CN113325626A - 液晶显示屏及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

一种液晶显示屏及其制作方法，液晶显示屏的制作方法包括：提供第一基板；以遮光层材料在第一基板上形成遮光层，遮光层包括纵横交错的多个遮光块，并使各多个遮光块形成有多个间隙或小孔，其中，遮光层材料包括自愈合材料；对多个遮光块进行加热，使间隙或小孔中填满遮光层材料，通过在遮光块上形成多个间隙或小孔，解决了由于受遮光块的限制导致添加材料形成的聚合物成膜均一性差的问题，与此同时，通过在遮光层材料中加入自愈合材料，以使遮光块在加热条件下，消除遮光块上的多个间隙或小孔，从而在不改变液晶显示屏原有结构的情况下，有效地改善了聚合物成膜不均的问题，进而提高了液晶显示屏的品质。

Description

液晶显示屏及其制作方法
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种液晶显示屏及其制作方法。
【背景技术】
在成盒制程中，需要在彩膜基板(Color Filter，CF)和阵列基板(Thin FilmTransistor，TFT)上涂布聚酰亚胺(Polyimide，PI)的配向膜，聚酰亚胺起着控制液晶分子排列方向的作用。然而，首先，由于聚酰亚胺材料的耐热性、耐老化性不佳，锚定液晶分子(Liquid Crystal，LC)的能力不够强，在一定程度上影响液晶面板的品质；其次，聚酰亚胺材料本身具有高极性和高吸水性，在存储和运送易变质而导致产生配向问题；再次，聚酰亚胺材料在薄膜晶体管液晶显示屏(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LC D)上成膜的工艺成本较高，使得面板成本较高；最后，商用的聚酰亚胺材料中95％以上的含量为N-甲基吡咯烷酮(N-methyl-2-pyrrolido ne，NMP)和N-乙基吡咯烷酮(N-ethyl-2-pyrrolidone，NEP)等有机溶剂，有机溶剂在使用的过程中容易挥发，造成环境污染。随着面板的世代线越来越高，一方面，各制程设备成本逐渐增加；另一方面，面板的价格却逐渐降低，因此需要严格控制生产各环节的成本。一种将能够产生自取向效果的添加材料(Additive Material)添加至液晶材料中，从而达到控制液晶分子定向排列的技术(即PI-less技术)被开发出来。在生产环节中可省去聚酰亚胺段的相关制程和设备及维护，可降低生产成本，该方法的应用将极大地减少了N-甲基吡咯烷酮和N-乙基吡咯烷酮等有机溶剂在使用的过程中的挥发，降低了对环境和人员的伤害。
然而，在COA(Color Filter on Array，将彩色光阻涂布于已完成的阵列(Array)上形成彩色滤光层)机种中，由于HVA制程中的紫外光(Ultraviolet Rays，UV)光照受黑色矩阵(Black Matri x，BM)遮光的限制，导致该添加材料与聚合反应性单体(ReactionMonomer，RM)形成的聚合物(polymer)不均，从而造成不能形成完整的膜或者形成的膜的均一性差。在PI-less技术中，由于添加材料的扩散性往往会决定面板活性区(Active Area，AA)配向的优劣，如果添加材料形成的聚合物的成膜均一性能不佳，则会造成配向不良，从而导致液晶显示屏的电性差的问题。
因此，现有技术存在缺陷，有待改进与发展。
【发明内容】
本发明提供了一种液晶显示屏及其制作方法，能有效地改善添加材料形成的聚合物成膜不均的问题，从而提高液晶显示屏的电性性能。
为了解决上述问题，本发明提供了一种液晶显示屏的制作方法，包括：提供第一基板；以遮光层材料在第一基板上形成遮光层，遮光层包括纵横交错的多个遮光块，并使各多个遮光块形成有多个间隙或小孔，其中，遮光层材料包括自愈合材料；对多个遮光块进行加热，使间隙或小孔中填满遮光层材料。
其中，在以遮光层材料在第一基板上形成遮光层之后，还包括：
提供第二基板；
将第一基板与第二基板相对设置，并在第一基板和第二基板之间填充液晶层，以形成液晶盒，其中，液晶层的材料包括添加材料和聚合反应性单体，添加材料用于，控制液晶层的排列方向；
在第一基板和第二基板上施加电压，并对液晶盒由靠近第一基板到远离第二基板的方向进行紫外光照射，使添加材料与聚合反应性单体发生聚合反应，生成第一聚合层和第二聚合层，第一聚合层和第二聚合层分别位于第一基板和第二基板上，第一聚合层和第二聚合层用于，控制液晶层的排列方向。
其中，第二基板还包括色阻层，色阻层包括多个色阻块，多个色阻块与多个遮光块相对交错设置，通过遮光块以将色阻块隔开。
其中，添加材料包括可聚合性基团。
其中，对多个遮光块进行加热的温度范围包括70～120摄氏度。
其中，第一基板还包括色阻层，色阻层包括多个色阻块，多个色阻块紧靠多个遮光块，通过遮光块以将色阻块隔开。
其中，自愈合材料包括含二硫键自愈聚氨酯弹性体。
其中，在以遮光层材料在第一基板上形成遮光层之前，还包括：
提供掩膜版，掩膜版用于，通过光刻工艺以使在第一基板上形成具有多个间隙或小孔的多个遮光块。
其中，自愈合材料在遮光层材料的质量百分数的范围包括1～10％。
为了解决上述问题，本发明还提供了一种液晶显示屏，包括：第一基板、位于第一基板上依次层叠设置的遮光层和第一聚合层、与第一基板相对设置的第二基板以及位于第二基板上依次层叠设置的色阻层和第二聚合层，其中，遮光层的材料包括自愈合材料，液晶层的材料包括添加材料和聚合反应性单体，添加材料用于，控制液晶层的排列方向，遮光层和第一聚合层位于第一基板上靠近第二基板的一侧，色阻层和第二聚合层位于第二基板上靠近第一基板的一侧，遮光层包括多个遮光块，色阻层包括多个色阻块，多个色阻块与多个遮光块相对交错设置，通过遮光块以将色阻块隔开。
本发明的有益效果是：区别于现有技术，本发明提供了一种液晶显示屏及其制作方法，液晶显示屏的制作方法包括：提供第一基板；以遮光层材料在第一基板上形成遮光层，遮光层包括纵横交错的多个遮光块，并使各多个遮光块形成有多个间隙或小孔，其中，遮光层材料包括自愈合材料；对多个遮光块进行加热，使间隙或小孔中填满遮光层材料，通过在遮光块上形成多个间隙或小孔，解决了由于受遮光块的限制导致添加材料形成的聚合物成膜均一性差的问题，与此同时，通过在遮光层材料中加入自愈合材料，以使遮光块在加热条件下，消除遮光块上的多个间隙或小孔，从而在不改变液晶显示屏原有结构的情况下，有效地改善了聚合物成膜不均的问题，进而提高了液晶显示屏的品质。
【附图说明】
图1为本发明一种实施例的液晶显示屏的制作方法的流程示意图；
图2为本发明一种实施例的液晶显示屏的结构示意图；
图3为本发明另一种实施例的液晶显示屏的制作方法的流程示意图；
图4为本发明另一种实施例的液晶显示屏的结构示意图。
【具体实施方式】
下面结合附图和实施例，对本发明作进一步的详细描述。特别指出的是，以下实施例仅用于说明本发明，但不对本发明的范围进行限定。同样地，以下实施例仅为本发明的部分实施例而非全部实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
另外，本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在各个附图中，结构相似的单元采用相同的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的各个部分没有按比例绘制。此外，附图中可能未示出某些公知的部分。
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图，对本申请实施例进行进一步详细说明。
如图1所示，本发明提供了一种液晶显示屏100的制作方法，应用于显示技术领域，该液晶显示屏100的制作方法完成的液晶显示屏对照图2的结构图，具体流程如下：
S101步骤：提供第一基板110。
具体地，如图2所示，现有的液晶显示屏100一般包括：阵列基板(ArraySubstrate)、与阵列基板相对设置的彩膜基板(Color Filter Substrate)，以及位于阵列基板和彩膜基板中间的液晶层。其中，阵列基板和彩膜基板上均设有电极，阵列基板和彩膜基板上的电极其中一个为像素电极，另一为公共电极，通过在像素电极和公共电极上施加电压，以控制液晶分子的偏转，从而实现显示图像。彩膜基板上一般设有黑色矩阵，即遮光层111，因此，一般情况下，第一基板110是指彩膜基板，如果遮光层111设在阵列基板上且在彩膜基板和液晶基板形成液晶盒之后，在进行HVA制程时，紫外光(Ultraviolet Rays，UV)从阵列基板向彩膜基板照射时，第一基板110也可以是阵列基板。另外，第一基板110也可以是在后续会设有遮光层111的其它基板，具体不作限制。
S102步骤：以遮光层材料在第一基板110上形成遮光层111，遮光层111包括纵横交错的多个遮光块，并使各多个遮光块形成有多个间隙或小孔，其中，遮光层材料包括自愈合材料。
具体地，以遮光层材料在第一基板110上形成遮光层111，遮光层111包括纵横交错的多个遮光块(图中未标序)，遮光层111的作用是，遮蔽由于扫描线或数据线附近电场紊乱进而引起出射光不可控的漏光；防止像素之间的混色，提高显示图像的色纯度；防止外界光线照射到TFT沟道上具有光敏特性的半导体层材料(比如a-Si：H)，引起光生电流即TFT漏电极增加，导致TFT无法关闭影响显示性能；在显示区边缘的遮光块，还起到遮挡背光源光线的作用，并作为显示区与四周机械金属框的过渡区改善视觉效果，因此，遮光层材料需要有良好的遮光性能，如果遮光层材料的遮光性能差而出现光泄露出来，则会影响显示效果。遮光层材料是一种着色感光材料，一般包括分散剂和透明光阻，分散剂是炭黑色的，比如黑色的丙烯树脂，起着色和遮光的作用，而透明光阻是一种光起始剂和添加剂，其材料成分包括聚合物单体(polymer Monomer)。遮光层材料的遮光性能用光胶密度(Optical Densty，OD)表示，当在遮光层材料中加入Cr、Ti金属元素时，光胶密度会增加，遮光性能提高。
其中，自愈合材料包括含二硫键自愈聚氨酯弹性体。
具体地，自愈合材料是指，当在自愈合材料的表面存在一定量的微小缝隙、微小孔洞或者划痕时，通过物理或者化学的方法，比如加热，可以消除微小缝隙、微小孔洞或者划痕。自愈合材料可以是任意一种通过物理或者化学的方法实现消除微小缝隙、微小孔洞或者划痕的材料，具体不作限制。其中，自愈合材料可以是含二硫键自愈聚氨酯弹性体(PUDS)，一种可快速自修复的高韧高强聚合物，在温和加热条件下(70℃)，表面划痕可在60秒(s)内迅速恢复，同时表现出良好的重复刮擦自修复功能。
其中，自愈合材料在遮光层材料的质量百分数的范围包括1～10％。
具体地，自愈合材料在遮光层材料的含量主要影响遮光层111的自愈合性能，如果自愈合材料的含量较低，会降低遮光层111的自愈合性能，而如果自愈合材料的含量较高，会降低遮光层111的遮光性能。优选地，自愈合材料在遮光层材料的质量百分数的范围为1～10％。
其中，S102步骤之前，还包括：
提供掩膜版，掩膜版用于，通过光刻工艺以使在第一基板110上形成具有多个间隙或小孔的多个遮光块。
具体地，掩膜版(未在图中示出)又称之为光罩(mask)，掩膜版主要用于光刻工艺(Litho)中，遮光层111的形成过程是，首先，提供掩膜版，掩膜版上设有一定的图案(pattern)；其次，涂布(coating)，即在第一基板110上涂布一层遮光层材料，遮光层材料可以是正性光阻材料或者负性光阻材料，一般情况下，遮光层材料为负性光阻材料，最后，通过曝光和显影，将掩膜版上的图案转移到第一基板110上，从而形成遮光层111。通过对掩膜版的图案(pattern)进行设计，以使在第一基板110上形成具有多个间隙或小孔的多个遮光块。
如图3所示，为本发明实施例提供的另一种液晶显示屏100的制作方法的流程示意图，在S102步骤之后，还包括：
S104步骤：提供第二基板120。
具体地，第二基板120是指，在形成液晶盒之后，在进行HVA制程时，远离紫外光照射的一侧的基板，一般情况下，第二基板120是指阵列基板。
其中，第二基板120还包括色阻层121，色阻层121包括多个色阻块，多个色阻块与多个遮光块相对交错设置，通过遮光块以将色阻块隔开。
具体地，如图2所示，为本发明一种实施例的液晶显示屏100的结构示意图，包括：第一基板110、位于第一基板110上的遮光层111和第一聚合层112、与第一基板110相对设置的第二基板120、位于第二基板120上的色阻层121和第二聚合层122以及位于第一基板110与第二基板120之间的液晶层130，其中，遮光层111包括多个遮光块，色阻层121包括多个色阻块，多个色阻块与多个遮光块相对交错设置，通过遮光块将色阻块隔开，防止亚像素之间混色。色阻层121一般由R、G、B三基色组成，色阻层121的作用是吸收自然光中的一部分光谱，仅透过与之匹配的单色色谱，形成混色中的基色。此外，第一基板110还可以包括衬底基板、平坦层(Over Coater，OC)和像素电极或者公共电极(未在图中标序)，第二基板120还可以包括衬底基板、阵列晶体管层、平坦层(Over Coater，OC)和公共电极或者像素电极(未在图中标序)。
具体地，由于第一基板110上设有遮光层111，在形成液晶盒之后，进行紫外光照射时会后受遮光层111的限制，导致第一聚合层112和第二聚合层122成膜均一性差的问题，通过在遮光块上形成多个间隙或小孔(未在图中示出)，紫外光可以透过间隙或者小孔照射到第一基板110的下方和第二基板120的上方设有遮光层111或者被遮光层111所遮挡的区域，改善了成膜不均的问题。此外，通过在遮光层材料中加入自愈合材料，以使遮光块在加热条件下，消除遮光块上的多个间隙或小孔，从而在不改变液晶显示屏100原有结构的情况下，有效地改善了聚合物成膜不均的问题，进而提高了液晶显示屏100的品质。
其中，第一基板210还包括色阻层212，色阻层212包括多个色阻块，多个色阻块紧靠多个遮光块，通过遮光块以将色阻块隔开。
具体地，不同于图2所示的液晶显示屏100，如图4所示，为本发明另一种实施例的液晶显示屏200的结构示意图，包括：第一基板210、位于第一基板210的遮光层211、色阻层212和第一聚合层213、与第一基板210相对设置的第二基板220、位于第二基板220上的第二聚合层221以及位于第一基板210与第二基板220之间的液晶层230，其中，遮光层211包括多个遮光块，色阻层212包括多个色阻块(图中未标序)，多个色阻块紧靠多个遮光块，通过遮光块将色阻块隔开，防止亚像素之间混色。此外，第一基板210还可以包括衬底基板、平坦层(Over Coater，OC)和像素电极或者公共电极(未在图中标序)，第二基板220还可以包括衬底基板、阵列晶体管层、平坦层和公共电极或者像素电极(未在图中标序)。
具体地，如图4所示，由于第一基板210上设有遮光层211，在形成液晶盒之后，进行紫外光照射时会后受遮光层211的限制，导致第一聚合层213和第二聚合层221成膜均一性差的问题，通过在遮光块形成多个间隙或小孔，紫外光可以透过间隙或者小孔照射到第一基板210的下方和第二基板220的上方设有遮光层211或者被遮光层所遮挡的区域，改善了成膜不均的问题。此外，通过在遮光层材料中加入自愈合材料，以使遮光块在加热条件下，消除遮光块上的多个间隙或小孔，从而在不改变液晶显示屏200原有结构的情况下，有效地改善了聚合物成膜不均的问题，进而提高了液晶显示屏200的品质。
S105步骤：将第一基板110与第二基板120相对设置，并在第一基板110和第二基板120之间填充液晶层，以形成液晶盒，其中，液晶层的材料包括添加材料和聚合反应性单体，添加材料用于，控制液晶层的排列方向。
具体地，现有技术的液晶盒制造工程中，除了各种清洗工艺之外，主要工艺步骤包括液晶取向层的涂布和摩擦、液晶滴注、边框胶涂布、真空对盒、切割、研磨和液晶盒检测。取向技术是利用物理或者化学的方法，通过取向膜使液晶分子以一定的预倾角沿着同一方向排列，换句话说，就是让取向膜对液晶分子形成各向异性排列的能力。一般情况下，液晶分子的取向技术有两种，即摩擦取向技术和光控取向技术。摩擦取向技术是一种物理方法，它是利用滚筒外侧的经过特殊处理的摩擦布，在取向层表面摩擦出一定深度、有方向性的沟槽，根据聚酰亚胺膜和液晶分子间的相互作用力，来实现液晶分子的取向。摩擦取向技术的配向膜一般采用的是聚酰亚胺，聚酰亚胺材料对液晶分子的取向作用强而且性能稳定，材料本身的热稳定性、耐化学腐蚀性和耐环境性都很好，因此是应用最普遍的液晶取向层材料。而光控取向技术是指，利用紫外光敏聚合物单体材料的光化学反应产生各向异性，产生各向异性实现液晶分子的排列取向。相比摩擦取向，光控取向技术的优势在于，产品的良率大幅度提升和显示器暗态性能优良。
其中，一般液晶层材料中包括聚合反应性单体(Reaction Monomer，RM)，通过在液晶层材料中加入添加材料(Additive Material)，来实现光控取向技术(PI-less技术)，使液晶分子以一定的预倾角沿着同一方向排列，以控制液晶层的排列方向。添加材料可以是任意一种或者多种能实现光控取向技术的材料，比如光交联类材料，像感光肉桂酸酯聚合物或者丙烯腈类等，具体不作限制。
其中，添加材料包括可聚合性基团。
具体地，添加材料可以是包括可聚合性基团的材料，如碳碳双键，或者是能够与基板进行自组装的基团，比如多羟基(-OH)、刚性骨架或者三联苯骨架。通过在采用包括可聚合性基团的添加材料，取代摩擦取向技术的配向膜的聚酰亚胺，使液晶分子以一定的预倾角沿着同一方向排列，以控制液晶层的排列方向。
S106步骤：在第一基板110和第二基板120上施加电压，并对液晶盒由靠近第一基板110到远离第二基板120的方向进行紫外光照射，使添加材料与聚合反应性单体发生聚合反应，生成第一聚合层112和第二聚合层122，第一聚合层112和第二聚合层122分别位于第一基板110和第二基板120上，第一聚合层112和第二聚合层122用于，控制液晶层的排列方向。
具体地，在S105步骤形成液晶盒之后，对液晶盒进行HVA制程。HVA制程是指，对液晶盒加上电压，使得液晶层发生偏转，与此同时，采用紫外光从彩膜基板向阵列基板的方向进行照射，由于在液晶层材料中有添加材料和聚合反应性单体，此时，添加材料和聚合反应性单体会发生聚合反应，生成聚合物(polymer)，位于第一基板110上的为第一聚合层112，位于第二基板120上的为第二聚合层122，通过第一聚合层112和第二聚合层122，使液晶分子以一定的预倾角沿着同一方向排列，以控制液晶层的排列方向。然而，由于在第一基板110上设有遮光层111，遮光层111会阻挡紫外光照射到第一基板110的下方和第二基板120的上方，导致在第一基板110和第二基板120上分别形成的第一聚合层112和第二聚合层122不能形成完整的膜或者形成的膜的均一性差，从而造成液晶分子的配向不良，进而导致液晶显示屏100的电性差的问题。通过在遮光层111的多个遮光块上设有多个间隙或者小孔，当采用HVA制程时，紫外光可以从遮光块上的间隙或者小孔透过，照射到第一基板110的下方和第二基板120的上方，以改善在第一基板110和第二基板120上形成的第一聚合层112和第二聚合层122不能形成完整的膜或者形成的膜均一性差的问题，提高液晶显示屏100的品质。
S103步骤：对多个遮光块进行加热，使间隙或小孔中填满遮光层材料。
具体地，遮光块上的间隙的宽度和小孔的直径主要影响紫外光的透光面积，从而影响聚合物成膜的均一性，间隙的宽度和小孔的直径越大，聚合物成膜的均一性越好，对应地，对遮光块进行加热自愈合的性能会降低，因此，遮光块上的间隙的宽度和小孔的直径既不能过大，也不能过小。优选地，遮光块上的间隙的宽度不大于80微米(um)，小孔的直径范围为50-80微米。
其中，对多个遮光块进行加热的温度范围包括70～120摄氏度。
具体地，对遮光块进行加热，由于遮光层材料中含有自愈合材料，自愈合材料是一种可快速自修复的高韧高强聚合物，在加热的条件下，遮光块上的间隙和小孔可以迅速恢复，同时表现出良好的重复刮擦自修复功能。其中，对多个遮光块进行加热的温度范围为70～120摄氏度。优选地，对多个遮光块进行加热的温度范围为70摄氏度，在温和加热条件下(70℃)，自愈合材料的表面划痕可在60s内迅速恢复，同时表现出良好的重复刮擦自修复功能。
其中，自愈合材料用于如上述任一项液晶显示屏100的制作方法中，自愈合材料的制作方法包括：
对聚四亚甲基醚二醇进行真空加热，以使聚四亚甲基醚二醇融化并除去其水分；
加入氢化的4，4’-亚甲基二苯基二异氰酸酯，以反应生成催化剂二月桂酸二丁基锡；
加入双(2-羟乙基)二硫化物和N-二甲基乙酰胺溶剂，以合成自愈合材料。
具体地，可以通过“硬段锁定”和“微相分离控制”相结合的策略，设计出一种自愈合材料，比如，含二硫键自愈聚氨酯弹性体(PUDS)，具体的制备方法如下：首先，聚氨酯预聚物的合成，对聚四亚甲基醚二醇(PTMEG)进行真空加热，以使聚四亚甲基醚二醇融化并除去其水分；其次，加入两当量的氢化的4，4’-亚甲基二苯基二异氰酸酯(HMDI)，反应生成催化剂二月桂酸二丁基锡(DBTDL)；最后，加入作为扩链剂的双(2-羟乙基)二硫化物(HEDS)和作为溶剂的N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)，合成自愈合材料。此外，该自愈合材料还可以用于其它技术领域，并不局限于用于如上述任一项液晶显示屏100的制作方法中，具体不作限制。
基于上述实施例描述的液晶显示屏100的制作方法，本申请实施例还提供了一种液晶显示屏，包括：第一基板110、位于第一基板110上依次层叠设置的遮光层111和第一聚合层112、与第一基板110相对设置的第二基板120以及位于第二基板120上依次层叠设置的色阻层121和第二聚合层122，其中，遮光层111的材料包括自愈合材料，液晶层130的材料包括添加材料和聚合反应性单体，添加材料用于，控制液晶层的排列方向，遮光层111和第一聚合层112位于第一基板110上靠近第二基板的一侧，色阻层121和第二聚合层122位于第二基板120上靠近第一基板110的一侧，遮光层111包括多个遮光块，色阻层121包括多个色阻块，多个色阻块与多个遮光块相对交错设置，通过遮光块以将色阻块隔开。
具体地，如图2所示，由于第一基板110上设有遮光层111，在形成液晶盒之后，进行紫外光照射时，液晶层130中的添加材料与聚合反应性单体发生聚合反应，生成第一聚合层112和第二聚合层122，由于受遮光层111的限制，导致第一聚合层112和第二聚合层122成膜均一性差的问题。通过在遮光层111的材料中加入自愈合材料，再对遮光层111的掩膜版的图案进行调整，以将该遮光层的材料形成具有多个间隙或小孔的遮光块，紫外光可以透过间隙或者小孔照射到第一基板110的下方和第二基板120的上方设有遮光层111或者被遮光层111所遮挡的区域，改善了第一聚合层112和第二聚合层122成膜不均的问题。在第一聚合层112和第二聚合层122成膜之后，对加入自愈合材料的遮光层进行加热，由于遮光层的材料中含有自愈合材料，在加热的条件下能消除遮光块上的多个间隙或小孔，从而在不改变液晶显示屏100原有结构的情况下，有效地改善成膜不均的问题，进而提高了液晶显示屏100的品质。
由上述可知，本发明提供了一种液晶显示屏及其制作方法，液晶显示屏的制作方法包括：提供第一基板；以遮光层材料在第一基板上形成遮光层，遮光层包括纵横交错的多个遮光块，并使各多个遮光块形成有多个间隙或小孔，其中，遮光层材料包括自愈合材料；对多个遮光块进行加热，使间隙或小孔中填满遮光层材料，通过在遮光块上形成多个间隙或小孔，解决了由于受遮光块的限制导致形成的聚合物成膜均一性差的问题，与此同时，通过在遮光层材料中加入自愈合材料，以使遮光块在加热条件下，消除遮光块上的多个间隙或小孔，从而在不改变液晶显示屏原有结构的情况下，有效地改善了聚合物成膜不均的问题，进而提高了液晶显示屏的品质。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种液晶显示屏的制作方法，其特征在于，包括：
提供第一基板；
以遮光层材料在所述第一基板上形成遮光层，所述遮光层包括纵横交错的多个遮光块，并使各所述多个遮光块形成有多个间隙或小孔，其中，所述遮光层材料包括自愈合材料；
对所述多个遮光块进行加热，使所述间隙或所述小孔中填满所述遮光层材料。
2.如权利要求1所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，在所述以遮光层材料在所述第一基板上形成遮光层之后，还包括：
提供第二基板；
将所述第一基板与所述第二基板相对设置，并在所述第一基板和第二基板之间填充液晶层，以形成液晶盒，其中，所述液晶层的材料包括添加材料和聚合反应性单体，所述添加材料用于，控制所述液晶层的排列方向；
在所述第一基板和所述第二基板上施加电压，并对所述液晶盒由靠近所述第一基板到远离所述第二基板的方向进行紫外光照射，使所述添加材料与所述聚合反应性单体发生聚合反应，生成第一聚合层和第二聚合层，所述第一聚合层和所述第二聚合层分别位于所述第一基板和所述第二基板上，所述第一聚合层和所述第二聚合层用于，控制所述液晶层的排列方向。
3.如权利要求2所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，所述第二基板还包括色阻层，所述色阻层包括多个色阻块，所述多个色阻块与所述多个遮光块相对交错设置，通过所述遮光块以将所述色阻块隔开。
4.如权利要求2所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，所述添加材料包括可聚合性基团。
5.如权利要求1所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，所述对所述多个遮光块进行加热的温度范围包括70～120摄氏度。
6.如权利要求1所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，所述第一基板还包括色阻层，所述色阻层包括多个色阻块，所述多个色阻块紧靠所述多个遮光块，通过所述遮光块以将所述色阻块隔开。
7.如权利要求1所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，所述自愈合材料包括含二硫键自愈聚氨酯弹性体。
8.如权利要求1所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，在所述以遮光层材料在所述第一基板上形成遮光层之前，还包括：
提供掩膜版，所述掩膜版用于，通过光刻工艺以使在所述第一基板上形成具有多个所述间隙或所述小孔的所述多个遮光块。
9.如权利要求1所述的液晶显示屏的制作方法，其特征在于，所述自愈合材料在所述遮光层材料的质量百分数的范围包括1～10％。
10.一种液晶显示屏，其特征在于，包括：第一基板、位于所述第一基板上依次层叠设置的遮光层和第一聚合层、与所述第一基板相对设置的第二基板以及位于所述第二基板上依次层叠设置的色阻层和第二聚合层，其中，所述遮光层的材料包括自愈合材料，所述液晶层的材料包括添加材料和聚合反应性单体，所述添加材料用于，控制所述液晶层的排列方向，所述遮光层和所述第一聚合层位于所述第一基板上靠近所述第二基板的一侧，所述色阻层和所述第二聚合层位于所述第二基板上靠近所述第一基板的一侧，所述遮光层包括多个遮光块，所述色阻层包括多个色阻块，所述多个色阻块与所述多个遮光块相对交错设置，通过所述遮光块以将所述色阻块隔开。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113703228A (zh) * 2021-08-24 2021-11-26 Tcl华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示面板的制作方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001074928A (ja) * 1998-12-09 2001-03-23 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびその製造方法
CN109407390A (zh) * 2018-11-28 2019-03-01 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
CN109856848A (zh) * 2019-03-26 2019-06-07 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及预倾角形成方法
CN111025738A (zh) * 2019-12-23 2020-04-17 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN111367103A (zh) * 2018-12-25 2020-07-03 群创光电股份有限公司 显示装置及其制造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001074928A (ja) * 1998-12-09 2001-03-23 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびその製造方法
CN109407390A (zh) * 2018-11-28 2019-03-01 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
CN111367103A (zh) * 2018-12-25 2020-07-03 群创光电股份有限公司 显示装置及其制造方法
CN109856848A (zh) * 2019-03-26 2019-06-07 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及预倾角形成方法
CN111025738A (zh) * 2019-12-23 2020-04-17 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113703228A (zh) * 2021-08-24 2021-11-26 Tcl华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示面板的制作方法
CN113703228B (zh) * 2021-08-24 2023-06-02 Tcl华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示面板的制作方法

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