CN1133543C - 喷墨头的微流道及微喷嘴的制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种喷墨头的微流道及微喷嘴的制造方法，包括如下步骤：通过紫外线光源产生波长范围100-400nm的紫外线镭射光束；将紫外线光束射入光调制模组内，使紫外线镭射光束的能量大小和分布达到所需要的紫外线镭射光束；将适当形状的显微影像通过投影透镜组将其投影至被加工物上，进行精密干蚀刻；蚀刻出具所需微流道及微喷嘴的产品，显微影像包括“+”字型或其他所需形状图样。具有低成本、高优良品率、高精度、高效率及无污染等优点。
Description
技术领域
本发明涉及蚀刻技术领域，特指一种喷墨头的微流道及微喷嘴的制造方法。
背景技术
台湾专利公告362072号的“一种喷墨头之制造与结构”公开了一种喷墨头的制法，其步骤如下：
a)、在基板上形成介电层；
b)、在介电层上形成电阻层；
c)、在部分电阻层上形成导电层；
d)、在未被覆盖的电阻层上形成保护层；
e)、形成喷墨头的喷孔，完成喷墨头的制造。
其主要缺陷在于：由于各介电层、电阻层、导电层及金属保护层的形成，均采用类似电镀的化学方法制造，必须使用镍作为各材质层，造成成本较高，且喷墨头的最高的印字解析度仅能达到300点数/寸间距(DOTS PERINCH)；制程中产生的电镀废液造成对环境的污染；因化学制程难以达到精密的控制，使不良率增加。
发明内容
本发明的目的在于提供一种喷墨头的微流道及微喷嘴的制造方法，通过将波长介于100-400nm的紫外线光源经光调制模组，再利用投影模组将紫外光投影至被加工物上进行干蚀刻，克服现有技术的弊端，达到降低成本、提高印字解析度、减少环境污染及提高加工精密度和优良率的目的。
本发明的目的是这样实现的：一种喷墨头的微流道及微喷嘴的制造方法，其特征在于：包括如下步骤：
(一)提供紫外线镭射光束：
通过紫外线光源产生波长范围100-400nm的紫外线镭射光束；
(二)进行紫外线光束的调制处理：
将紫外线光束射入位于紫外线光源一端的光调制模组内，使紫外线镭射光束的能量大小和分布达到所需要的紫外线镭射光束，形成所需的适当形状的显微影像；
(三)精密干蚀刻：
将适当形状的显微影像通过投影透镜组将其投影至位于该投影透镜组一端的被加工物上，进行精密干蚀刻；
(四)成品：
蚀刻出具所需微流道及微喷嘴的产品。
该光调制模组包括光衰减器和光罩；该显微影像包括“+”字型或其他所需形状图样；该被加工物的材质包括塑胶、玻璃、陶瓷或金属；该塑胶包括聚酰亚胺树脂、聚碳酸酯树脂、聚丙烯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂或聚乙烯树脂；该陶瓷包括含Al2O3的制品；该金属包括铁、不锈钢或合金钢。
本发明的主要优点如下：
1、本发明的制造方法是先将紫外线透过光调制模组，将紫外光的能量大小及其分布调制成所需的形式，将其投影至被加工物上，达到精密蚀刻的功效；大大提高了产品的优良率；印字解析度高达2400点数/寸间距，比电镀方法提高约8倍。
2、本发明的制造方法不产生电镀废液，对环境无污染，有利于保护环境。
3、本发明的制造方法适用范围宽，适用于塑胶、玻璃、陶瓷和金属等各种加工物，且根据需要加工成“+”字型或各种图样。
下面结合较佳实施例和附图进一步说明。
附图说明
图1为本发明的装置组合示意图；
图2为本发明的制造流程示意图。
具体实施方式
参阅图1-图2，本发明提供的喷墨头的墨水微流道及微喷嘴的制造方法，包括如下步骤：
(一)提供紫外线镭射光束：
通过紫外线光源11产生波长范围100-400nm的紫外线镭射光束111；
(二)进行紫外线光束的调制处理：
将紫外线光束111射入位于紫外线光源11一端的光调制模组12内，该光调制模组12包括光衰减器121和光罩122，使紫外线镭射光束的能量大小和分布达到所需要的紫外线镭射光束，形成所需的适当形状的显微影像，该显微影像包括“+”字型或其他形状图样；
(三)精密干蚀刻：
将适当形状的显微影像通过投影透镜组131将其投影至位于该投影透镜组131一端的被加工物2上，进行精密干蚀刻；
(四)成品：
蚀刻出具所需微流道及微喷嘴的产品。
该被加工物的材质包括塑胶、玻璃、陶瓷或金属；
该塑胶包括聚酰亚胺树脂(Polyimide)、聚碳酸酯树脂(Polycarbonate)、聚丙烯树脂(Polypropylene)、聚甲基丙烯酸甲酯树脂(Polymethyl mathacrylate)或聚乙烯树脂(Polyethylene)。
该陶瓷包括含Al2O3的制品。该金属包括铁、不锈钢或合金钢。
总之本发明的方法适用于各种材质的加工物，对干蚀刻微流道或微喷嘴具有低成本、高优良品率、高精度、高效率及无污染等优点。
Claims (1)
1、一种喷墨头的微流道及微喷嘴的制造方法，它包括如下步骤：通过紫外线光源产生波长范围100-400nm的紫外线镭射光束；将紫外线光束射入位于紫外线光源一端的光调制模组内，调整紫外线镭射光束的能量大小和分布达到所需要的紫外线镭射光束，形成所需的适当形状的显微影像；将适当形状的显微影像通过投影透镜组将其投影至位于该投影透镜组一端的被加工物上，进行精密干蚀刻，蚀刻出具所需微流道及微喷嘴的产品，其特征在于：该显微影像包括“+”字型。
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| CNB001035916A CN1133543C (zh) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | 喷墨头的微流道及微喷嘴的制造方法 |
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- 2000-03-31 CN CNB001035916A patent/CN1133543C/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN1315252A (zh) | 2001-10-03 |
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