CN113292247A - 防反光玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请属于防反光玻璃制备领域，尤其涉及一种防反光玻璃及其制备方法。该防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个凹球形的宽度处于第一数值范围，当第一数值范围满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的条件时，同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
Description
技术领域
本申请属于防反光玻璃制备领域，尤其涉及一种防反光玻璃及其制备方法。
背景技术
为解决外部光线照射在显示屏表面产生反光的问题，通常在显示屏表面设置防反光玻璃，即(Anti-glare Glass，AG)AG玻璃。衡量AG玻璃效果的几个关键因素为防反光效果、闪点、清晰度，最理想的结果是防反光效果好，无闪点，清晰度高。市面上现有产品一般无法兼顾做到以上三点。
发明内容
本申请实施例提供一种防反光玻璃及其制备方法，可以同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
第一方面，本申请实施例提供一种防反光玻璃，所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。
第二方面，本申请实施例一种防反光玻璃的制备方法，包括：
对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻所述非蒙砂蚀刻面；
对所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗所述待蒙砂蚀刻面；
对预处理后的所述玻璃基板的所述待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；
其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。
其中，将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法包括如下步骤：
将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，后对所述纹理面采用超声清洗以除去残留在所述玻璃基板上的所述蒙砂蚀刻液。
示例性的，所述蒙砂蚀刻液包括如下重量份的组分：
氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份。
示例性的，所述将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法具体包括如下步骤：
将预处理后的12.7寸、像素密度为210、以及像素尺寸为39.8*119.4um的显示屏中的所述玻璃基板浸泡在重量份的组分为氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份的蒙砂蚀刻液中，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，所述凹球形的宽度为：
0.3*39.8um≤所述凹球形的宽度≤0.75*39.8um。
其中，所述对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理的方法包括如下步骤：
对所述玻璃基板的非蒙砂蚀刻面涂覆耐酸油墨或耐酸膜。
其中，所述对所述玻璃基板的蒙砂蚀刻面进行预处理和清洗所述待蒙砂蚀刻面的方法包括如下步骤：
利用第一浓度的氢氟酸溶液清洗所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面，后采用超声清洗所述待蒙砂蚀刻面。
在第二方面另一种可实现的方式中，所述对预处理后的所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面之后，还包括如下步骤：
利用第二浓度的氢氟酸对具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的所述纹理面进行喷淋抛光处理，喷淋5至10分钟。
第三方面，本申请实施例提供一种显示器件的面板，包括如第一方面所述的防反光玻璃。
第四方面，本申请实施例提供一种护眼屏，包括如第一方面所述的防反光玻璃。
本申请实施例与现有技术相比存在的有益效果是：本申请实施例提供的防反光玻璃，包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；在每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸的条件时，可以同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
本申请实施例提供的防反光玻璃的制备方法，该方法通过对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻非蒙砂蚀刻面；对玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗待蒙砂蚀刻面；对预处理后的玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，将待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；使所形成的纹理面中每个凹球形的宽度处于第一数值范围；第一数值范围包括：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸，进而使防反光玻璃取得同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
本申请实施例提供显示器件的面板，该面板包括每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的防反光玻璃，使该面板同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
本申请实施例提供护眼屏，该护眼屏包括每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的防反光玻璃，使该护眼屏同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请一实施例提供的一种防反光玻璃的制备方法的步骤流程图；
图2是本申请一实施例提供的一种防反光玻璃的纹理面的示意图。
具体实施方式
以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了技术的具体细节，以便透彻理解本申请实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本申请。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本申请的描述。
应当理解，当在本申请说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
在本申请说明书中描述的参考“本申请实施例”或“一些实施例”等意味着在本申请的一个或多个实施例中包括结合该实施例描述的特定特征、结构或特点。由此，在本说明书中的不同之处出现的语句“其中一个实施例”、“本申请一实施例”、“本申请其它实施例”等不是必然都参考相同的实施例，而是意味着“一个或多个但不是所有的实施例”，除非是以其他方式另外特别强调。术语“包括”、“包含”、“具有”及它们的变形都意味着“包括但不限于”，除非是以其他方式另外特别强调。
另外，在本申请说明书和所附权利要求书的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
为了说明本申请的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。
众所周知，AG玻璃是玻璃原片表面经过特殊工艺加工处理的一种玻璃，显著特性是哑光无反射，其原理是把优质玻璃片的单面或双面利用特殊工艺加工出来，使其比普通玻璃具有更低的反射率。AG玻璃多用于触摸屏、显示屏、触板、视窗等。衡量AG玻璃效果的几个关键因素为防反光效果、闪点、清晰度，但是市面上现有的AG玻璃无法兼顾做到以上三点。本申请实施例提供一种防反光玻璃的制备方法，制备出的防反光玻璃可以同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点。请参考图1，图1是本申请一实施例提供的一种防反光玻璃的制备方法的步骤流程图，该方法具体包括：步骤S101至S104。
S101，对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻非蒙砂蚀刻面。
具体的，本申请实施例是对优质的玻璃基板的单面利用蚀刻工艺进行加工。将需要蚀刻的玻璃基板的一面或某一表面某一区域称为蒙砂蚀刻面，将不需要蚀刻的玻璃基板的一面或某一表面某一区域称为非蒙砂蚀刻面。
在一些实施例中，覆膜处理包括涂覆耐酸油墨或耐酸膜。通过在玻璃基板的非蒙砂蚀刻面涂覆耐酸油墨或耐酸膜，避免蚀刻液与玻璃基板反生反应，腐蚀非蒙砂蚀刻面。
在一些实施例中，耐酸油墨中包含光敏树脂、光引发剂或粉体等，本申请实施例不对耐酸油墨的具体组成成份进行限定。
在一些实施例中，耐酸膜的厚度为300nm至450nm，在其中一个实施例中，耐酸膜的厚度为300nm、400nm或450nm。
在一些实施例中，耐酸膜为钼膜或铜模，在其它实施例中，耐酸膜不限于钼膜或铜模，还可以为本领域常用的其它耐酸性的膜层。
S102，对玻璃基板的蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗待蒙砂蚀刻面。
具体的，在一些实施例中，对玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理是利用第一浓度的氢氟酸溶液清洗玻璃基板的待蒙砂蚀刻面。在一些实施例中，第一浓度的氢氟酸溶液为4％至6％的氢氟酸溶液。在其中一个实施例中，第一浓度的氢氟酸溶液为5％的氢氟酸溶液。
在一些实施例中，清洗待蒙砂蚀刻面是在利用第一浓度的氢氟酸溶液清洗玻璃基板的待蒙砂蚀刻面后采用超声清洗待蒙砂蚀刻面。本申请实施例利用氢氟酸溶液清洗待蒙砂蚀刻面的作用有两个，一个是清除待蒙砂蚀刻面的表面杂质，另一个是氢氟酸与玻璃基板中的二氧化硅发生反应，轻微腐蚀待蒙砂蚀刻面，使利用蒙砂蚀刻液对待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理时，蒙砂蚀刻液不会因为待蒙砂蚀刻面的表面光滑而浪费，提高待蒙砂蚀刻面的挂液能力。
S103，对预处理后的玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，将待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面。
具体的，本申请实施例的防反光玻璃应用在显示屏中，当然，防反光玻璃可以应用到其它场景中，本申请实施以防反光玻璃应用到显示屏中进行举例说明。
本申请实施例为了使制备出的显示屏可以同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点，首先，将预处理后的不同尺寸或同一尺寸(每种尺寸的显示屏预先设置对应的像素密度和像素尺寸)的玻璃基板浸泡在预先配制的不同配比的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，后对纹理面采用超声清洗以除去残留在玻璃基板上的蒙砂蚀刻液。
在一些实施例中，玻璃基板可以为：12.7寸(像素密度(PixelsPerInch，PPi)为210、像素尺寸为39.8*119.4um)的显示屏(薄膜晶体管式(Thin Film Transistor，TFT))中的玻璃基板、11寸(PPi为246、像素尺寸为34.5*103.5um)的显示屏(薄膜晶体管式(ThinFilm Transistor，TFT))中的玻璃基板、11寸(PPi为266、像素尺寸为31.77*95.31um)的显示屏(有源矩阵有机发光二极体式(Active Matrix Organic Light Emitting Diode，AMOLED))中的玻璃基板、9.7寸(像素密度(PixelsPerInch，PPi)为223、像素尺寸为37.85*113.55um)的显示屏(薄膜晶体管式(Thin Film Transistor，TFT))中的玻璃基板、和8寸(像素密度(PixelsPerInch，PPi)为188、像素尺寸为44.85*134.55um)的显示屏(薄膜晶体管式(Thin Film Transistor，TFT))中的玻璃基板等。
在一些实施例中，将经过预处理后的12.7寸TFT显示屏(该12.7寸TFT显示屏还可以是其他玻璃)分别浸泡至蒙砂蚀刻液中，蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份；和蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵14至16份、氟化钙6至8份、硫酸钾9至11份、氢氧化钠8至10份、水10至12份、氟化钠7至9份。
具体的，在其中一个实施例中，将经过预处理后的4组12.7寸TFT显示屏分别浸泡至4组蒙砂蚀刻液中，第一组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵11份、氟化钙3份、硫酸钾6份、氢氧化钠5份、水7份、氟化钠4份；第二组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵13份、氟化钙5份、硫酸钾8份、氢氧化钠7份、水9份、氟化钠6份；第三组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵14份、氟化钙6份、硫酸钾9份、氢氧化钠8份、水10份、氟化钠7份；第四组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵16份、氟化钙8份、硫酸钾11份、氢氧化钠10份、水12份、氟化钠9份。
为了后续描述方便，将上述第一组蒙砂蚀刻液的配比记为第一配比，将上述第二组蒙砂蚀刻液的配比记为第二配比，将上述第三组蒙砂蚀刻液的配比记为第三配比，将上述第四组蒙砂蚀刻液的配比记为第四配比。
在一些实施例中，将经过预处理后的11寸TFT或AMOLED显示屏分别浸泡至蒙砂蚀刻液，蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵11至13份、氟化钙2至4份、硫酸钾7至9份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份；和蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵14至16份、氟化钙5至7份、硫酸钾10至12份、氢氧化钠8至10份、水10至12份、氟化钠7至9份。
具体的，在其中一个实施例中，将经过预处理后的4组11寸TFT或AMOLED显示屏分别浸泡至四组蒙砂蚀刻液中，第一组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵11份、氟化钙2份、硫酸钾7份、氢氧化钠5份、水7份、氟化钠4份；第二组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵13份、氟化钙4份、硫酸钾9份、氢氧化钠7份、水9份、氟化钠6份；第三组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵14份、氟化钙5份、硫酸钾10份、氢氧化钠8份、水10份、氟化钠7份；第四组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵16份、氟化钙7份、硫酸钾12份、氢氧化钠10份、水12份、氟化钠9份。
为了后续描述方便，将上述第一组蒙砂蚀刻液的配比记为第五配比，将上述第二组蒙砂蚀刻液的配比记为第六配比，将上述第三组蒙砂蚀刻液的配比记为第七配比，将上述第四组蒙砂蚀刻液的配比记为第八配比。
在一些实施例中，将经过预处理后的9.7寸TFT显示屏分别浸泡至蒙砂蚀刻液中，蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵10至12份、氟化钙2至4份、硫酸钾7至9份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份；和蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵14至16份、氟化钙5至7份、硫酸钾10至12份、氢氧化钠8至10份、水10至12份、氟化钠7至9份。
具体的，在其中一个实施例中，将经过预处理后的4组9.7寸TFT显示屏分别浸泡至四组蒙砂蚀刻液中，第一组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵10份、氟化钙2份、硫酸钾7份、氢氧化钠5份、水7份、氟化钠4份；第二组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵12份、氟化钙4份、硫酸钾9份、氢氧化钠7份、水9份、氟化钠6份；第三组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵14份、氟化钙5份、硫酸钾10份、氢氧化钠8份、水10份、氟化钠7份；第四组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵16份、氟化钙7份、硫酸钾12份、氢氧化钠10份、水12份、氟化钠9份。
为了后续描述方便，将上述第一组蒙砂蚀刻液的配比记为第九配比，将上述第二组蒙砂蚀刻液的配比记为第十配比，将上述第三组蒙砂蚀刻液的配比记为第十一配比，将上述第四组蒙砂蚀刻液的配比记为第十二配比。
在一些实施例中，将经过预处理后的8寸TFT显示屏分别浸泡至蒙砂蚀刻液中，蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵12至14份、氟化钙2至4份、硫酸钾8至10份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份；和蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵15至17份、氟化钙5至7份、硫酸钾11至13份、氢氧化钠8至10份、水10至12份、氟化钠7至9份。
具体的，在其中一个实施例中，将经过预处理后的4组8寸TFT显示屏分别浸泡至四组蒙砂蚀刻液中，第一组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵12份、氟化钙2份、硫酸钾8份、氢氧化钠5份、水7份、氟化钠4份；第二组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵14份、氟化钙4份、硫酸钾10份、氢氧化钠7份、水9份、氟化钠6份；第三组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵15份、氟化钙5份、硫酸钾11份、氢氧化钠8份、水10份、氟化钠7份；第四组蒙砂蚀刻液包括重量份的组分为：氟化氢铵17份、氟化钙7份、硫酸钾13份、氢氧化钠10份、水12份、氟化钠9份。
为了后续描述方便，将上述第一组蒙砂蚀刻液的配比记为第十三配比，将上述第二组蒙砂蚀刻液的配比记为第十四配比，将上述第三组蒙砂蚀刻液的配比记为第十五配比，将上述第四组蒙砂蚀刻液的配比记为第十六配比。
在一些实施例中，利用上述实施例中的配比将蒙砂蚀刻面形成具有若干凹坑微结构或球缺微结构或若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面。
在一些实施例中，采用超声波清洗机对纹理面进行超声清洗以除去残留在玻璃基板上的蒙砂蚀刻液。在其它实施例中，也可采用其它清洗方式对纹理面进行清洗，以除去残留在玻璃基板上的蒙砂蚀刻液，本申请实施例不对清洗方式作出限制。
然后，对蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面进行粗糙度测量。
在一些实施例中，利用粗糙度测量仪对待蒙砂蚀刻面的凹球体微结构分布的纹理面的粗糙度参数进行测量，当然，本申请实施例还可以利用任一测量测量粗糙度参数的方法对粗糙度进行测量，本申请实施例对此不作限制。
在一些实施例中，粗糙度参数包括：凹球体微结构的微观不平度十字高度(thepoint height of irregularities，RZ)、凹球体微结构的轮廓单元的不平整宽度(Averagewidth of contour element，RSM)。在其它实施例中，粗糙度参数还包括：轮廓算术平均偏差。本申请实施例测量RZ、RSM的数据是为了寻找显示屏同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点有益效果时，RZ、RSM的数据与显示屏尺寸、像素密度、及像素尺寸之间的关系。
随后，根据评判标准对反光玻璃进行评价，得到评判结果。
在一些实施例中，评判标准如表1所述，当然，在其它实施例中，还可以利用其它评判标准对防反光玻璃进行评判，本申请不对评判标准做出具体限制。
表1
最后，根据评判结果，寻找显示屏同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点有益效果时，粗糙度参数与显示屏尺寸、像素密度、及像素尺寸之间的关系。
在一些实施例中，评判结果如表2所述：
续上表：
表2
由上述表2可知显示屏同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点有益效果时，蒙砂蚀刻液的配比、粗糙度参数、显示屏尺寸、像素密度、及像素尺寸的具体数值。具体数值请参见表3。
表3
由表3可知：将12.7寸(TFT，PPI为210，像素尺寸为39.8*119.4)的玻璃基板浸泡在第一配比的蒙砂蚀刻液中，形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的RSM为11.94um，RZ为0.5um时，显示屏同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点有益效果。
将12.7寸(TFT，PPI为210，像素尺寸为39.8*119.4)的玻璃基板浸泡在第二配比的蒙砂蚀刻液中，形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的RSM为29.85um，RZ为1.2um，显示屏同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点有益效果。
在本申请实施例中，蒙砂蚀刻液中的每种配料的份数都是范围值，例如：氟化氢铵12至14份。本申请实施例是用范围值中的极值点份数进行举例说明，例如：利用氟化氢铵12份和氟化氢铵14份进行举例说明。因此，将12.7寸(TFT，PPI为210，像素尺寸为39.8*119.4)的玻璃基板浸泡在包括重量份的组分为：氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份的蒙砂蚀刻液中，形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的RSM为11.94至29.85um，RZ为0.5至1.2um，显示屏同时兼顾防反光效果好、无闪点、清晰度高这三点有益效果。
在本申请实施例中，12.7寸显示屏的像素尺寸为39.8*119.4um，形成纹理面的RSM为11.94至29.85um，由此计算出像素尺寸与RSM之间的关系为：
0.3*像素尺寸的最小像素尺寸≤RSM≤0.75*像素尺寸的最小像素尺寸。
需要说明的是：RSM即为凹球形的宽度；0.3*像素尺寸的最小像素尺寸≤凹球形的宽度≤0.75*像素尺寸的最小像素尺寸即为第一数值范围。
由表3也可以计算11寸、9.7、以及8寸显示屏的像素尺寸与RSM之间的关系，计算方法与计算12.7寸显示屏的像素尺寸与RSM之间的关系的方法相同，此处不再赘述。
在本申请其它实施例中，步骤S103之后，还包括步骤S104：
S104，利用第二浓度的氢氟酸对具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面进行喷淋抛光处理，喷淋5至10分钟。
具体的，第二浓度的氢氟酸可以为5％至10％的氢氟酸。经过步骤S103处理形成粗糙、无光泽的纹理面，采用5％至10％的氢氟酸对纹理面进行化学抛光，蒙砂处理中形成的难溶产物部分在氢氟酸中的溶解度较大而被清除，从而使得到的玻璃基板的表面平滑而透明。
综上所述，本申请对防反光玻璃进行处理时，首先对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻非蒙砂蚀刻面；其次，对玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗待蒙砂蚀刻面，去除待蒙砂蚀刻面的杂质以及提高待蒙砂蚀刻面的挂液能力，然后，将预处理后的不同尺寸、不同像素尺寸的显示屏中的玻璃基板浸泡在预先配制的不同配比的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸时，同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。最后，采用5％至10％的氢氟酸对纹理面进行化学抛光，蒙砂处理中形成的难溶产物部分在氢氟酸中的溶解度较大而被清除，从而使得到的玻璃基板的表面平滑而透明。
本申请实施例提供了一种防反光玻璃，该防反光玻璃利用上述防反光玻璃制备方法实施例中的步骤制备而成，请参考图2，图2是本申请一实施例提供的一种防反光玻璃的纹理面的示意图。该防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个凹球形的宽度处于第一数值范围；第一数值范围包括：
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸。
本申请实施例提供的防反光玻璃，包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；在每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸的条件时，可以同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
本申请实施例提供了一种显示器件的面板，包括如上述实施例的防反光玻璃。本申请实施例提供的显示器件的面板，该面板包括每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的防反光玻璃，使该面板同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
本申请实施例还提供一种护眼屏，包括如上述实施例的防反光玻璃。本申请实施例提供的护眼屏，该护眼屏包括每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的防反光玻璃，使该护眼屏同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。
以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围，均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种防反光玻璃，其特征在于，所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。
2.一种防反光玻璃的制备方法，其特征在于，包括：
对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻所述非蒙砂蚀刻面；
对所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗所述待蒙砂蚀刻面；
对预处理后的所述玻璃基板的所述待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；
其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。
3.根据权利要求2所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法包括如下步骤：
将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，后对所述纹理面采用超声清洗以除去残留在所述玻璃基板上的所述蒙砂蚀刻液。
4.根据权利要求3所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述蒙砂蚀刻液包括如下重量份的组分：
氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份。
5.根据权利要求4所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法具体包括如下步骤：
将预处理后的12.7寸、像素密度为210、以及像素尺寸为39.8*119.4um的显示屏中的所述玻璃基板浸泡在重量份的组分为氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份的蒙砂蚀刻液中，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，所述凹球形的宽度为：
0.3*39.8um≤所述凹球形的宽度≤0.75*39.8um。
6.根据权利要求2-5任一项所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理的方法包括如下步骤：
对所述玻璃基板的非蒙砂蚀刻面涂覆耐酸油墨或耐酸膜。
7.根据权利要求2-5任一项所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述对所述玻璃基板的蒙砂蚀刻面进行预处理和清洗所述待蒙砂蚀刻面的方法包括如下步骤：
利用第一浓度的氢氟酸溶液清洗所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面，后采用超声清洗所述待蒙砂蚀刻面。
8.根据权利要求2-5任一项所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述对预处理后的所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面之后，还包括如下步骤：
利用第二浓度的氢氟酸对具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的所述纹理面进行喷淋抛光处理，喷淋5至10分钟。
9.一种显示器件的面板，其特征在于，包括权利要求1所述的防反光玻璃。
10.一种护眼屏，其特征在于，包括权利要求1所述的防反光玻璃。
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| CN202110636965.XA CN113292247A (zh) | 2021-06-08 | 2021-06-08 | 防反光玻璃及其制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
| WO2005062161A1 (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Nissha Printing Co., Ltd. | 高解像度ディスプレイ対応タッチパネル |
| CN109534684A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-03-29 | 河南豫科玻璃技术股份有限公司 | 一种基于纳米级无闪点防眩光技术的蚀刻玻璃及其刻蚀工艺 |
| CN112125531A (zh) * | 2020-08-03 | 2020-12-25 | 广州视源电子科技股份有限公司 | 玻璃盖板及其制备方法 |
| CN112661410A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-16 | 广东小天才科技有限公司 | 一种防眩光盖板的制造方法 |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005062161A1 (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Nissha Printing Co., Ltd. | 高解像度ディスプレイ対応タッチパネル |
| CN109534684A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-03-29 | 河南豫科玻璃技术股份有限公司 | 一种基于纳米级无闪点防眩光技术的蚀刻玻璃及其刻蚀工艺 |
| CN112125531A (zh) * | 2020-08-03 | 2020-12-25 | 广州视源电子科技股份有限公司 | 玻璃盖板及其制备方法 |
| CN112661410A (zh) * | 2020-12-28 | 2021-04-16 | 广东小天才科技有限公司 | 一种防眩光盖板的制造方法 |
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