CN113327831A - 包括用于产生x射线的阳极的x射线源设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种X射线源设备，其包括阳极，阳极用于借助于射到阳极的焦点上的电子束产生X射线，阳极可借助于包括定子和转子的电动机围绕旋转轴线旋转，转子与阳极抗扭地连接，定子具有在旋转轴线的方向上靠近阳极的绕组头和在旋转轴线的方向上远离阳极的绕组头，在靠近阳极的绕组头与远离阳极的绕组头之间设置有由定子包括的叠片组，所述叠片组在焦平面中在相对于旋转轴线的径向方向上具有最大外半径，焦平面包括焦点和旋转轴线，靠近阳极的绕组头具有带有焦平面的远离焦点的相交区域和靠近焦点的相交区域。通过靠近焦点的相交区域的最大外半径在焦平面中小于叠片组的最大外半径的方式，提供进一步改进用于X射线成像的分辨能力的X射线源设备。

Description

包括用于产生X射线的阳极的X射线源设备

技术领域

本发明涉及一种包括用于产生X射线的阳极的X射线源设备。

背景技术

这种设备用于医学用途和非医学用途，并且用作为用于对待检查的对象进行透视或散射的X射线的源。

这种X射线源设备是普遍已知的。可以纯示例性地参考DE 10 2011 081 280 A1和US 4 500 142 A。

在X射线源设备运行时，借助于阴极产生电子束，所述电子束转向到阳极上。电子射到其上的点称作焦斑或焦点。在焦点中产生X射线辐射。

电子束加热焦点。为了避免焦点的过热，阳极通常构成为旋转阳极，所述阳极在运行时围绕转动轴线或旋转轴线旋转。借助于电机或电动机引起旋转，所述电机或电动机的转子与旋转阳极一起设置在真空容器内并且抗扭地连接，并且所述电机或电动机的定子设置在真空容器外。

为了最优的成像，需要焦点关于作为整体不围绕旋转轴线旋转的X射线源设备尽可能是静态的、即位置固定的，也就是说在X射线源设备的运行期间不移动或至少仅略微地移动。

因为生成X射线辐射的电子束可能受到电磁场影响，所以需要保持电磁场的影响尽可能恒定，如保持例如在电动机或电机中出现的电磁场的影响尽可能恒定。

重要的影响因素是在驱动转子时由定子发出的杂散场。所述杂散场可能引起焦点的运动，不仅在围绕旋转轴的方向上观察时，而且与此正交地、即在相对于旋转轴线的径向方向上观察时，所述运动可以处于几百μm的范围内。借此引起的干扰和错误在成像中通常不可忽略，但是至少是不利的并且限制X射线系统的分辨能力。

从DE 10 2011 081 280 A1中已知，定子的绕组系统构成为轭绕组。借助于这种绕组系统可以实现，不仅在围绕旋转轴线的方向上观察时而且与此正交地观察时，焦点运动小于大约50μm。然而，轭绕组的制造是繁琐的从而成本密集的。

也提出在X射线源设备的有效运行期间、即在发射X射线辐射期间，减少或甚至完全中断向定子的绕组系统施加电流。虽然所述方法引起焦点的明显减小的运动，但是其并非始终被证明为切合实际的。

尤其地，在旋转阳极的轴承构成为滑动轴承时，轴承内的摩擦力过高，使得在完全中断电流供给时，旋转阳极的旋转运动会过快地减小或阳极的转速会过快地降低。

此外，从专利文献DE 10 2018 201 394 B3中已知，绕组系统具有绕组，所述绕组的各个线圈分别搭接多个定子齿，并且定子构成为，使得在向各个相施加相同的相电压时，相分别引起相同大小的杂散磁场。这是使焦点尽可能位置固定地保持的有利的可行性。然而，即使借助于所述方法，焦点仍然不能保持位置恒定，使得这对于特别高分辨率的X射线成像是足够的。

发明内容

本发明的目的是提供一种X射线源设备，所述X射线源设备进一步改进用于X射线成像的分辨能力。

所述目的借助于根据本发明的X射线源设备来解决。X射线源设备具有阳极，所述阳极用于借助于射到阳极的焦点上的电子束产生X射线。阳极可以借助于包括定子和转子的电动机围绕旋转轴线旋转。优选地，转子与阳极抗扭地连接。定子具有在旋转轴线的方向上靠近阳极的绕组头和在旋转轴线的方向上远离阳极的绕组头。在靠近阳极的绕组头与远离阳极的绕组头之间设置有由定子包括的叠片组。焦平面包括焦点和旋转轴线。在焦平面中、尤其在朝向靠近阳极的绕组头的一侧上，叠片组具有最大外半径。靠近阳极的绕组头具有与焦平面的远离焦点的相交区域和靠近焦点的相交区域，并且在焦平面中，靠近阳极的绕组头的靠近焦点的相交区域的最大外半径小于叠片组的最大外半径。

借助于如此设计的X射线源设备、尤其借助于靠近阳极的绕组头的几何设计来实现在焦点附近或在焦点自身处减小电磁杂散场。这引起焦点移动不仅在围绕旋转轴线的环周方向上而且径向于旋转轴线的令人惊讶的强烈的减小。

在一个特别有利的设计方案中，借助于靠近阳极的绕组头的几何设计方案将杂散场基本上减小到零，使得通过所述杂散场，在焦点处或焦点附近不再仅引起电子束的恒定的干扰，而是不再引起电子束的干扰。

通过焦点的提升的位置恒定性，对于焦点的几何成像比和成像几何形状比在现有技术中更恒定，并且可以借助于这种X射线源设备改进整个X射线设备的图像质量。

如果将所述教导与已知的教导DE 10 2018 201 394 B3组合，则可以将在径向和环周方向上的焦点移动——基于借助于教导DE 10 2018 201 394 B3可实现的结果——以因数2减小。

绕组头通过由定子包括的绕组形成。通常，定子包括两个绕组头、第一绕组头，所述第一绕组头设置在阳极侧从而靠近阳极地设置。第二绕组头设置在定子的背离阳极的一侧上从而是远离阳极的。在靠近阳极的绕组头与远离阳极的绕组头之间设置有叠片组。通常，靠近阳极的绕组头、远离阳极的绕组头和叠片组相对于彼此固定，例如通过挤压彼此固定。

通常，叠片组在焦平面中的外半径基本上是恒定的。如果所述外半径不是恒定的，则在焦平面中的叠片组的最靠近阳极的绕组头的板的外半径，或多个相邻的板的半径、例如三个或五个紧邻的板的呈外半径平均值的外半径用于当前的技术教导。

转子可以借助于通过定子的绕组的电流流动置于围绕旋转轴线的旋转运动。因为阳极与转子抗扭地连接，所以转子运动引起阳极旋转运动。

焦平面由焦点和旋转轴线形成。借此展开的焦平面通常垂直于正交于旋转轴线的平面。因此，焦平面与定子相交。

因为焦点通常与阳极的旋转轴线间隔开、尤其不处于旋转轴线和阳极的交点处，而是处于远离旋转轴线的阳极上，所以存在具有焦平面的靠近阳极的绕组头的靠近焦点的相交区域和靠近阳极的绕组头的远离焦点的相交区域。对于本发明感兴趣的是靠近阳极的绕组头的靠近焦点的相交区域，因为其杂散场对入射的电子束的影响最大。

靠近阳极的绕组头的具有焦平面的相交区域可以看作沿着焦平面通过绕组头的相交区域。因此，靠近阳极的绕组头的靠近焦点的相交区域通常形成在靠近阳极的绕组头的最靠近焦点的部分处的绕组头横截面。

优选地，靠近阳极的绕组头的靠近焦点的区域、尤其在围绕旋转轴线的环周方向上相对于焦平面至少+/-20°的区域在几何上确定尺寸为，使得焦点的位置处的杂散磁场小于对于在旋转轴线处镜像的焦点由靠近阳极的绕组头的远离焦点的区域发出的杂散场。

在本发明的一个变型方案中，由靠近焦点的相交区域的最大外半径与叠片组的最大内半径的差和叠片组的外半径与叠片组的最大内半径的差构成的比小于或等于0.9、尤其小于或等于0.75、优选地小于或等于0.5。这是有利的比，所述比越低，在焦点的区域中提供的杂散场就越小。原则上适用的是，叠片组的外半径在靠近焦点的相交区域中越突出靠近阳极的绕组头的外半径，杂散场在电子束或焦点移动特性的影响方面就越有利地构成。

在本发明的另一实施方式中，定子具有由多个相、尤其三个相构成的绕组，其中从径向外部观察，缠绕的相中的一个相在靠近焦点的相交区域的区域中具有至少两个线圈，所述至少两个线圈朝向叠片组构成两个彼此会聚的支脚。支脚优选地分别由多个线圈形成。靠近阳极的绕组头的借助于支脚构成的结构也可以称为V形，其中“V”形结构的支脚的接触点不是强制性地必须存在。借助于朝向阳极打开支脚，将导电线圈从焦点移开，使得杂散场减小，尤其线圈之间的由分开延伸的线圈引起的杂散场相互抵消。

尤其地，第一支脚和第二支脚可以形成165°至60°的张开角，在一个优选的变型方案中，张开角为140°至90°、尤其120°至90°。在此涉及一种简单且有效的缠绕方式，以便减小靠近阳极的绕组头的杂散场对入射的电子束的影响从而局部稳定焦点。

在本发明的另一变型方案中，支脚的焦点设置在靠近焦点的相交区域的区域中。交点可以是虚拟的、即通过两个支脚在纵向延伸方向上的假想的延长部来产生。交点也可以作为两个支脚的两个彼此最靠近相对置的彼此会聚的线圈的接触点或交叉点存在。交叉点应理解为如下点：两个支脚的两个彼此最靠近相对置的彼此会聚的线圈在所述点处交叉、即两个线圈中的第一线圈延伸超过另一线圈。

靠近焦点的相交区域的区域在绕组头的围绕旋转轴线的环周方向上延伸。当交点的位置仍引起杂散场的减小时，根据技术教导，靠近焦点的相交区域的区域于是仍然存在。所述区域优选地在靠近阳极的绕组头的围绕旋转轴线的环周方向上相对于焦平面延伸+/-5度、或者也更多地延伸。在一个特别的变型方案中，交点处于焦平面中。

在本发明的另一实施方式中，包括至少两个线圈的绕组在靠近焦点的相交区域的区域中形成绕组头的径向处于外部的绕组、尤其所述绕组头的径向处于外部的绕组。通过所述绕组形成径向处于外部的绕组的方式、即与其他相的绕组的线圈相比，所述绕组的线圈在靠近焦点的相交区域的区域中具有距旋转轴线更大的径向间隔，可以有效地实现v形的支脚结构。靠近阳极的绕组头的径向几何尺寸的所述变化可以实现对应的杂散场减小。在所述意义上，径向外部也可以理解为径向最外部的线圈。

在本发明的另一变型方案中，包括至少两个线圈的绕组在靠近焦点的相交区域的区域中在绕组头的朝向叠片组的一侧上被径向向内地引导。因此，更靠近交点或叠片组的绕组的部分在靠近阳极的绕组头的朝向叠片组的一侧上被引导至叠片组的齿和凹槽，在所述侧上缠绕有绕组。这同样是用于实现径向外部绕组的V形形状的实际上简单的可行性。

根据本发明的另一实施方式，靠近焦点的相交区域的外半径在垂直于旋转轴线的法平面中形成最小外半径，并且靠近阳极的绕组头的外半径在围绕旋转轴线的环周方向上增大到最大外半径。法平面也可以视为定子的端面，其中所述端面在靠近阳极的绕组头的高度上与定子相交。因此在靠近阳极的绕组头的具有距焦点的最小间隔的角度范围内获得具有“凹陷”的靠近阳极的绕组头。优选地，角度范围相对于焦平面对称地构成，在所述角度范围上，焦平面中的最大外半径在环周方向上增大到焦平面外的最大外半径。

因此，在围绕旋转轴线的环周方向上，靠近阳极的绕组头的外半径在焦平面外、但与焦平面相邻地增大、尤其直至最大值，所述最大值然后在环周方向上基本上恒定。因此，杂散场在具有距焦点的最小的间隔的相关区域中减小，同时所有相的绕组可以安置在靠近阳极的绕组头中。

有利地，靠近焦点的相交区域的外半径从靠近焦点的相交区域开始在环周方向上小于+/-45°、尤其小于+/-30°、尤其小于+/-20°、尤其小于+/-10°的角度范围内增大。

在本发明的另一示例性设计方案中，叠片组在朝向旋转轴线的内部表面上在环周方向上具有凹槽和齿以用于容纳绕组，其中至少一个与靠近焦点的相交区域相邻的凹槽不具有绕组。有利地，与靠近焦点的相交区域相邻的多个凹槽也可以不具有绕组，多个不具有绕组的凹槽尤其可以相对于靠近焦点的相交区域对称地设置，使得相同数量的凹槽在环周方向上在正的和负的旋转方向上沿着环周保持自由。

尤其地，凹槽可以形成定子的最大内半径，并且齿形成定子的最小内半径。

相缠绕在凹槽和齿上。通过至少一个与靠近焦点的相交区域相邻的凹槽、优选地两个或多个与靠近焦点的相交区域相邻的凹槽没有被缠绕的方式，实现线圈远离靠近焦点的相交区域的移位。由此进一步减小了杂散场对入射的电子束的影响。

在另一示例性变型方案中，叠片组在朝向旋转轴线的内部表面上在环周方向上具有凹槽和齿以用于容纳绕组，其中焦平面与靠近焦点的齿相交，其中齿在围绕旋转轴线的环周方向上具有距焦平面的至少+/-5°的扩展。因此，定子的具有距焦点的最小的间隔的齿的尺寸确定成，绕组或线圈相对远离焦点地设置。借此也减小了杂散场对入射的电子束的影响。

附图说明

在下文中根据附图更准确地示意性阐述本发明的实施例。附图示出：

图1示出X射线源装置的示意图，所述X射线源装置具有用于运行旋转阳极的电动机，

图2示出示例性的定子的示意性立体视图，

图3在焦平面中示出示例性的定子的截面图，

图4示出定子的示例性的靠近阳极的绕组头的垂直于旋转轴线的示意性视图，

图5示出靠近阳极的绕组头的示例性的v形绕组区域的从径向外部观察的视图。

如果在不同的图1至图5中使用相同的附图标记，则相同的附图标记表示相同的部件。

具体实施方式

图1示出X射线源设备1、例如用于医学成像或用于工业领域内的X射线源设备的示意图。

X射线源设备1包括真空容器2，所述真空容器至少在X射线源设备运行时抽真空。

在真空容器2内设置有阳极3和阴极11。借助于阴极11，在X射线源设备1运行时产生电子束，所述电子束射到阳极3上。电子束的射点称为焦点P。焦点P与X射线源设备1是否运行无关地存在。

如果电子束E射在焦点P处，则阳极3发射X射线X。

当前，阳极3设计为旋转阳极，以便减小阳极3的热负荷。阳极3借助于轴4与转子5连接，所述转子借助于设置在真空容器2外的定子7相互作用，使得在运行时转子5围绕旋转轴线6旋转。

在运行时、即在旋转的阳极3的情况下，在转动的阳极3上构成焦“环”，相反地从位置固定的外部参考系统的角度来看，焦点P基本上是位置固定的，然而经受可能的杂散磁场的影响。

焦点P和旋转轴线6一起限定焦平面B。图1中的示图在焦平面B中示出X射线源设备1的示意性截面。

当前，定子7具有绕组头8和绕组头9。绕组头8在旋转轴线6的方向上比绕组头9更靠近阳极3设置，因此绕组头8称为靠近阳极的绕组头8，并且绕组头9称为远离阳极的绕组头9。

此外，定子7包括叠片组10，所述叠片组包括在旋转轴线6的方向上一个接一个地设置的各个板。各个板环形地设计，从而一起构成空心柱状的叠片组10。

叠片组10在其径向处于内部的表面上具有齿和凹槽，所述齿和凹槽在图1中未示出。借助于所述齿和凹槽引导绕组14。

借助于绕组头8或9，由径向处于内部的表面引导的并且在旋转轴线的方向上的第一板和最后的板处离开的绕组14联接。

关于阳极3，靠近阳极的绕组头8在焦平面B中具有两个相交区域12和13。在图1中，相交区域12比相交区域13更靠近焦点P，即具有距所述焦点更小的间隔。因此，相交区域12称为靠近焦点的相交区域12，并且相交区域13称为远离焦点的相交区域13。

在现有技术中，绕组头或多或少地不规则地联接绕组。最终，定子的空间紧凑性以及绕组在定子的锁定位置方面电连接到电流供给装置上的位置是重要的。然而，在由绕组头产生的作用于焦点的杂散场方面，这引起不利的几何形状、尤其绕组头的不利的几何形状。

图2示出示例性的定子7的示意性立体视图，如所述定子可以在图1中使用。所述定子包括远离阳极的绕组头9、靠近阳极的绕组头8和设置在绕组头8与绕组头9之间的叠片组10。

定子7具有多个紧固装置18、例如呈在环周方向上的环周上等距分布的紧固接片形式的紧固装置。借助于所述多个紧固装置，定子7相对于旋转轴线5固定。

此外，定子7具有三个单独的绕组，所述三个单独的绕组分别与三个相中的一个相相关联。然而，出于概览的原因，图2中未示出绕组。在运行中，三相的绕组经由相应的相连接件19被供给电流。也可以设有多于或少于三个的单独的绕组。

此外，在图2中可看出叠片组10的内部径向表面。叠片组10在围绕旋转轴线的环周方向上具有平行于旋转轴线延伸的呈腹板形式的齿17。在所述齿之间设置有凹槽16，所述凹槽引导在图2中未示出的绕组或绕组的导体。

出于简化原因，靠近阳极的绕组头8和远离阳极的绕组头9被示为统一的块，然而所述靠近阳极的绕组头和远离阳极的绕组头实际上具有多个导体并且不具有块状的外观。

对于所示的靠近阳极的绕组头8，图2示出绕组头8的最大外半径的减小。靠近阳极的绕组头8的外半径在绕组头8的在运行中朝向阳极的一侧上确定。

在围绕旋转轴线的环周方向上的最大外半径的最小值处于绕组头8的如下区域中：所述区域在定子7的安装好的状态下靠近焦点。即最大外半径的最小值优选地设置在相对于焦平面B的+/-5度的角度范围内。

在本实施例中，特别有利地，绕组头8的靠近焦点的区域的外半径的最小值设置在焦平面B中。在焦平面B中，靠近阳极的绕组头8的靠近焦点的相交区域12的最大外半径小于邻接于靠近阳极的绕组头8的叠片组10的最大外半径。

在图2中，叠片组10在靠近阳极的绕组头8的外半径上的凸出部在如下部位可见：在所述部位处，绕组头8在环周方向上具有径向的“凹陷”。所述“凹陷”在围绕旋转轴线的环周方向上在靠近阳极的绕组头8的在运行时朝向阳极的一侧上在相对于焦平面B小于60°、尤其大约45°、从而+/-30°、尤其+/-22.5°的角度范围上延伸。

通过靠近阳极的绕组头8的所述几何变形，定子7在焦点处的杂散场减小，由此提升了焦点在X射线源设备的运行期间的位置稳定性。

图3在焦平面B中示出示例性的定子7的示意性截面图。在此，靠近阳极的绕组头8——在取向正确地观察图3时——左侧邻接于叠片组10设置，而远离阳极的绕组头9在叠片组10的右侧设置。

对于图3中的绕组头8或9的“分块”示图，类似地适用根据图2的实施方案。这仅用于简化表示。

相关的半径在图3中示出。尤其示出叠片组10的最大外半径Rbamax、靠近阳极的绕组头8在靠近焦点的相交区域12中的最大外半径Rwamax。还示出叠片组10的最大内半径Rbimax，这基本上对应于凹槽的朝向旋转轴线6的表面与旋转轴线6的径向间隔。

此外示出叠片组10的最小内半径Rbimin，所述叠片组的最小内半径基本上对应于齿的面向或朝向旋转轴线6的表面和旋转轴线6的径向间隔。

优选地在焦平面中确定上述半径Rbamax、Rwamax、Rbimax。如果不可行，则不在焦平面中实现的相应的相关半径——在此尤其考虑Rbimax和Rbimin——直接在焦平面的相邻处在紧邻焦平面的地方确定。

从图3中也可再次看到，靠近阳极的绕组头8的靠近焦点的相交区域12的最大外半径Rwamax选择得比叠片组10的最大外半径Rbamax小。

图4示出定子7在垂直于旋转轴线6的平面N中的示意性视图。在此，在图4的前景中可见靠近阳极的绕组头8。

为了清楚性的目的，在图4中再次呈现在图3中引入的径向的尺寸标记。旋转轴线6穿过定子7的所示视图的中心点延伸。在图4中未示出远离阳极的绕组头。

在图4中可看出叠片组10的径向内部表面。所述径向内部表面在围绕旋转轴线6的环周方向上具有引导绕组的多个齿17和凹槽16。

在图4中，靠近阳极的绕组头8的靠近焦点的区域、尤其靠近焦点的相交区域12——在取向正确地观察图4时——设置在图4的上部分中，并且远离焦点的相交区域13设置在图4的下部分中。此外，图4示出在环周方向上的角度范围W，在所述角度范围内，绕组头8的最大外半径Rwamax小于邻接的叠片组10的最大外半径Rbamax。

尤其地，(Rwamax-Rbimax)/(Rbamax-Rbimax)的比小于0.9、优选地小于0.75或小于0.5。在特别的实施方式中，所述比也可以为零。在“零”的情况下，部分或全部角度范围W不具有绕组14。

替选地，齿17的尺寸、尤其在靠近焦点的相交区域12的相邻处的齿的尺寸选择成，使得所述尺寸相对大。通过齿的适当的尺寸，绕组具有距靠近焦点的相交区域12的更大的间隔，由此减小了绕组头8在焦点的位置处的杂散场。例如，齿17可以在环周方向上掠过10°的角度范围，因此相对于焦平面B对称地掠过+/-5°。

图5从径向外部示出靠近焦点的相交区域12的区域中的定子7的靠近阳极的绕组头8的俯视图。在此，观察者的间隔大于叠片组10的最大外半径。

定子7包括三个绕组，所述三个绕组与三个不同的相L1、L2和L3相关联，所述三个不同的相错开120°地缠绕在定子7上。在图5中，两个相L2和L3不可区分地示出，然而在图5中一起构成绕组头8的可见部段。

定子7的绕组14实现成，使得在靠近焦点的相交区域12的区域中，相L1的绕组形成径向处于外部的绕组。此外，相L1的绕组在所述区域中从叠片组10的径向内部表面在绕组头8的朝向叠片组10的一侧上延伸向靠近阳极的绕组头8的径向外部位置。

在此，相L1的绕组被引导成，使得从叠片组10观察时，所述绕组在靠近焦点的相交区域12的区域中v形彼此分开地延伸，或在相反的方向上观察时，所述绕组在靠近焦点的相交区域的区域中在板侧v形地汇合。因此，相绕组L1具有线圈15，所述线圈具有第一支脚S1和第二支脚S2。

通过引导导体彼此分开，由线圈15产生的在分开走向的支脚S1和S2之间的磁场趋于被抵消。借此，在X射线源设备的运行期间，焦点区域中的杂散场减小。

图5中示出交点SP，在所述交点处，两个线圈15接触。然而，所述交点不是强制性的；当支脚S1和S2朝向叠片组10彼此会聚而不接触时，就足够了。在所述情况下，所述支脚构成虚拟的交点SP。同样，所述支脚可以在交点SP中交叉。

图5还示出通过支脚S1和S2形成的张开角。所述张开角优选地小于160°与60°、尤其在140°与90°之间或在120°与90°之间。张开角优选地通过v形结构的线圈15的中间延伸确定。在此，靠近交点的区域比远离交点的区域更重要。

交点SP可以设置在焦平面B内；由于对称的原因，这是有利的。然而，当交点SP设置在距焦平面B的间隔A/2内时就足够了，这仍然引起焦点中的杂散场的减小。A可以尤其选择成，使得这对应于相对于焦平面B的小于+/-5°、尤其小于+/-2.5°的角度范围。

Claims (10)

1.一种X射线源设备(1)，所述X射线源设备包括阳极(3)，所述阳极用于借助于射到所述阳极(3)的焦点(P)上的电子束(E)来产生X射线(X)，其中所述阳极(3)能够借助于包括定子(7)和转子(5)的电动机围绕旋转轴线(6)旋转，其中所述定子(7)具有在所述旋转轴线(6)的方向上靠近阳极的绕组头(8)以及在所述旋转轴线(6)的方向上远离阳极的绕组头(9)，其中在所述靠近阳极的绕组头(8)与所述远离阳极的绕组头(9)之间设置有由所述定子(7)包括的叠片组(10)，所述叠片组在焦平面(B)中在相对于所述旋转轴线(6)的径向方向上具有最大外半径(Rbamax)，其中所述焦平面(B)包括所述焦点(P)和所述旋转轴线(6)，其中所述靠近阳极的绕组头(8)具有与所述焦平面(B)相交的远离焦点的相交区域(13)和靠近焦点的相交区域(12)，其中在所述焦平面(B)中，所述靠近焦点的相交区域(12)的最大外半径(Rwamax)小于所述叠片组(10)的最大外半径(Rbamax)。

2.根据权利要求1所述的X射线源设备，

其中由所述焦平面(B)中的所述靠近焦点的相交区域(12)的最大外半径(Rwamax)与所述叠片组(10)的最大内半径(Rbimax)的差和所述焦平面(B)中的所述叠片组(10)的外半径(Rbamax)与所述叠片组(10)的最大内半径(Rbimax)的差构成的比小于等于0.9、尤其小于等于0.75、优选地小于等于0.5。

3.根据权利要求1或2所述的X射线源设备，

其中所述定子(7)具有由多个相、尤其三个相(L1，L2，L3)构成的绕组(14)，其中从径向外部观察，缠绕的相(L1)中的一个相在所述靠近焦点的相交区域(12)的区域(A)中具有至少两个线圈(15)，所述至少两个线圈在朝向所述叠片组(10)的方向上构成两个彼此会聚的支脚(S1，S2)。

4.根据权利要求3所述的X射线源设备，

其中所述支脚(S1，S2)的交点(SP)设置在所述靠近焦点的相交区域(SP)的区域(A)中。

5.根据权利要求3或4所述的X射线源设备，

其中包括所述至少两个线圈(15)的绕组(14)在所述靠近焦点的相交区域(12)的区域(A)中构成所述靠近阳极的绕组头(8)的径向处于外部的绕组(14)。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的X射线源设备，

其中包括所述至少两个线圈(15)的绕组(14)在所述靠近焦点的相交区域(12)的区域(A)中在所述靠近阳极的绕组头(8)的朝向所述叠片组(10)的一侧上被径向向内地引导。

7.根据上述权利要求中任一项所述的X射线源设备，

其中所述靠近焦点的相交区域(12)的外半径(Rwamax)在垂直于所述旋转轴线(6)的法平面中形成最小外半径，并且所述靠近阳极的绕组头(8)的外半径在围绕所述旋转轴线(6)的环周方向上增大、尤其在所述焦平面(B)的两侧增大。

8.根据上述权利要求中任一项所述的X射线源设备，

其中所述靠近阳极的绕组头的外半径在环周方向上在相对于所述焦平面(B)的小于+/-45°、尤其小于+/-30°、尤其小于+/-20°的角度范围内增大。

9.根据上述权利要求中任一项所述的X射线源设备，

其中所述叠片组(10)在环周方向上在朝向所述旋转轴线(6)的内部表面上具有凹槽(16)和齿(17)，其中至少一个与所述靠近焦点的相交区域(12)相邻的凹槽(16)不具有线圈(14)。

10.根据上述权利要求中任一项所述的X射线源设备，

其中所述叠片组(10)在环周方向上在朝向所述旋转轴线(6)的内部表面上具有凹槽(16)和齿(17)，其中所述焦平面(B)与靠近焦点的齿(17)相交，其中所述齿(17)在围绕所述旋转轴线(6)的环周方向上具有相对于所述焦平面(B)的至少+/-2.5°、尤其+/-5°的扩展。

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