部分15'到达第二镜7'。因而，物体2与多个传感器5、5'中的第一传感器5之间的反射光辐射落在第一滤光器8上，并且物体2与多个传感器5、5'中的第二传感器5'之间的反射光辐射落在第二滤光器8'上。
更确切而言，第一经影响光束11的第一反射部分16和第二经影响光束11'的第一反射部分15'落在第一滤光器8上，该第一滤光器8被适配成影响波特性。第一经影响光束11的第一反射部分16已经包括经第一滤光器8影响的波特性，使得其基本上不变地通过第一滤光器8。另一方面，第二经影响光辐射11'的第一反射部分15'不具有经第一滤光器8影响的波特性，因此第二经影响光辐射11'的波特性再次受到第一滤光器8的影响。在实际实现中，取决于所使用的第一滤光器8的类型，第二经影响光束11'的第一反射部分15'被滤除并且没有到达第一传感器5。
相应地，第一经影响光束11的第二反射部分16'和第二经影响光束11'的第二反射部分15落在第二滤光器8'上，该第二滤光器8'被适配成影响波特性。第二经影响光束11'的第二反射部分15已经包括经第二滤光器8'影响的波特性，使得其基本上不变地通过第二滤光器8'。另一方面，第一经影响光辐射11的第二反射部分16'不具有经第二滤光器8'影响的波特性，因此第一经影响光辐射11的波特性再次受到第二滤光器8'的影响。在实际实现中，取决于所使用的第二滤光器8'的类型，第一经影响光束11的第二反射部分16'被滤除并且没有到达第二传感器5'。
多个光学传感器5、5'被适配成检测物体2反射的光辐射。在反射光辐射总量中，第一检测到的部分14到达第一光学传感器5，并且第二检测到的部分14'到达第二光学传感器5'。物体2是借助由多个光学传感器5、5'检测到的反射光辐射的第一和第二部分14、14'来被拍摄的。归因于第一滤光器8和第二滤光器8'的所描述的布置，光辐射9在其通往物体2的途中落在滤光器8、8'之一上。反射光辐射，更确切而言，第一和第二经影响光辐射11、11'的反射第一和第二分量15、15'，16、16'在从物体2回到多个传感器5、5'的相应传感器的途中同样落在相同的第一或第二滤光器8、8'上。这防止由于来自多个光源6、6'的不同光源的光辐射的相交光束路径的叠加而导致的过度曝光。在要检测的反射光辐射的波特性方面，多个传感器5、5'可以相同。有利地，该成像系统不必需被适配成仅检测具有特定波特性的反射光辐射的传感器5、5'。根据一个方面，多个传感器5、5'中的所有传感器都是相同的，这使得成像系统结构简单，因为只需要一种类型的传感器5、5'。
参考图3，描述了成像系统的另一实施例，该实施例是在物体2的拍摄期间示出的。本实施例在多个滤光器10、10'的类型和布置上有所不同，这些滤光器在此作为滤光盘提供。
第一滤光器10被适配成影响波特性，由此第一滤光器10被布置成使得第一光源6和物体2之间的光辐射9落在第一滤光器10上，并且物体2和第一传感器5之间的反射光辐射落在第一滤光器10上。第二滤光器10'被适配成影响波特性，第二滤光器10'被布置成使得第二光源6'和物体2之间的光辐射9落在第二滤光器10'上并且使得物体2和第二传感器5'之间的反射光辐射落在第二滤光器10'上。第一滤光器10与第二滤光器10'不同地影响波特性。归因于多个滤光器10、10'的所描述的布置，光辐射9在到达物体2的途中落在多个滤光器10、10'之一上。反射光辐射在从物体2到多个传感器5、5'中的相应传感器的途中再次落在同一滤光器10、10'上。这防止由来自多个光源6、6'的不同光源的相交光辐射的叠加而导致的过度曝光。在要检测的反射光辐射的波特性方面，多个传感器5、5'可以并非不同。根据一个方面，多个传感器5、5'中的所有传感器都是相同的，这允许成像系统具有简单的结构，因为只需要一种类型的传感器5、5'。
参考图3，下面描述成像系统对物体2的拍摄，其中相同组件具有与图1和2中相同的附图标记并且不再详细描述。关于波特性，第一光源6的光辐射9在波特性方面受第一滤光器10的影响，使得光辐射9变成落在物体2上的第一经影响光辐射11。第二光源6'的光辐射9在波特性方面受第二滤光器10'的影响，使得光辐射9变成落在物体2上的第二经影响光辐射11'。第一经影响光辐射11和第二经影响光辐射11'从物体2漫射反射。第一经影响光束11的第一反射部分16和第二经影响光束11'的第一反射部分15'落在第一滤光器10上，其被适配成影响波特性。第一经影响光束11的第一反射部分16已经包括经第一滤光器10影响的波特性，使得其基本上不变地通过第一滤光器10。另一方面，第二经影响光辐射11'的第一反射部分15'没有经第一滤光器10影响，因此第二经影响光辐射11'的波特性再次受到第一滤光器10的影响。在实际实现中，取决于所使用的第一滤光器10的类型，第二经影响光束11'的第一反射部分15'被滤除并且没有到达第一传感器5。第一经影响光束11的第二反射部分16'和第二经影响光束11'的第二反射部分15落在第二滤光器10'上，其被适配成影响波特性。第二经影响光束11'的第二反射部分15已经包括经第二滤光器10'影响的波特性，使得其基本上不变地通过第二滤光器10'。另一方面，第一经影响光辐射11的第二反射部分16'不具有经第二滤光器10'影响的波特性，使得第二滤光器10'的波特性再次受到第二滤光器8'的影响。在实际实现中，取决于所使用的第二滤光器10'的类型，第一经影响光束11的第二反射部分16'被滤除并且没有到达第二传感器5'。
可任选地，如图所示，光辐射9也可以经由第一镜7和经由第二镜7'在拍摄区12的方向上镜面反射，即使这里的滤光器10、10'的功能独立于多个镜7、7'。光辐射9和反射光辐射(更确切而言，第一和第二经影响光辐射11、11'的经反射的第一和第二部分15、15'、16、16')的镜面反射允许例如成像系统的灵敏和昂贵组件(诸如多个光源6、6'和多个传感器5、5')被布置在保护这些组件免于操作人员或物体2损坏和免于污染的区域中。根据示例性实施例的一方面，作为滤光盘提供的滤光器10、10'直接布置在拍摄单元4、4'处。拍摄单元4、4'应理解为一个集合，每一者分别包括光源6、6'之一和传感器5、5'之一。在适当的情况下，光源6、6'中的每一者被分配给传感器5、5'中的恰好一个。例如，拍摄单元4、4'各自具有用于光源6、6'之一和传感器5、5'之一的公共外壳。例如，拍摄单元4、4'被布置在传送机1的上方和下方，作为替换或补充也被布置在传送机1的侧面。
参考图4，描述了检测系统的另一实施例，其在光源和传感器的数量方面不同于图1中所示的实施例。下面将讨论附加特征，而从图1中已知的特征不再详细描述。该检测系统不限于两个光源6、6'和两个传感器5、5'的布置。相反，可以设想更多光源和传感器，其光束9彼此相交，例如三个、四个、五个或更多，这取决于拍摄的需求和可用的安装空间。在下文中，作为示例将描述具有三个光源6、6'、6”和三个传感器5、5'、5”的实施例。该成像系统具有多个光源中的附加第三光源6”，其发射具有与第一光源6和第二光源6'相同的波特性的光辐射9。例如，第三光源6”位于传送机1上方。第三光源6”的光辐射9的光束与第一光源6和第二光源6”的光辐射9的光束中的至少一者相交。第三滤光器8”被适配成影响波特性，第三滤光器8”按使得光辐射9落在第三光源6”和拍摄区12之间的第三滤光器8”上的方式来布置。在此没有示出反射光辐射，因为没有物体位于拍摄区12中，但是可以理解，在拍摄物体期间反射光辐射在到达第三传感器5”的途中也将再次落在第三滤光器8”上。第三滤光器8”与第一滤光器8和第二滤光器8'不同地影响波特性。在所示的示例性实施例中，提供了多个镜7、7'、7”，由此例如在此第一镜7包括第一滤光器8，第二镜7'包括第二滤光器8'，且第三镜7”包括第三滤光器8”。多个光源6、6'、6”的光辐射9被多个镜7、7'、7”镜面反射，并且由此在波特性方面受第一滤光器8、第二滤光器8'和第三滤光器8”中的相应一个的影响。例如，多个镜7、7'、7”在拍摄区12的方向上镜面反射光辐射9。在此不详细讨论拍摄期间的光束路径，因为这些可以从上述实施例导出。
下面参照上述示例性实施例，关于光辐射的波特性方面，更详细地解释该成像系统。
根据一个方面，光辐射9的相同波特性涉及光波长的相同光源波段范围。多个光源6、6'、6”发射具有光波长的这一相同光源波段范围的光辐射9。光源波段范围包括紫外辐射、可见光和红外辐射中的一者或多者。例如，光源6、6'、6”各自发射白光。例如，多个传感器5、5'、5”被适配成检测在光波长的整个光源波段范围内的反射光辐射。第一滤光器8影响波特性使得光源波段范围被限制在光波长的第一子波段范围内，第二滤光器8'影响波特性使得光源波段范围被限制在光波长的第二子波段范围内，光波长的第一子波段范围不同于光波长的第二子波段范围。在适当的情况下，可将光波长的总光源波段范围划分成第一子波段范围和第二子波段范围。在图4所示的实施例中，第三滤光器8”以光源波段范围被限制在光波长的第三子波段范围的方式来影响波特性，光波长的第三子波段范围不同于光波长的第一子波段范围和光波长的第二子波段范围。例如，光波长的光源波段范围被划分成第一子波段范围、第二子波段范围和第三子波段范围。子波段范围的数目例如对应于光路彼此相交的光源6、6'、6”的数目。子波段范围可按彼此不交叠的方式来被选择，例如以避免归因于光辐射的叠加的过度曝光。子波段范围覆盖光辐射的整个光源波段范围，从而例如启用不限于单一颜色的可见光而是扩展到多种颜色的可见光的诸宽子波段范围。例如，这可被用来检测物体2上的彩色码，其吸收光谱的一部分。被限于吸收光谱的子波段范围将致使拍摄困难或不可能，例如如果用红光拍摄红色码。
相机可以作为传感器5、5'、5”提供，例如线扫描相机。也可以使用矩阵相机。具有滤光器8、8'、8”的镜7、7'、7”被提供，例如具有涂层形式的滤光器，可能是结合到镜7、7'、7”的膜的形式或作为气相沉积涂层。或者，可以提供一个或多个滤光器10、10'作为滤光盘来代替作为第一滤光器8、10、第二滤光器8'、10'和第三滤光器8'(如适用)的涂层的一个或多个滤光器8、8'、8”，如图4中的示例性实施例所示。例如，光谱滤光器被用作第一、第二和第三滤光器8、8'、8”、10、10'，由此光谱滤光器的光波长的带宽被实现为相对于彼此偏移的梳状滤光器。结果，光波长的第一子波段范围相对于光波长的第二子波段范围并且可能相对于光波长的第三子波段范围偏移。或者，使用光学高通滤光器和/或光学低通滤光器是可能的。例如，作为高通滤光器的第一滤光器8、10仅允许从黄色到暗红色的可见光波长通过，并且作为低通滤光器的第二滤光器8'、10'仅允许从蓝色到绿色的可见光波长通过。
另一方面可以在先前描述的每一实施例中实现，并且下面参考根据图1和图2一起的实施例来描述。根据该方面，波特性是指波横向振荡的取向或方向。因而，光辐射9的相同波特性可以是不规则取向的横向振荡，由此多个光源6、6'发射具有不规则取向的横向振荡的光辐射9，即没有偏振、或不规则地偏振。多个传感器5、5'被适配成检测具有在任何方向上的横向振荡的反射光辐射。第一滤光器8、10影响波特性使得横向振荡被限制在第一振荡方向，第二滤光器8'、10'影响波特性使得横向振荡被限制在第二振荡方向，其中横向振荡的第一振荡方向不同于横向振荡的第二振荡方向。即使反射光辐射归因于在物体2处的漫反射而部分地失去经影响的波特性，即第一振荡方向或第二振荡方向，过度曝光也仍然被减少。例如，提供第一滤光器8、10和第二滤光器8'、10'作为偏振器，其中光辐射9和反射光辐射以使得横向振荡的第一振荡方向相对于横向振荡的第二振荡方向旋转90度的方式在波特性方面受到影响。
附图标记列表
1 传送机
2 物体
3 码，编码
4,4’ 拍摄单元
5,5’,5” 传感器，多个传感器
5 第一传感器
5’ 第二传感器
5” 第三传感器
6,6’,6” 光源，多个光源
6 第一光源
6’ 第二光源
6” 第三光源
7,7’,7” 镜，多个镜
7 第一镜
7’ 第二镜
7”第三镜
8,8’,8” 滤光器，尤其是作为镜涂层
8 第一滤光器
8’ 第二滤光器
8” 第三滤光器
9 由光源发射的光辐射
10,10’ 滤光器，尤其是作为滤光盘
10 第一滤光器
10’ 第二滤光器
11’ 第一经影响光辐射
11’ 第二经影响光辐射
12 拍摄区
14 光辐射的第一检测到的部分
14’ 光辐射的第二检测到的部分
15’ 第二经影响光辐射的第一反射部分
15 第二经影响光辐射的第二反射部分
16 第一经影响光辐射的第一反射部分
16’ 第一经影响光辐射的第二反射部分
P 箭头，传送方向

Claims (20)

1.一种用于拍摄物体的成像系统，所述成像系统包括：
用于照亮所述物体的多个光源，以及
多个光学传感器，
其中所述多个光源发射光辐射，以及
其中所述多个光学传感器被适配成检测从所述物体反射的光辐射；
其中所述多个光源中的第一光源和第二光源发射具有相同波特性的光辐射；
所述成像系统还包括：
被适配成影响所述波特性的第一滤光器，所述第一滤光器被布置成使得所述第一光源和所述物体之间的光辐射落在所述第一滤光器上，并且所述物体和所述多个光学传感器中的第一光学传感器之间的反射光辐射落在所述第一滤光器上，
以及被适配成影响所述波特性的第二滤光器，其中所述第二滤光器被布置成使得所述第二光源和所述物体之间的光辐射落在所述第二滤光器上，并且所述物体和所述多个光学传感器中的第二光学传感器之间的反射光辐射落在所述第二滤光器上，
其中所述第一滤光器与所述第二滤光器不同地影响所述波特性。
2.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述多个光源中的第三光源发射具有与所述第一光源和所述第二光源相同的波特性的光辐射；
所述成像系统包括被适配成影响所述波特性的第三滤光器，其中所述第三滤光器被布置成使得所述第三光源和所述物体之间的光辐射落在所述第三滤光器上，并且所述物体和所述多个光学传感器中的第三光学传感器之间的反射光辐射落在所述第三滤光器上；
其中所述第三滤光器与所述第一滤光器和所述第二滤光器不同地影响所述波特性。
3.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述第一光源的光辐射的光路与所述第二光源的光辐射的光路相交。
4.如权利要求3所述的成像系统，其特征在于，所述多个光源中的第三光源的光辐射的光路与所述第一光源和所述第二光源的光辐射的光路中的至少一者相交。
5.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述光辐射的相同波特性是光波长的相同光源波段范围，并且其中所述多个光源发射具有光波长的相同光源波段范围的光辐射；其中所述多个光学传感器被适配成检测在光波长的所述光源波段范围上的反射光辐射；其中所述第一滤光器影响所述波特性使得所述光源波段范围被限制在光波长的第一子波段范围；并且其中所述第二滤光器影响所述波特性使得所述光源波段范围被限制在光波长的第二子波段范围；其中光波长的所述第一子波段范围不同于光波长的所述第二子波段范围。
6.如权利要求5所述的成像系统，其特征在于，光波长的所述光源波段范围被划分成所述第一子波段范围和所述第二子波段范围。
7.如权利要求5所述的成像系统，其特征在于，第三滤光器影响所述波特性使得所述光源波段范围被限制在光波长的第三子波段范围；并且其中光波长的所述第三子波段范围不同于光波长的所述第一子波段范围和光波长的所述第二子波段范围；并且其中光波长的所述光源波段范围被划分成所述第一子波段范围、所述第二子波段范围和所述第三子波段范围。
8.如权利要求5所述的成像系统，其特征在于，子波段范围的数目对应于具有相交光路的光源的数目。
9.如权利要求8所述的成像系统，其特征在于，诸子波段范围彼此不交叠。
10.如权利要求8所述的成像系统，其特征在于，诸子波段范围覆盖光辐射的整个光源波段范围。
11.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，还包括多个镜。
12.如权利要求11所述的成像系统，其特征在于，所述多个镜中的第一镜包括所述第一滤光器，且所述多个镜中的第二镜包括所述第二滤光器。
13.如权利要求11所述的成像系统，其特征在于，所述多个镜中的第三镜包括第三滤光器。
14.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述第一滤光器和所述第二滤光器各自被提供作为滤光盘。
15.如权利要求14所述的成像系统，其特征在于，第三滤光器被提供作为滤光盘。
16.如权利要求5所述的成像系统，其特征在于，所述第一滤光器和所述第二滤光器被提供作为光谱滤光器。
17.如权利要求5所述的成像系统，其特征在于，所述第一滤光器和所述第二滤光器被提供作为梳状滤光器，其中所述第一滤光器的光波长的所述第一子波段范围相对于所述第二滤光器的光波长的所述第二子波段范围偏移开。
18.如权利要求5所述的成像系统，其特征在于，所述第一滤光器被提供作为光学高通滤光器，而所述第二滤光器被提供作为光学低通滤光器。
19.如权利要求1所述的成像系统，其特征在于，相同波特性是不规则地取向的横向振荡，并且其中所述第一光源和所述第二光源发射具有所述不规则地取向的横向振荡的光辐射；其中所述第一光学传感器和所述第二光学传感器被适配成检测具有任意取向的横向振荡的反射光辐射；其中所述第一滤光器影响所述波特性使得横向振荡被限制在第一振荡方向；并且其中所述第二滤光器影响所述波特性使得横向振荡被限制在第二振荡方向；其中横向振荡的所述第一振荡方向不同于横向振荡的所述第二振荡方向。
20.如权利要求19所述的成像系统，其特征在于，所述第一滤光器和所述第二滤光器被提供作为偏振器。
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