CN113346028A - 一种发光器件、制备方法和显示装置 - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims abstract description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 9
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 18
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 description 2
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000009545 invasion Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明提供一种发光器件、制备方法和显示装置，发光器件包括：平坦层，平坦层的一侧设有第一电极；像素界定层位于平坦层的设有第一电极的一侧；隔绝层，隔绝层位于平坦层上的非像素区域，部分像素界定层与平坦层之间设有隔绝层，在平坦层上设有凹槽，凹槽围绕隔绝层的周向延伸，且凹槽的部分延伸至隔绝层的朝向平坦层的一侧，像素界定层上与凹槽相对应的位置设有沿像素界定层的厚度方向贯穿的贯通槽，贯通槽与凹槽连通。在本发明的发光器件中，通过设置凹槽可以隔绝水氧，减少水氧腐蚀损坏电极上的发光材料，提升信赖性，避免在面板的信赖性方面出现蓝绿点等不良问题。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种发光器件、制备方法和显示装置。
背景技术
近年来，显示器已成为人们生活中的重要角色，其中，有源矩阵发光二极管(Active Matrix Organic Light Emitting Diode)是极具发展潜力的新型平板显示技术，受到业界高度关注，它具备质量轻、发光效率高、功耗低、自发光、低温特性好和可弯折等优点。
对于AMOLED面板上的发光材料而言，在蒸镀过程中，由于精细金属掩膜板与蒸镀基板紧密贴合，在对位过程中基板的像素垫底与精细金属掩膜板会有一定的摩擦，发光材料会被精细金属掩膜板刮蹭、材料堆积，后续的膜层在刮蹭的地方成膜不连续，形成不规则的形貌，导致沉积镀膜时形貌也不规则，在信赖性过程中，水氧的侵入使发光材料逐渐被腐蚀，造成部分像素失效，容易在面板的信赖性方面出现蓝绿点等不良问题。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种发光器件、制备方法和显示装置，用以解决水氧会腐蚀电极上的发光材料，导致在面板的信赖性方面出现蓝绿点的问题。
为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：
第一方面，本发明实施例提供了一种发光器件，包括：
平坦层，所述平坦层的一侧设有第一电极；
像素界定层，所述像素界定层位于所述平坦层的设有所述第一电极的一侧；
隔绝层，所述隔绝层位于所述平坦层上的非像素区域，部分所述像素界定层与所述平坦层之间设有所述隔绝层，在所述平坦层上设有凹槽，所述凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸，且所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧，所述像素界定层上与所述凹槽相对应的位置设有沿所述像素界定层的厚度方向贯穿的贯通槽，所述贯通槽与所述凹槽连通。
其中，所述像素界定层包括第一像素界定层图形与第二像素界定层图形，所述隔绝层位于所述第一像素界定层图形与所述平坦层之间，所述第一像素界定层图形相对于所述平坦层的高度大于所述第二像素界定层图形相对于所述平坦层的高度。
其中，所述隔绝层包括金属材料和金属氧化物材料中的至少一种。
其中，所述隔绝层与所述第一电极同层同材料设置。
其中，所述贯通槽在所述平坦层上的正投影为环形状，所述凹槽在所述平坦层上的正投影为环形状。
其中，所述贯通槽在所述平坦层上的正投影与所述凹槽在所述平坦层上的正投影的轴线重合。
其中，所述隔绝层在所述平坦层上的正投影与所述凹槽在所述平坦层上的正投影的重合区域为环形状。其中，还包括：
发光层，所述发光层设置于所述第一电极上。
其中，还包括：
第二电极，所述第二电极设置于所述发光层上；
其中，所述第一电极为阳极，所述第二电极为阴极；或者
所述第一电极为阴极，所述第二电极为阳极。
第二方面，本发明实施例提供了一种发光器件的制备方法，包括：
形成平坦层；
在所述平坦层的一侧形成第一电极；
在部分所述平坦层上的非像素区域形成隔绝层；
在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形和凹槽；其中，在所述像素界定层图形上具有沿所述像素界定层图形的厚度方向贯穿的贯通槽，所述贯通槽位于所述隔绝层的边缘区域，
所述凹槽位于所述平坦层的与所述贯通槽对应的区域，所述贯通槽与所述凹槽连通，所述凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸且所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧。
其中，在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形和凹槽的步骤包括：
在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形；
在所述平坦层的与所述贯通槽对应的区域形成所述凹槽。
第三方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括上述实施例中所述的发光器件。
第四方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述实施例中所述的显示面板。
第五方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述实施例中所述的发光器件。
本发明的上述技术方案的至少具有以下有益效果：
根据本发明实施例的发光器件，包括：平坦层，所述平坦层的一侧设有第一电极；像素界定层，所述像素界定层位于所述平坦层的设有所述第一电极的一侧；隔绝层，所述隔绝层位于所述平坦层上的非像素区域，部分所述像素界定层与所述平坦层之间设有所述隔绝层，在所述平坦层上设有凹槽，所述凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸，且所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧，所述像素界定层上与所述凹槽相对应的位置设有沿所述像素界定层的厚度方向贯穿的贯通槽，所述贯通槽与所述凹槽连通。在本发明的发光器件中，在部分所述像素界定层与所述平坦层之间设有所述隔绝层，平坦层上的凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸，所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧，通过设置凹槽可以隔绝水氧，减少水氧腐蚀损坏电极上的发光材料，提升信赖性，避免在面板的信赖性方面出现蓝绿点等不良问题。
附图说明
图1为本发明实施例中发光器件的一个结构示意图；
图2为隔绝层与凹槽配合的一个局部放大示意图；
图3为隔绝层与凹槽在平坦层上的一个俯视图；
图4为本发明实施例中发光器件的另一个结构示意图；
图5为形成像素界定层图形的一个过程示意图。
附图标记
平坦层10；
第一电极20；
隔绝层30；凹槽31；贯通槽32；
第一像素界定层图形21；第二像素界定层图形22；
发光层40。
具体实施方式
为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本发明的特征和优点，而不是对本发明的限制。
如图1至图4所示，根据本发明实施例的发光器件，包括平坦层10、像素界定层和隔绝层30，其中，平坦层10的一侧设有第一电极20，第一电极20可以为阳极，像素界定层位于平坦层10的设有第一电极20的一侧，隔绝层30位于平坦层10上的非像素区域，比如非像素区域可以为非发光区域，非像素区域可以为未设置像素的区域，隔绝层30可以位于平坦层10上的相邻像素之间的区域，如图3所示，隔绝层30与凹槽31可以对应设置于平坦层10上的相邻像素之间的区域。隔绝层30可以为在刻蚀平坦层10时不会被刻蚀的材料，隔绝层30可以为金属层，隔绝层30的材料可以与第一电极的材料相同，部分像素界定层与平坦层10之间可以设有隔绝层30，在平坦层10上可以设有凹槽31，凹槽31的形状可以根据需要改变，比如凹槽31可以为环状、矩形状、三角形状或正方形状，凹槽31可以围绕隔绝层30的周向延伸，且凹槽31的部分可以延伸至隔绝层30的朝向平坦层10的一侧，像素界定层上与凹槽31相对应的位置可以设有沿像素界定层的厚度方向贯穿的贯通槽32，贯通槽32与凹槽31连通。在本发明的发光器件中，可以在部分像素界定层与平坦层10之间设有隔绝层30，让平坦层10上的凹槽31围绕隔绝层30的周向延伸，凹槽31的部分延伸至隔绝层30的朝向平坦层10的一侧，如图4所示，通过设置凹槽31可以断开发光层，隔绝水氧，可以减少水氧腐蚀损坏电极上的发光材料，提升信赖性，避免在面板的信赖性方面出现蓝绿点等不良问题，保证发光效果。
在一些实施例中，如图1所示，像素界定层可以包括第一像素界定层图形21与第二像素界定层图形22，隔绝层30可以位于第一像素界定层图形21与平坦层10之间，第一像素界定层图形21相对于平坦层10的高度大于第二像素界定层图形22相对于平坦层10的高度。第二像素界定层图形22在像素中心连线方向上的尺寸与第一像素界定层图形21的尺寸可以大致相等。在蒸镀过程中，掩膜板可以与第一像素界定层图形21配合，通过设置凹槽31可以隔绝水氧，可以减少水氧腐蚀损坏电极上的发光材料，提升信赖性。
在本发明的实施例中，隔绝层30可以包括金属材料和金属氧化物材料中的至少一种，隔绝层30的厚度可以与第一电极的厚度相等。其中，隔绝层30与第一电极20可以同层同材料设置，在制备过程中，可以同时形成隔绝层30与第一电极20，减少制备工艺。
在一些实施例中，贯通槽32在平坦层10上的正投影可以为环形状，凹槽31在平坦层10上的正投影可以为环形状。贯通槽32在平坦层10上的正投影可以位于凹槽31在平坦层10上的正投影上，贯通槽32在平坦层10上的正投影与凹槽31在平坦层10上的正投影的非重合部分可以位于隔绝层30的底侧。
在一些实施例中，贯通槽32在平坦层10上的正投影与凹槽31在平坦层10上的正投影的轴线可以重合。可选地，隔绝层30在平坦层10上的正投影与凹槽31在平坦层10上的正投影的重合区域可以为环形状，以便更好地隔绝水氧。
在本发明的实施例中，如图4所示，发光器件还可以包括：发光层40，发光层40可以设置于第一电极20上，在形成发光层40的过程中，通过设置凹槽31可以断开发光层，隔绝水氧，可以减少水氧腐蚀损坏发光层，提升信赖性，避免在面板的信赖性方面出现蓝绿点等不良问题。
在本发明的实施例中，发光器件还可以包括：第二电极，第二电极可以设置于发光层40上；其中，第一电极20可以为阳极，第二电极可以为阴极；或者，第一电极20可以为阴极，第二电极可以为阳极。
本发明实施例提供一种发光器件的制备方法，包括：
形成平坦层10；
在平坦层10的一侧形成第一电极20；
在部分平坦层10上的非像素区域形成隔绝层30；
在平坦层10的设有第一电极20的一侧形成像素界定层图形和凹槽；其中，在像素界定层图形上具有沿像素界定层图形的厚度方向贯穿的贯通槽32，贯通槽32位于隔绝层30的边缘区域，由于隔绝层30的存在，在刻蚀过程中，隔绝层30的周向会形成凹槽，可以使发光材料断开，从而切断水氧路径。
凹槽31位于平坦层10的与贯通槽32对应的区域，贯通槽32与凹槽31连通，凹槽31围绕隔绝层30的周向延伸且凹槽31的部分延伸至隔绝层30的朝向平坦层10的一侧。在形成发光层40的过程中，通过设置凹槽31可以断开发光层，隔绝水氧，减少水氧腐蚀损坏电极上的发光材料，提升信赖性，避免在信赖性方面出现蓝绿点等不良问题。
在一些实施例中，在平坦层10的设有第一电极20的一侧形成像素界定层图形和凹槽的步骤可以包括：
在平坦层10的设有第一电极20的一侧可以形成像素界定层图形；
在平坦层10的与贯通槽32对应的区域可以形成凹槽31，可以通过控制刻蚀的条件来控制凹槽31的形状和大小，进而通过凹槽31可以隔绝水氧。
在实际过程中，也可以根据实际的情况来形成贯通槽32与凹槽31，可以通过一次刻蚀工艺来形成贯通槽32与凹槽31。
其中，第一电极20可以为阳极，隔绝层30可以为在刻蚀平坦层10时不会被刻蚀的材料，隔绝层30可以为金属层，隔绝层30的材料可以与第一电极的材料相同。通过上述方法可以制备出上述实施例中的发光器件，可以在部分像素界定层与平坦层10之间设有隔绝层30，让平坦层10上的凹槽31围绕隔绝层30的周向延伸，凹槽31的部分延伸至隔绝层30的朝向平坦层10的一侧，通过设置凹槽31可以隔绝水氧，可以减少水氧腐蚀损坏电极上的发光材料，提升信赖性，避免在面板的信赖性方面出现蓝绿点等不良问题，保证发光效果。
在实际过程中，如图5所示，可以在平坦层10上形成覆盖第一电极20与隔绝层30的界定材料层61，界定材料层可以为胶层，通过掩模版60进行刻蚀形成像素界定层图形，掩模版60上可以根据需要具有全透区、遮挡区和半透区，然后再通过刻蚀可以形成凹槽31。
在一些实施例中，像素界定层可以包括第一像素界定层图形21与第二像素界定层图形22，隔绝层30可以位于第一像素界定层图形21与平坦层10之间，第一像素界定层图形21相对于平坦层10的高度大于第二像素界定层图形22相对于平坦层10的高度。第二像素界定层图形22在像素中心连线方向上的尺寸与第一像素界定层图形21的尺寸可以大致相等。
可选地，隔绝层30可以包括金属材料和金属氧化物材料中的至少一种。其中，隔绝层30与第一电极20可以同层同材料设置，在制备过程中，可以同时形成隔绝层30与第一电极20，减少制备工艺。
可选地，贯通槽32在平坦层10上的正投影可以为环形状，凹槽31在平坦层10上的正投影可以为环形状。如图2所示，隔绝层30的距离a大于距离c，可以通过调整刻蚀气体的量的大小来实现，隔绝层30的底侧与凹槽31之间的距离b可以通过调节掩模版的透过率来实现。
在一些实施例中，贯通槽32在平坦层10上的正投影与凹槽31在平坦层10上的正投影的轴线可以重合，有利于加工制备。
在一些实施例中，隔绝层30在平坦层10上的正投影与凹槽31在平坦层10上的正投影的重合区域可以为环形状，以便更好地隔绝水氧。
其中，在平坦层10的与贯通槽32对应的区域形成凹槽31之后，制备方法还可以包括：
在第一电极20上形成发光层40。
其中，在形成发光层40之后，还可以包括：在发光层40上形成第二电极，其中，第一电极20可以为阳极，第二电极可以为阴极；或者，第一电极20可以为阴极，第二电极可以为阳极。
本发明实施例提供一种显示面板，包括上述实施例中所述的发光器件。具有上述实施例中发光器件的显示面板，可以避免在面板的信赖性方面出现蓝绿点等不良问题，保证发光效果。
本发明实施例提供一种显示装置，包括上述实施例中所述的显示面板。具有上述实施例中显示面板的显示装置，显示效果较好，避免出现面板的信赖性问题。
本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述实施例中所述的发光器件。具有上述实施例中发光器件的显示装置，显示效果较好，避免出现面板的信赖性问题。
除非另作定义，本发明中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种发光器件，其特征在于，包括：
平坦层，所述平坦层的一侧设有第一电极；
像素界定层，所述像素界定层位于所述平坦层的设有所述第一电极的一侧；
隔绝层，所述隔绝层位于所述平坦层上的非像素区域，部分所述像素界定层与所述平坦层之间设有所述隔绝层，在所述平坦层上设有凹槽，所述凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸，且所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧，所述像素界定层上与所述凹槽相对应的位置设有沿所述像素界定层的厚度方向贯穿的贯通槽，所述贯通槽与所述凹槽连通。
2.根据权利要求1所述的发光器件，其特征在于，所述像素界定层包括第一像素界定层图形与第二像素界定层图形，所述隔绝层位于所述第一像素界定层图形与所述平坦层之间，所述第一像素界定层图形相对于所述平坦层的高度大于所述第二像素界定层图形相对于所述平坦层的高度。
3.根据权利要求1所述的发光器件，其特征在于，所述隔绝层包括金属材料和金属氧化物材料中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的发光器件，其特征在于，所述隔绝层与所述第一电极同层同材料设置。
5.根据权利要求1所述的发光器件，其特征在于，所述贯通槽在所述平坦层上的正投影为环形状，所述凹槽在所述平坦层上的正投影为环形状。
6.根据权利要求5所述的发光器件，其特征在于，所述贯通槽在所述平坦层上的正投影与所述凹槽在所述平坦层上的正投影的轴线重合。
7.根据权利要求1所述的发光器件，其特征在于，所述隔绝层在所述平坦层上的正投影与所述凹槽在所述平坦层上的正投影的重合区域为环形状。
8.一种发光器件的制备方法，其特征在于，包括：
形成平坦层；
在所述平坦层的一侧形成第一电极；
在部分所述平坦层上的非像素区域形成隔绝层；
在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形和凹槽；
其中，在所述像素界定层图形上具有沿所述像素界定层图形的厚度方向贯穿的贯通槽，所述贯通槽位于所述隔绝层的边缘区域，所述凹槽位于所述平坦层的与所述贯通槽对应的区域，所述贯通槽与所述凹槽连通，所述凹槽围绕所述隔绝层的周向延伸且所述凹槽的部分延伸至所述隔绝层的朝向所述平坦层的一侧。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形和凹槽的步骤包括：
在所述平坦层的设有所述第一电极的一侧形成像素界定层图形；
在所述平坦层的与所述贯通槽对应的区域形成所述凹槽。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的发光器件。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110604452.0A CN113346028B (zh) | 2021-05-31 | 2021-05-31 | 一种发光器件、制备方法和显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110604452.0A CN113346028B (zh) | 2021-05-31 | 2021-05-31 | 一种发光器件、制备方法和显示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113346028A true CN113346028A (zh) | 2021-09-03 |
| CN113346028B CN113346028B (zh) | 2024-04-19 |
Family
ID=77473350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110604452.0A Active CN113346028B (zh) | 2021-05-31 | 2021-05-31 | 一种发光器件、制备方法和显示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113346028B (zh) |
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2021
- 2021-05-31 CN CN202110604452.0A patent/CN113346028B/zh active Active
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