CN113317725A - 基站设备及清洁系统 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种基站设备，包括：基座，具有基座腔体，基座腔体具有气流进口以及气流出口；托盘，设置在基座上，经由基座腔体的气流出口输出的气流至少能够流经托盘；以及基站主体，形成有至少一个容纳腔，至少一个容纳腔包括清洁液体容纳腔；所述基座作为完整的单元，能够独立地和/或互换地从所述基站主体上移除。本公开还提供一种清洁系统。

Description

基站设备及清洁系统

技术领域

本公开属于清洁技术领域，本公开尤其涉及一种基站设备及清洁系统。

背景技术

现有技术中的表面清洁装置通常可以用于加湿擦洗清洁硬地板或短毛地毯。这种清洁装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的滚刷或清洁盘。可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。

当清洁设备在污垢上移动时，已经被滚刷擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢通过沿滚刷运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。

热水的清洁效果是显著有效的。表面清洁装置回到基站设备，通过加水接头与基站设备的水箱对接，实现自动补水，然后继续用热水清扫。

但是在室内温度较低的条件下，热水喷洒到滚刷上清扫的方式，对能量消耗效率来说是不友好的。因为滚刷一般为植毛或绒毛，其具有很大的表面积，在室温较低的情况下，热水喷洒的前一段时间，由于对滚刷的预热和热量的耗散，滚刷仍然有可能是凉水或温水附着状态，此时，在清洁开始的一段时间内，清洁设备的滚刷热水温度始终不能达到理想温度，影响清洁效率。

另外一种情形是，在清洁动作完毕，滚刷自清洁之后，滚刷上和基站设备的托盘上仍然会残留水分，为细菌的附着和滋生创造了条件。因此，清洁工作结束后，需要将滚刷上的水分和托盘上的水分去除。

而且，现有技术中的基站设备的结构设计未考虑到基站设备的拆卸、维修等需求，往往进行整体化设计，基站设备的功能受到局限。而且，现有技术中的基站设备往往具有供电、供水(或其他清洁用液体)、回收清洁装置内的清水(或其他清洁用液体)的功能，未进行严格的防水、避水结构设计，具有较大的安全隐患。

发明内容

为了解决上述技术问题中的至少一个，本公开提供一种基站设备及清洁系统。

本公开的基站设备及清洁系统通过以下技术方案实现。

根据本公开的一个方面，提供一种基站设备，包括：

基座，所述基座具有基座腔体，所述基座腔体具有气流进口以及气流出口；

托盘，所述托盘设置在所述基座上，经由所述基座腔体的气流出口输出的气流至少能够流经所述托盘；以及，

基站主体，所述基站主体形成有至少一个容纳腔，所述至少一个容纳腔包括清洁液体容纳腔；

所述基座作为完整的单元，能够独立地和/或互换地从所述基站主体上移除。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述基站主体与所述基座可拆卸地连接，所述基站主体具有第一盖部，所述第一盖部的周向边缘的至少一部分形成有第一液体收集导向部，经由所述第一液体收集导向部，所述基站主体的临近所述第一液体收集导向部的表面区域的液体能够被收集导向。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述基站主体还包括支撑部，所述支撑部与所述第一盖部能够可拆卸地连接，所述支撑部的底部包括多个凸起部，至少经由所述多个凸起部，所述基站主体能够定位至所述基座。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述基座包括多个容纳座，所述凸起部能够被所述容纳座容纳以使得所述基站主体定位至所述基座，所述容纳座的数量与所述凸起部的数量相同。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述凸起部与所述容纳座的数量均为两个，其中一个凸起部设置有液体接口，所述液体接口用于与基站设备之外的清洁设备的液体接口连接，另一个凸起部设置有电接口，其中一个容纳座设置有电接口，以与凸起部的所述电接口电连接。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述第一液体收集导向部至少包括横向段以及竖直段，所述横向段与所述竖直段为连续结构。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述横向段的数量为两段，所述竖直段的数量为一段，所述竖直段设置在两段横向段之间。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述清洁液体容纳腔的外壁面上设置有第二液体收集导向部，所述第二液体收集导向部的延伸方向与所述第一液体收集导向部的竖直段的延伸方向相同，且与所述第一液体收集导向部的竖直段配合形成周向密闭结构。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述第一液体收集导向部的所述横向段为水平段。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述第一液体收集导向部的所述横向段为倾斜横向段。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述第一盖部上设置有至少一个进气部，所述至少一个进气部与所述基座腔体的气流进口对应地设置，使得经由所述进气部进入基站主体的气流至少能够经由所述基座腔体的气流进口进入所述基座腔体。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述进气部为弧形区域，所述弧形区域形成在所述第一盖部的侧壁与后壁的连接区域。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述基座包括：

基座壳体，所述基座壳体形成所述基座腔体；

气流产生装置，所述气流产生装置设置在所述基座内，用于产生由所述气流进口向所述气流出口流动的气流；

加热机构，所述加热机构设置在所述基座腔体内，所述加热机构能够对所述流动的气流进行加热；以及

气流导向装置，所述气流导向装置具有进气口以及出气口，所述气流导向装置对所述气流产生装置产生的所述流动的气流进行导向，至少将所述流动的气流由所述气流产生装置导向至所述加热机构。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述气流导向装置的数量为两个以上，至少一个所述气流导向装置的进气口面积大于出气口面积。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述气流产生装置的数量与所述气流导向装置的数量相同。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述气流导向装置为扁平喇叭状结构。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述气流导向装置的进气口设置有至少一个进气口导流部，所述至少一个进气口导流部对进入所述进气口的气流进行导流。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述气流导向装置的出气口设置有至少一个出气口导流部，所述至少一个出气口导流部对经由所述出气口流出的气流进行导流。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述气流导向装置包括导向装置上壳体以及导向装置下壳体，所述导向装置上壳体与所述导向装置下壳体可拆卸地连接。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述出气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁延伸至所述导向装置下壳体的内壁。

根据本公开的至少一个实施方式的基站设备，所述进气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁向下延伸，不延伸至所述导向装置下壳体的内壁。

根据本公开的另一个方面，提供一种表面清洁系统，包括：

清洁设备；以及上述任一项所述的基站设备，所述基站设备至少用于对所述清洁设备的清洁部进行干燥处理。

附图说明

附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。

图1是本公开的一个实施方式的基站设备的整体结构示意图。

图2是本公开的一个实施方式的基站设备的基站主体的一个视角的结构示意图。

图3是本公开的一个实施方式的基站设备的基站主体的另一个视角的结构示意图。

图4和图5分别是本公开的一个实施方式的基站设备的基站主体的第一盖部的两个视角的结构示意图。

图6是本公开的一个实施方式的基站设备的基站主体的支撑部的结构示意图。

图7和图8分别是本公开的一个实施方式的基站设备的基站主体的第一盖部的两个视角的局部结构示意图。

图9是本公开的一个实施方式的基站设备的基站主体的局部结构示意图。

图10是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的整体结构示意图。

图11是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的另一个视角的整体结构示意图。

图12是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的整体结构示意图。

图13是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的一个视角的局部结构示意图。

图14是本公开的一个实施方式的基站设备的托盘的结构示意图。

图15是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图16是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图17是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的加热机构的结构示意图。

图18是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图19是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的又一个视角的局部结构示意图。

图20是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的气流导向装置的局部结构示意图。

图21是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的水位检测部的结构示意图。

图22是本公开的一个实施方式的基站设备的基座的剖面结构示意图。

附图标记说明

100 基座

101 基座下壳体

102 基座上壳体

110 托盘

120 气流导向装置

121 导向装置上壳体

122 进气口导流部

123 出气口导流部

124 导向装置下壳体

130 气流产生装置

140 导风部

150 加热机构

160 水位检测部

170 温控开关

190 气流出口

200 基站主体

201 清洁液体容纳腔

202 第一盖部

203 收纳腔

204 支撑部

205 第二液体收集导向部

1000 基站设备

1011 容纳座

1101 槽部

1102 安装结构

1501 发热体

1502 发热体包裹体

1503 形成多孔结构

1601 电极部

1602 电路板

2021 进气部

2022 第一液体收集导向部

2041 凸起部。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。

除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。

在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。

当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。

为了描述性目的，本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如，在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。

这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。

下文参考图1至图22对本公开的基站设备以及清洁系统进行详细说明。

首先参考图1至图5以及图10至图14，本公开的一个实施方式的基站设备1000包括：

基座100，基座100具有基座腔体，基座腔体具有气流进口以及气流出口190；

托盘110，托盘110设置在基座100上，经由基座腔体的气流出口输出的气流至少能够流经托盘110；以及，

基站主体200，基站主体200形成有至少一个容纳腔至少一个容纳腔包括清洁液体容纳腔201；

其中，基座100作为完整的单元，能够独立地和/或互换地从基站主体200上移除。

本公开通过将基座100设计为完整的独立单元，例如可以在基座100发生故障、损坏等情况时，单独地将基座100从基站主体200上移除进行检测、返厂维修等，可以使用新的基座或者临时的基座来互换地替换发生故障的基座。

其中，基站主体200与基座100可拆卸地连接，基站主体200具有第一盖部202，第一盖部202的周向边缘的至少一部分形成有第一液体收集导向部2022，经由第一液体收集导向部2022，基站主体200的临近第一液体收集导向部2022的表面区域的液体能够被收集导向。

其中，基站主体200可以通过第一盖部202与基座100可拆卸地固定连接，图3和图4均示例性地示出了第一盖部202的形状，本实施方式中，第一盖部202为后盖部。

本公开的基站设备1000，基座100可以作为完整的单元从基站主体200移除，基站主体200也可以作为完整的单元从基座100移除。本公开的托盘110可以作为完整的单元从基座100上移除。

其中，经由基座腔体的气流出口输出的气流能够流经托盘110的上表面。

通过设置上述第一液体收集导向部2022，使得在不增大基站主体200的体积的情况下，形成表面液体收集导向结构，将基站主体200的表面上的液体导出至基站设备之外，防止强电接触到水等液体导致短路导致基站设备故障或者火灾的发生。

对于上述实施方式的基站设备1000，优选地，参考图2以及图6，基站主体200还包括支撑部204，支撑部204与第一盖部202能够可拆卸地连接，支撑部204的底部包括多个凸起部2041，至少经由多个凸起部2041，基站主体200能够定位至基座100。

其中，支撑部204可以对上文描述的至少一个容纳腔进行支撑，至少一个容纳腔可以包括收纳腔203以及清洁液体容纳腔201。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，参考图6以及图11，优选地，基座100包括多个容纳座1011，凸起部2041能够被容纳座1011容纳以使得基站主体200定位至基座100，容纳座1011的数量与凸起部2041的数量相同。

根据本公开的优选实施方式，凸起部2041与容纳座1011的数量均为两个，其中一个凸起部2041设置有液体接口，液体接口用于与基站设备1000之外的清洁设备的液体接口连接，另一个凸起部2041设置有电接口，其中一个容纳座1011设置有电接口，以与凸起部2041的电接口电连接。

其中，上文描述的凸起部2041上的液体接口与清洁液体容纳腔201连通。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，参考图5、图7以及图8，优选地，第一液体收集导向部2022至少包括横向段以及竖直段，横向段与竖直段为连续结构。

通过设置横向段，可以增大液体收集的收集区域，通过设置竖直段，可以提高液体导向的导向效率。

其中，第一液体收集导向部2022可以为液体收集导向槽的形式。

根据本公开的优选实施方式，参考图5、图7以及图8，横向段的数量为两段，竖直段的数量为一段，竖直段设置在两段横向段之间。

对于上述实施方式的基站设备1000，优选地，参考图9，清洁液体容纳腔201的外壁面上设置有第二液体收集导向部205，第二液体收集导向部205的延伸方向与第一液体收集导向部2022的竖直段的延伸方向相同，且与第一液体收集导向部2022的竖直段配合形成周向密闭结构。

其中，第一液体收集导向部2022的横向段为水平段。

根据本公开的优选实施方式，上述各个实施方式中的第一液体收集导向部2022的横向段为倾斜横向段。

通过将横向段设置为倾斜横向段，即将横向段设计为具有适当的倾斜程度，能够提高第一液体收集导向部2022的导向效率。

再次参考图3，通过对上文描述的第一液体收集导向部2022设置不同的收集导向段，可以使得收集的液体沿着A方向导向至基站设备之外，也可以使得收集的液体沿着B方向导向至基站设备之外，或者使得收集的液体沿着A方向以及B方向导向至基站设备之外。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，参考图2及图3，第一盖部202上设置有至少一个进气部2021，至少一个进气部2021与基座腔体的气流进口对应地设置，使得经由进气部2021进入基站主体200的气流至少能够经由基座腔体的气流进口进入基座腔体。

其中，根据本公开的优选实施方式，进气部2021为弧形区域，弧形区域形成在第一盖部202的侧壁与后壁的连接区域。

参考图3，通过本实施方式的进气部2021的位置、结构设计，将进气部2021设置在第一盖部202的侧壁与后壁的连接区域，而非正后面，防止基站设备贴墙时，导致墙面挡住进气部2021从而影响进风量，影响烘干效果。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，基座100包括：

基座壳体，基座壳体形成基座腔体；

气流产生装置130，气流产生装置130设置在基座100之内，用于产生由基座腔体的气流进口向基座腔体的气流出口流动的气流；

加热机构150，加热机构150设置在基座腔体之内，加热机构150能够对流动的气流进行加热；以及，

气流导向装置120，气流导向装置120具有进气口以及出气口，气流导向装置120对气流产生装置130产生的流动的气流进行导向，至少将流动的气流由气流产生装置130导向至加热机构150。

本公开通过设置气流导向装置120，将气流由气流产生装置130导向至加热机构150，能够增大加热机构150的气流利用效率，在不需要过大的功率的情况下，气流产生装置130即能够满足使用要求的气流量，降低基座100的功耗，其中，气流产生装置130可以是风扇装置等。本领域技术人员可以基于实际情形选择是否启动加热机构150，以选择进行烘干操作或者风干操作。

气流产生装置130可以是风扇装置或者风机装置，数量可以是一个也可以是两个以上，图12中示出了两个气流产生装置130，根据本公开的优选实施方式，气流产生装置130还套设有缓冲层或缓冲垫，缓冲层或缓冲垫可以是风机套的形式，以缓冲气流产生装置130在工作过程的振动。

如图11以及图12所示，气流产生装置130可以设置在基座下壳体101上，气流产生装置130可以不设置在基座腔体之内，本领域技术人员也可以对其设置位置进行适当地调整。

根据本公开的优选实施方式，基座100的气流导向装置120的数量为两个以上，至少一个气流导向装置120的进气口面积大于出气口面积。

通过将气流导向装置120的数量设置为两个以上，是为了在清洁设备(例如洗地机设备)的滚刷较长时，保证整个滚刷的长度方向均能够被烘干/风干，保证烘干/风干效果，缩短烘干/风干时间。

图10、图13示出了两个气流导向装置120。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，基座100的气流产生装置130的数量与气流导向装置120的数量相同。

根据本公开的优选实施方式的基座100，气流导向装置120为扁平喇叭状结构。

通过将气流导向装置120设置为扁平喇叭状结构，能够在满足对气流进行导向需求的同时，节省占用空间，不导致基座100尺寸的增大。

参考图13，根据本公开的优选实施方式，基座100的气流导向装置120的进气口设置有至少一个进气口导流部122，至少一个进气口导流部122对进入进气口的气流进行导流。

其中，进气口导流部122可以是导流片的形式，图13中示例性地示出了两个进气口导流部122，本领域技术人员可以对进气口导流部122的结构、数量进行适当地调整。

通过设置进气口导流部122，能够进一步提高气流产生装置130的利用效率。

参考图18以及图20，根据本公开的优选实施方式，基座100的气流导向装置120的出气口设置有至少一个出气口导流部123，至少一个出气口导流部123对经由出气口流出的气流进行导流。

其中，出气口导流部123可以是导流片的形式，图18和图20中示例性地示出了一个出气口导流部123，本领域技术人员可以对出气口导流部123的结构、数量进行适当地调整。

通过设置出气口导流部123，能够使得气流被加热机构150充分加热。

对于上述各个实施方式的基站设备，参考图22，基座100的气流导向装置120包括导向装置上壳体121以及导向装置下壳体124，导向装置上壳体121与导向装置下壳体124可拆卸地连接。

优选地，出气口导流部123由导向装置上壳体121的内壁延伸至导向装置下壳体124的内壁。出气口导流部123可以固定设置在导向装置上壳体121的内壁上。

根据本公开的优选实施方式，进气口导流部122由导向装置上壳体121的内壁向下延伸，不延伸至导向装置下壳体124的内壁。

本实施方式中的进气口导流部122的上述结构设计，是为了在满足对气流产生装置130产生的气流导向的同时，避免对由进气口进入的气流进行过度阻挡。进气口导流部122可以固定设置在导向装置上壳体121的内壁。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，参考图10至图14，优选地，还包括托盘110，托盘110设置在基座壳体上，托盘110具有导风口，经由气流出口190流出的气流经由托盘110的导风口输出至托盘110上。

参考图22，托盘110安装在基座壳体上时，导风口恰好与气流出口190对上，气流可以按照箭头方向流动，以对放置于托盘110上的滚刷等部件进行烘干或者风干。

根据本公开的优选实施方式，参考图16、图19，基座100还包括导风部140，导风部140对导风口的出风进行导向，导向为朝向托盘110的槽部1101。

参考图14，槽部1101为托盘110上的凹形区域，用于放置滚刷等部件。图14中还示出了托盘110上的安装结构1102，通过安装结构1102将托盘110与基座壳体可拆卸地安装。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，基座100的基座壳体包括基座下壳体101以及基座上壳体102，基座下壳体101与基座上壳体102可拆卸地连接。

对于上述各个实施方式，优选地，加热机构150包括发热体1501以及发热体包裹体1502，发热体包裹体1502为开放式结构，以使得流动的气流能够被发热体1501加热。

根据本公开的优选实施方式，加热机构150为双层结构，参考图17，具有两层发热体1501及发热体包裹体1502，两层结构之间形成多孔结构1503，以利于气流的流动。

其中，发热体1501可以为PTC发热体，发热体包裹体1502优选地采用耐高温材质，防止加热后变形而导致加热机构的功能失效。

根据本公开的优选实施方式，加热机构150与基座壳体的内壁之间设置间隙，防止热量的过快传导至基座壳体。

对于上述各个实施方式的基站设备1000，优选地，参考图18，基座100还包括温控开关170，温控开关170与发热体1501的加热电路连接，温控开关170能够基于发热体1501的温度对发热体1501的工作状态进行控制。

优选地，当温控开关170检测到发热体1501的温度达到第一预设阈值时，温控开关170跳闸以将发热体1501的加热电路断开，当温度降到第二预设阈值时，温控开关170自动接通，发热体1501继续加热，从而保证出风温度始终保持在预设范围，保证烘干效果。

优选地，温控开关170通过硅脂紧贴发热体1501。

对于上述各个实施方式的基座100，参考图13，优选地，气流导向装置120的进气口可以作为基座100的基座腔体的气流进口。

对于上述各个实施方式，基座100的气流产生装置130临近气流导向装置120的进气口设置。

参考图15和图16，优选地，基座100的基座下壳体101的内侧壁上设置有存水部或存水区，存水部或存水区位于加热机构150与基座100的气流出口190之间。

更优选地，存水部或存水区内设置有水位检测部160，当存水部或存水区内的水位到达预设水位时，水位检测部160生成触发信号。

参考图21，优选地，水位检测部160包括电路板1602以及设置在电路板1602的同一侧的至少两根电极部1601，电极部1601与存水部或存水区的最低位置具有预设间距。

优选地，电极部1601的数量为两个，且具有相同长度。

上述实施方式中，水位检测部160通过支撑部被支撑在存水部或存水区之内。

本公开的基站设备1000，可以在清洁设备工作之前，将清洁设备置于基座100上，对清洁设备的清洁部(例如滚刷)进行预热，也可以拆卸下上文描述的托盘110，直接将清洁设备的清洁部放置于基座100的基座上壳体102上进行预热。

本公开的基站设备1000，还可以在清洁设备工作结束之后，将清洁设备置于基座100上，对清洁设备的清洁部进行烘干。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (10)

1.一种基站设备，其特征在于，包括：

基座，所述基座具有基座腔体，所述基座腔体具有气流进口以及气流出口；

托盘，所述托盘设置在所述基座上，经由所述基座腔体的气流出口输出的气流至少能够流经所述托盘；以及

基站主体，所述基站主体形成有至少一个容纳腔，所述至少一个容纳腔包括清洁液体容纳腔；

所述基座作为完整的单元，能够独立地和/或互换地从所述基站主体上移除。

2.根据权利要求1所述的基站设备，其特征在于，所述基站主体与所述基座可拆卸地连接，所述基站主体具有第一盖部，所述第一盖部的周向边缘的至少一部分形成有第一液体收集导向部，经由所述第一液体收集导向部，所述基站主体的临近所述第一液体收集导向部的表面区域的液体能够被收集导向。

3.根据权利要求2所述的基站设备，其特征在于，所述基站主体还包括支撑部，所述支撑部与所述第一盖部能够可拆卸地连接，所述支撑部的底部包括多个凸起部，至少经由所述多个凸起部，所述基站主体能够定位至所述基座。

4.根据权利要求3所述的基站设备，其特征在于，所述基座包括多个容纳座，所述凸起部能够被所述容纳座容纳以使得所述基站主体定位至所述基座，所述容纳座的数量与所述凸起部的数量相同。

5.根据权利要求4所述的基站设备，其特征在于，所述凸起部与所述容纳座的数量均为两个，其中一个凸起部设置有液体接口，所述液体接口用于与基站设备之外的清洁设备的液体接口连接，另一个凸起部设置有电接口，其中一个容纳座设置有电接口，以与凸起部的所述电接口电连接。

6.根据权利要求2所述的基站设备，其特征在于，所述第一盖部上设置有至少一个进气部，所述至少一个进气部与所述基座腔体的气流进口对应地设置，使得经由所述进气部进入基站主体的气流至少能够经由所述基座腔体的气流进口进入所述基座腔体。

7.根据权利要求6所述的基站设备，其特征在于，所述进气部为弧形区域，所述弧形区域形成在所述第一盖部的侧壁与后壁的连接区域。

8.根据权利要求2所述的基站设备，其特征在于，所述基座包括：

基座壳体，所述基座壳体形成所述基座腔体；

气流产生装置，所述气流产生装置设置在所述基座内，用于产生由所述气流进口向所述气流出口流动的气流；

加热机构，所述加热机构设置在所述基座腔体内，所述加热机构能够对所述流动的气流进行加热；以及

气流导向装置，所述气流导向装置具有进气口以及出气口，所述气流导向装置对所述气流产生装置产生的所述流动的气流进行导向，至少将所述流动的气流由所述气流产生装置导向至所述加热机构；

可选地，所述气流导向装置的数量为两个以上，至少一个所述气流导向装置的进气口面积大于出气口面积；

可选地，所述气流产生装置的数量与所述气流导向装置的数量相同；

可选地，所述气流导向装置为扁平喇叭状结构；

可选地，所述气流导向装置的进气口设置有至少一个进气口导流部，所述至少一个进气口导流部对进入所述进气口的气流进行导流；

可选地，所述气流导向装置的出气口设置有至少一个出气口导流部，所述至少一个出气口导流部对经由所述出气口流出的气流进行导流；

可选地，所述气流导向装置包括导向装置上壳体以及导向装置下壳体，所述导向装置上壳体与所述导向装置下壳体可拆卸地连接；

可选地，所述出气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁延伸至所述导向装置下壳体的内壁。

9.根据权利要求8所述的基站设备，其特征在于，所述进气口导流部由所述导向装置上壳体的内壁向下延伸，不延伸至所述导向装置下壳体的内壁。

10.一种清洁系统，其特征在于，包括：

清洁设备；以及

权利要求1至9中任一项所述的基站设备，所述基站设备至少用于对所述清洁设备的清洁部进行干燥处理。

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