CN113212976B - 一种防护膜、显示装置及防护膜层的制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种防护膜、显示装置及防护膜的制备方法。防护膜包括抗刮层和自清洁层。抗刮层具有凹陷部。自清洁层覆盖凹陷部，自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。本申请实施例提供的防护膜有利于保持设备表面的清洁以及可以防止设备在日常使用中产生刮痕。

Description

一种防护膜、显示装置及防护膜层的制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种防护膜、显示装置及防护膜的制备方法。

背景技术

现有的设备在制备完成后，通常增加一层防护膜以防止设备在运输的过程中受到污染或者刮伤。然而，现有的防护膜在使用的过程中容易受到污染。此外，现有的防护膜的耐刮性能较差，设备的表面容易产生刮痕。

发明内容

本申请的目的在于提供一种防护膜、显示装置及防护膜层的制备方法，以解决现有设备的防护膜在使用过程中容易受到污染以及容易产生刮痕的问题。

本申请实施例提供一种防护膜，包括：

抗刮层，所述抗刮层具有凹陷部；

自清洁层，所述自清洁层覆盖所述凹陷部，所述自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。

在一些实施例中，所述抗刮层还包括多个第一凸起部和多个第二凸起部，多个所述第一凸起部沿第一方向排列，多个所述第二凸起部沿第二方向排列，所述第一凸起部和所述第二凸起部形成网格状结构，所述第一凸起部和所述第二凸起部围绕所述凹陷部。

在一些实施例中，在所述第一凸起部垂直于所述第一方向的截面中，所述第一凸起部靠近所述自清洁层的一侧的截面宽度小于所述第一凸起部远离所述自清洁层的一侧的截面宽度。

在一些实施例中，所述第一凸起部垂直于所述第一方向的截面的形状包括三角形、梯形、半圆形中的一种或多种；

所述第二凸起部垂直于所述第二方向的截面的形状包括三角形、梯形、半圆形中的一种或多种。

在一些实施例中，所述防护膜还包括衬底，所述衬底位于所述抗刮层远离所述自清洁层的一侧，所述凹陷部贯穿所述抗刮层，所述自清洁层与所述衬底连接。

在一些实施例中，所述抗刮层的材料为氮化硅或氧化硅；所述自清洁层表面的材料为含氟纳米硅或聚二甲基硅氧烷。

在一些实施例中，所述抗刮层还包括多个阵列排布的抗刮凸起部，相邻的所述抗刮凸起部之间形成所述凹陷部。

在一些实施例中，所述防护膜还包括衬底，所述防护膜还包括衬底，所述抗刮层设置在所述衬底上，所述凹陷部使所述抗刮层远离所述衬底的表面凹陷，在所述抗刮凸起部垂直于第一方向的截面中，所述抗刮凸起部远离所述衬底的一侧的截面宽度小于所述抗刮凸起部靠近所述自清洁层的一侧的截面宽度。

在一些实施例中，所述凹陷部围绕所述抗刮凸起部；

在所述抗刮凸起部垂直于第一方向的截面中，所述抗刮凸起部靠近所述自清洁层的一侧的截面宽度小于所述抗刮凸起部远离所述自清洁层的一侧的截面宽度。

本申请还提供一种显示装置，包括显示面板，所述显示装置还包括如上所述的防护膜，所述防护膜位于所述显示面板的表面。

在一些实施例中，所述凹陷部贯穿所述抗刮层，所述自清洁层与所述显示面板连接。

本申请还提供一种防护膜的制备方法，包括：

在衬底上形成抗刮层；

对所述抗刮层进行蚀刻以使所述抗刮层具有凹陷部；

在所述抗刮层上形成自清洁层，所述自清洁层填充所述凹陷部。

本申请实施例提供一种防护膜、显示装置及防护膜制备方法。本申请实施例提供的防护膜包括抗刮层和自清洁层。抗刮层具有凹陷部。自清洁层覆盖凹陷部，自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。防护膜可以用在设备如显示面板的表面。本申请实施例提供的防护膜具有较强的耐刮性，可以防止设备在日常使用中产生刮痕。同时，由于防护膜具有较好的疏水性和/或疏油性，在使用过程中可以起到自清洁作用。当贴合有防护膜的设备在室内使用时，可以避免设备的表面受到污染。当贴合有防护膜的设备在室外使用时，可以避免因雨雾等天气使得水汽在设备的表面凝结，有利于保持设备表面的清洁。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的实施例的技术方案，下面将对本申请的实施例描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是申请的一些实施例和实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

需要说明的是，本申请所提到的[第一]、[第二]、[第三]等序号用语并不代表任何顺序、数量或者重要性，只是用于区分不同的部分。本申请所提到的[上]、[下]、[左]、[右]等方向用语仅是参考附加图式的方向。本申请提及的[一端]、[另一端]、[内侧]、[外侧]等位置关系用语仅用于区分不同的部分。因此，使用的序号用语、方向用语和位置关系用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。贯穿整个说明书，相同的附图标记表示相同的元件。因为附图所例示的各个组件的尺寸和厚度是为了说明方便表示的，所以本公开未必限于各个组件的所例示的尺寸和厚度。

图1a为本申请实施例提供的防护膜的第一种实施方式的结构示意图。

图1b为图1a的防护膜沿A-A’线的剖面图。

图2a为本申请实施例提供的防护膜的第二种实施方式的结构示意图。

图2b为图2a的防护膜沿B-B’线的剖面图。

图3a为本申请实施例提供的防护膜的第三种实施方式的结构示意图。

图3b为图3a的防护膜沿C-C’线的剖面图。

图4a为本申请实施例提供的防护膜的第四种实施方式的结构示意图。

图4b为图4a的防护膜沿D-D’线的剖面图。

图5a为本申请实施例提供的防护膜的第五种实施方式的结构示意图。

图5b为图5a的防护膜沿E-E’线的剖面图。

图6a为本申请实施例提供的防护膜的第六种实施方式的结构示意图。

图6b为图6a的防护膜沿F-F’线的剖面图。

图7a为本申请实施例提供的显示装置的结构示意图。

图7b为本申请实施例提供的显示装置沿G-G’线的剖面图。

图8为本申请实施例提供的防护膜的制备方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，本申请所提到的[第一]、[第二]、[第三]等序号用语并不代表任何顺序、数量或者重要性，只是用于区分不同的部分。本申请所提到的[上]、[下]、[左]、[右]等方向用语仅是参考附加图式的方向。本申请提及的[一端]、[另一端]、[内侧]、[外侧]等位置关系用语仅用于区分不同的部分。因此，使用的序号用语、方向用语和位置关系用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。贯穿整个说明书，相同的附图标记表示相同的元件。因为附图所例示的各个组件的尺寸和厚度是为了说明方便表示的，所以本公开未必限于各个组件的所例示的尺寸和厚度。

结合图1a和图1b，图1a为本申请实施例提供的防护膜的第一种实施方式的结构示意图。图1b为图1a的防护膜沿A-A’线的剖面图。

如图1a和图1b所示，防护膜100包括抗刮层10、自清洁层20和衬底30。衬底30上设置有抗刮层10。抗刮层10具有凹陷部11。凹陷部11贯穿抗刮层10。自清洁层20覆盖凹陷部11。自清洁层20通过凹陷部11与衬底30连接。自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

衬底30位于抗刮层10远离自清洁层20的一侧。在一些实施方式中，衬底30可以是硬质衬底或柔性衬底，衬底30还可以是需要贴合防护膜100的设备的最外层膜层结构。本申请实施例对衬底30不作具体限定。

抗刮层10还包括多个第一凸起部12和多个第二凸起部13。多个第一凸起部12沿第一方向x排列。多个第二凸起部13沿第二方向y排列。第一凸起部12和第二凸起部13形成网格状结构。多个第一凸起部12和多个第二凸起部13交叉形成多个凹陷部11。凹陷部11位于网格内。

如图1b所示，在第一凸起部12垂直于第一方向x的截面中，第一凸起部12靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12远离自清洁层20的一侧的截面宽度d2。即，第一凸起部12远离衬底30的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12靠近衬底30的一侧的截面宽度d2。在第二凸起部13垂直于第二方向y的截面中(图中未显示)，第二凸起部13靠近自清洁层20的一侧的截面宽度小于第二凸起部13远离自清洁层20的一侧的截面宽度。即，第二凸起部13远离衬底30的一侧的截面宽度小于第二凸起部13靠近衬底30的一侧的截面宽度。

第一凸起部12垂直于第一方向x的截面和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面为三角形。

可以理解的是，第一凸起部12垂直于第一方向x的截面和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面可以是梯形或其他多边形，只要满足第一凸起部12靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12远离自清洁层20的一侧的截面宽度d2，在第二凸起部13垂直于第二方向y的截面中，第二凸起部13靠近自清洁层20的一侧的截面宽度小于第二凸起部13远离自清洁层20的一侧的截面宽度这一条件即可。第一凸起部12垂直于第一方向x的截面形状和大小和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面形状和大小可以相同，也可以不相同，这里不作具体限定。

氮化硅和氧化硅具有较高的硬度和较好的耐磨性。因此，选用氮化硅和氧化硅作为防护膜100的抗刮层10的材料。

自清洁层20完全覆盖凹陷部11，从而使得防护膜100具有抗刮性和自清洁性。在一些实施方式中，自清洁层20可以仅覆盖一部分凹陷部11(图中未显示)，即自清洁层20的填充高度低于凹陷部11的高度。通过设置自清洁层20覆盖一部分凹陷部11，可以节省自清洁层20的材料，节省制作成本。

如图1a和图1b所示，自清洁层20包括主体层22。主体层22覆盖凹陷部21。主体层22具有所述疏水表面和/或疏油表面21。疏水表面和/或疏油表面21位于主体层22远离抗刮层10的一侧。自清洁层20的主体层22整体采用疏水性和/或疏油性材料形成，使得自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

疏水表面的材料包括含氟纳米硅或聚二甲基硅氧烷。疏油表面的材料可以包括含氟的纳米硅或具有活性硅烷基团的疏油材料。对纳米硅进行含氟处理，从而形成含氟的纳米硅，含氟的纳米硅具有优异的疏水疏油性。聚二甲基硅氧烷透明度高、表面张力小，具有优异的疏水性。在本实施例中，自清洁层20的主体层22整体采用含氟纳米硅和/或聚二甲基硅氧烷制得，使主体层22的表面同时具有疏水和/或疏油性。

在另一些实施方式中，自清洁层20包括主体层22和设置在主体层22上的疏水表面和/或疏油表面21。主体层22覆盖凹陷部11。疏水表面和/或疏油表面21完全覆盖主体层22以提升防护膜100整体的自清洁性能。因此，主体层22的材料可以不具备疏水性和/或疏油性。通过在主体层22上涂覆疏水性和/或疏油性材料，从而使得自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

防护膜100的厚度在40微米至70微米之间。具体的，防护膜的厚度可以为40微米、42微米、45微米、48微米、50微米、52微米、55微米、58微米、60微米、62微米、65微米、68微米或70微米。本申请实施例中防护膜100的透光率大于或等于90％，当需要贴合防护膜100的设备为显示装置时，可以保证防护膜100不会影响显示装置的显示效果。

本申请提供一种防护膜，包括抗刮层和自清洁层。抗刮层具有凹陷部。自清洁层覆盖凹陷部，自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。抗刮层具有较高的硬度和较好的耐磨性。自清洁层具有优异的疏水性和/或疏油性。本申请实施例提供的防护膜，可以防止被防护膜贴合的设备在日常使用中产生刮痕。同时，由于防护膜具有较好的疏水性和/或疏油性，在使用过程中可以起到自清洁作用。当贴合有防护膜的设备在室内使用时，可以避免设备的表面受到污染。当贴合有防护膜的设备在室外使用时，可以避免因雨雾等天气使得水汽在设备的表面凝结，有利于保持设备表面的清洁。

如图2a和图2b，图2a为本申请实施例提供的防护膜的第二种实施方式的结构示意图。图2b为图2a的防护膜沿B-B’线的剖面图。

本申请第二实施例提供的防护膜，如图2a和图2b所示，防护膜100包括抗刮层10、自清洁层20和衬底30。抗刮层10的一侧开设有凹陷部11。自清洁层20覆盖凹陷部11。自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

在第一凸起部12垂直于所述第一方向x的截面中，第一凸起部12靠近自清洁层20的一侧的截面宽度的d1小于第一凸起部12远离自清洁层20的一侧的截面宽度d2。即，第一凸起部12远离衬底30的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12靠近衬底30的一侧的截面宽度d2。在第二凸起部13垂直于第二方向y的截面中(图中未显示)，第二凸起部13靠近自清洁层20的一侧的截面宽度小于第二凸起部13远离自清洁层20的一侧的截面宽度。即，第二凸起部13远离衬底30的一侧的截面宽度小于第二凸起部13靠近衬底30的一侧的截面宽度。

第一凸起部12垂直于第一方向x的截面和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面为梯形。

可以理解的是，第一凸起部12垂直于第一方向x的截面和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面可以是其他多边形，只要满足第一凸起部12靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12远离自清洁层20的一侧的截面宽度d2，在第二凸起部13垂直于第二方向y的截面中，第二凸起部13靠近自清洁层20的一侧的截面宽度小于第二凸起部13远离自清洁层20的一侧的截面宽度这一条件即可。第一凸起部12垂直于第一方向x的截面形状和大小和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面形状和大小可以相同，也可以不相同。在此对第一凸起部12垂直于第一方向x的截面形状和大小以及第二凸起部13垂直于第二方向y的截面形状和大小不作具体限定。

在防护膜100的抗刮层10中，在第一凸起部12垂直于所述第一方向x的截面中，第一凸起部12靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12远离自清洁层20的一侧的截面宽度d2。在第二凸起部13垂直于第二方向y的截面中，第二凸起部13靠近自清洁层20的一侧的截面宽度小于第二凸起部13远离自清洁层20的一侧的截面宽度。上述设置有利于提高抗刮层10的耐磨性，使得防护膜100不容易产生刮痕。

如图3a和图3b所示，图3a为本申请实施例提供的防护膜的第三种实施方式的结构示意图。图3b为图3a的防护膜沿C-C’线的剖面图。

本申请第三实施例提供的防护膜，如图3a和图3b所示，防护膜100包括抗刮层10和自清洁层20。抗刮层10的一侧开设有凹陷部11。自清洁层20覆盖凹陷部11。自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

抗刮层10包括多个第一凸起部12和多个第二凸起部13。多个第一凸起部沿第一方向x排列。多个第二凸起部13沿第二方向y排列。第一凸起部12和第二凸起部13形成网格状结构，第一凸起部12和第二凸起部13围绕凹陷部11。凹陷部11位于网格内。

本实施例与第一实施例的区别在于，凹陷部11未贯穿抗刮层10。具体的，相邻的第一凸起部12远离自清洁层20的一侧连接。相邻的第二凸起部13远离自清洁层20的一侧连接。多个第一凸起部12和多个第二凸起部13的底部相互连接形成类似衬底的结构以承托自清洁层20。

如图3b所示，在第一凸起部12垂直于所述第一方向x的截面中，第一凸起部12靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12远离自清洁层20的一侧的截面宽度d2。在第二凸起部13垂直于第二方向y的截面中(图中未显示)，第二凸起部13靠近自清洁层20的一侧的截面宽度小于第二凸起部13远离自清洁层20的一侧的截面宽度。

第一凸起部12垂直于第一方向x的截面和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面为三角形。

在一些实施方式中，相邻的第一凸起部12顶端之间的距离w1在50微米至70微米之间。具体的，相邻的第一凸起部12顶端之间的距离w1可以为50微米、55微米、60微米、65微米、65微米或70微米。相邻的第二凸起部13顶端之间的距离在50微米至70微米之间。具体的，相邻的第二凸起部13顶端之间的距离为50微米、55微米、60微米、65微米、65微米或70微米。

可以理解的是，第一凸起部12垂直于第一方向x的截面和第二凸起部13垂直于第二方向y的截面可以是梯形或其他多边形，只要满足第一凸起部12靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d1小于第一凸起部12远离自清洁层20的一侧的截面宽度d2，在第二凸起部13垂直于第二方向y的截面中，第二凸起部13靠近自清洁层20的一侧的截面宽度小于第二凸起部13远离自清洁层20的一侧的截面宽度这一条件即可。第一凸起部12垂直于第一方向x的截面形状和大小以及第二凸起部13垂直于第二方向y的截面形状和小四可以相同，也可以不相同。在此对第一凸起部12垂直于第一方向x的截面形状和大小以及第二凸起部13垂直于第二方向y的截面形状和大小不作具体限定。

防护膜100的抗刮层10包括了多个第一凸起部12和多个第二凸起部13。多个第一凸起部12沿第一方向x排列。多个第二凸起部13沿第二方向y排列。第一凸起部12和第二凸起部13形成网格状结构。多个相邻的第一凸起部12连接，多个相邻的第二凸起部13连接，使得自清洁层20不需要贯穿抗刮层10与衬底直接接触，在制备防护膜100时可以节省提供衬底这一工序，有利于节省制程时间和节约制作成本。

如图4a和图4b所示，图4a为本申请实施例提供的防护膜的第四种实施方式的结构示意图。图4b为图4a的防护膜沿D-D’线的剖面图。

本申请第四实施例提供的防护膜，如图4a和图4b所示，防护膜100包括抗刮层10和自清洁层20。抗刮层10的一侧开设有凹陷部11。自清洁层20覆盖凹陷部11。自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

抗刮层10包括多个抗刮凸起部14。多个抗刮凸起部14沿第一方向x和第二方向y排列。相邻的抗刮凸起部14的边缘相连接。抗刮凸起部14的形状为四棱锥。多个抗刮凸起部14形成网格状结构。凹陷部11围绕抗刮凸起部14。自清洁层20覆盖凹陷部11。

本实施例与第一实施例的区别在于，凹陷部11未贯穿抗刮层10。具体的，相邻的抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧连接。多个抗刮凸起部14相互连接形成类似衬底的结构以承托自清洁层20。

如图4b所示，在抗刮凸起部14垂直于第一方向x和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧的截面宽度d4。

抗刮凸起部14垂直于第一方向x的截面和垂直于第二方向y的截面为三角形。

在一些实施方式中，相邻的抗刮凸起部14顶端之间的距离w2在50微米至70微米之间。具体的，相邻的抗刮凸起部14顶端之间的距离w2可以为50微米、55微米、60微米、65微米、65微米或70微米。

可以理解的是，抗刮凸起部14垂直于第一方向x的截面和抗刮凸起部14垂直于第二方向y的截面可以是梯形或其他多边形，只要满足抗刮凸起部14靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧的截面宽度d4这一条件即可。抗刮凸起部14垂直于第一方向x的截面形状和大小以及抗刮凸起部14垂直于第二方向y的截面形状和大小可以相同，也可以不相同。在此对抗刮凸起部14垂直于第一方向x的截面形状和大小以及抗刮凸起部14垂直于第二方向y的截面形状和大小不作具体限定。

防护膜100的抗刮层10设置多个抗刮凸起部14。多个抗刮凸起部14沿第一方向x和第二方向y排列形成网格状结构。凹陷部11围绕抗刮凸起部14。自清洁层20覆盖凹陷部11。在抗刮凸起部14垂直于第一方向x和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧的截面宽度d4。上述设置有利于提高抗刮层10的耐磨性，使得防护膜100不容易产生刮痕。此外，由于相邻的抗刮凸起部14的边缘相连接，使得自清洁层20不需要贯穿抗刮层10与衬底直接接触，在制备防护膜100时可以节省提供衬底这一工序，有利于节省制程时间和节约制作成本。

如图5a和图5b所示，图5a为本申请实施例提供的防护膜的第五种实施方式的结构示意图。图5b为图5a的防护膜沿E-E’线的剖面图。

本申请第五实施例提供的防护膜，如图5a和图5b所示，防护膜100包括抗刮层10、自清洁层20和衬底30。衬底30上设置有抗刮层10。抗刮层10具有凹陷部11。凹陷部11贯穿抗刮层10。自清洁层20覆盖凹陷部11。自清洁层20通过凹陷部11与衬底30连接。自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

抗刮层10包括多个抗刮凸起部14。多个抗刮凸起部14沿第一方向x和第二方向y排列。相邻的抗刮凸起部14靠近衬底30一侧的边缘之间具有空隙。抗刮凸起部14的形状为四棱锥。多个抗刮凸起部14形成网格状结构。凹陷部11围绕抗刮凸起部14。自清洁层20覆盖凹陷部11。

如图5b所示，在抗刮凸起部14垂直于第一方向x和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧的截面宽度d4。即在抗刮凸起部14垂直于第一方向x和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14远离衬底30的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14靠近衬底30的一侧的截面宽度d4。

抗刮凸起部14垂直于第一方向x的截面和垂直于第二方向y的截面为三角形。

在一些实施方式中，相邻的抗刮凸起部14顶端之间的距离w3在50微米至70微米之间。具体的，相邻的抗刮凸起部14顶端之间的距离w3可以为50微米、55微米、60微米、65微米、65微米或70微米。

防护膜100的抗刮层10设置多个抗刮凸起部14。多个抗刮凸起部14沿第一方向x和第二方向y排列形成网格状结构。凹陷部11围绕抗刮凸起部14。自清洁层20覆盖凹陷部11。在抗刮凸起部14垂直于第一方向x和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧的截面宽度d4。上述设置有利于提高抗刮层10的耐磨性，使得防护膜100不容易产生刮痕。

如图6a和图6b所示，图6a为本申请实施例提供的防护膜的第六种实施方式的结构示意图。图6b为图6a的防护膜沿F-F’线的剖面图。

本申请第六实施例提供的防护膜，如图6a和图6b所示，防护膜100包括抗刮层10、自清洁层20和衬底30。衬底30上设置有抗刮层10。抗刮层10具有凹陷部11。凹陷部11贯穿抗刮层10。自清洁层20覆盖凹陷部11。自清洁层20通过凹陷部11与衬底30连接。自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

抗刮层10包括多个抗刮凸起部14。多个抗刮凸起部14沿第一方向x和第二方向y排列。相邻的抗刮凸起部14靠近衬底30一侧的边缘之间具有空隙。抗刮凸起部14的形状为圆锥。多个抗刮凸起部14形成网格状结构。凹陷部11围绕抗刮凸起部14。自清洁层20覆盖凹陷部11。

如图6b所示，在抗刮凸起部14垂直于第一方向x和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧的截面宽度d4。即在抗刮凸起部14垂直于第一方向x的截面和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14远离衬底30的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14靠近衬底30的一侧的截面宽度d4。

抗刮凸起部14垂直于第一方向x的截面和垂直于第二方向y的截面为三角形。

防护膜100的抗刮层10设置多个抗刮凸起部14。多个抗刮凸起部14沿第一方向x和第二方向y排列形成网格状结构。凹陷部11围绕抗刮凸起部14。自清洁层20覆盖凹陷部11。在抗刮凸起部14垂直于第一方向x和第二方向y的截面中，抗刮凸起部14靠近自清洁层20的一侧的截面宽度d3小于抗刮凸起部14远离自清洁层20的一侧的截面宽度d4。上述设置有利于提高抗刮层10的耐磨性，使得防护膜100不容易产生刮痕。

本申请实施例提供的防护膜包括抗刮层和自清洁层。抗刮层具有凹陷部。自清洁层覆盖凹陷部，自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。抗刮层具有较高的硬度和较好的耐磨性。自清洁层具有优异的疏水性和/或疏油性。本申请实施例提供的防护膜，可以防止被防护膜贴合的设备在日常使用中产生刮痕。同时，由于防护膜具有较好的疏水性和/或疏油性，在使用过程中可以起到自清洁作用。当贴合有防护膜的设备在室内使用时，可以避免设备的表面受到污染。当贴合有防护膜的设备在室外使用时，可以避免因雨雾等天气使得水汽在设备的表面凝结，有利于设备表面的清洁。

相应的，本申请还提供一种显示装置，其包括如前所述的防护膜和显示面板。

如图7a和图7b所示，图7a为本申请实施例提供的显示装置的结构示意图。图7b为本申请实施例提供的显示装置沿G-G’线的剖面图。

如图7a和7b所示，防护膜100位于所述显示面板200的表面。防护膜100包括抗刮层10和自清洁层20。抗刮层10具有凹陷部11。自清洁层覆盖凹陷部11，自清洁层20具有疏水表面和/或疏油表面21。

凹陷部11贯穿抗刮层10，自清洁层20与显示面板200连接。

防护膜100的厚度在40微米至70微米之间。具体的，防护膜的厚度可以为40微米、42微米、45微米、48微米、50微米、52微米、55微米、58微米、60微米、62微米、65微米、68微米或70微米。本申请实施例中防护膜的透光率大于或等于90％，可以避免防护膜影响显示面板的显示效果。

本申请提供一种显示装置，包括防护膜和显示面板。防护膜包括抗刮层和子清洁层。抗刮层具有凹陷部。自清洁层覆盖凹陷部，自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。抗刮层具有较高的硬度和较好的耐磨性。自清洁层具有优异的疏水性和/或疏油性。本申请实施例提供的显示装置的表面包括防护膜。防护膜不影响显示装置的显示效果，在使用的过程中不需要撕去。防护膜可以防止显示面板在日常使用中产生刮痕。同时，由于防护膜具有较好的疏水性和/或疏油性，在使用过程中可以起到自清洁作用。当显示面板在室内使用时，可以避免显示面板的表面受到污染。当贴合有防护膜的显示面板在室外使用时，可以避免因雨雾等天气使得水汽在显示面板的表面凝结，有利于保持显示表面的清洁。

本申请实施例还提供一种防护膜的制备方法。如图8所示，图8为本申请实施例提供的防护膜的制备方法的流程图。

为本申请实施例提供的防护膜的制备方法的流程图。本申请提供的防护膜的制备方法具体包括以下步骤：

B10：在衬底上形成抗刮层。

具体的，提供一衬底，所述衬底可以为硬质衬底或柔性衬底，衬底还可以是需要贴合防护膜的设备的最外层膜层结构。当需要设置防护膜的设备为显示面板时，所述衬底可以为显示面板最外侧的盖板。

通过化学气相沉积的方法在衬底上形成平整的抗刮层。化学气相沉积法是指利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在基板表面上进行化学反应生成抗刮层的方法。本申请实施例中抗刮层的材料为氮化硅和氧化硅。

B20：对抗刮层进行蚀刻以使抗刮层具有凹陷部。

在形成抗刮层后，通过干法蚀刻工艺对抗刮层进行蚀刻，以形成凹陷部。干法蚀刻工艺是指利用等离子体进行薄膜蚀刻的技术，具体包括以下步骤：

B21：在抗刮层远离衬底的一侧形成一光阻层，光阻层覆盖抗刮层。

B22：结合一掩模板对覆盖光阻层的抗刮层进行局部光照处理。

在抗刮层的表面形成一光阻层后，可以使用一曝光机结合一掩模板对光阻层进行局部光照处理。掩模板预先设置相应的图案。掩模板设置在光源与抗刮层之间。在进行光照处理时，掩模板上的图案对光线进行遮挡，使得光源中的部分光线照射至光阻层上。

B23：对局部光照处理后的抗刮层置入显影液中进行显影处理，以形成图案化的光阻层。

将局部光照处理后的抗刮层放置进显影液中进行显影处理。在通过掩模板对光阻层进行局部光照处理的过程中，被光照射的光阻层的化学性质发生变化，从而显影液可以去除光刻胶中的一部分，实现光阻层的图案化。

B24：对显影处理后的抗刮层进行蚀刻处理，以形成凹陷部。

显影处理后的抗刮层的表面覆盖有图案化的光阻层，未覆盖光阻层的抗刮层的表面裸露出来。反应腔内通入蚀刻气体，在进行蚀刻时，蚀刻气体对未覆盖光阻层的抗刮层的表面进行蚀刻，形成凹陷部。

需要说明的是，凹陷部可以贯穿抗刮层，暴露出衬底。凹陷部也可以不贯穿抗刮层。凹陷部的蚀刻深度由蚀刻气体的性质和蚀刻时间所决定，在此不作具体限定。

B25：在抗刮层形成凹陷部后，去除覆盖在抗刮层表面的光阻层，以留下图案化的抗刮层。

在抗刮层形成凹陷部后，去除覆盖在抗刮层表面的光阻层，以留下图案化的抗刮层。

B30：在抗刮层上形成自清洁层，自清洁层填充凹陷部。

在形成图案化的抗刮层后，通过化学气相沉积的方法在抗刮层的表面形成自清洁层。自清洁层覆盖抗刮层的凹陷部，自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。

具体的，自清洁层的材料可以为纳米硅或聚二甲基硅氧烷。

当自清洁层的材料为纳米硅时，通过化学气相沉积方法在抗刮层上形成自清洁层，即纳米硅覆盖凹陷部。在抗刮层上沉积纳米硅后，对纳米硅的表面进行氟化处理，使得自清洁层的表面为含氟纳米硅。含氟的纳米硅具有疏水性和疏水性，适合作为自清洁层的表面材料。

即当自清洁层的材料为纳米硅时，自清洁层还包括主体层。主体层材料为纳米硅。自清洁层的表面需要进行氟化处理，使得自清洁层的表面材料为含氟纳米硅。

当自清洁层的材料为聚二甲基硅氧烷时，通过化学气相沉积方法在抗刮层上形成自清洁层，由于聚二甲基硅氧烷具有优异的疏水性，其表面不需要进行氟化处理。即自清洁层的表面材料为聚二甲基硅氧烷。

需要说明的是，当防护膜为显示面板表面的防护膜时，可以通过本申请的防护膜的制备方法在显示面板的出光侧表面上依次形成抗刮层和自清洁层。

可以理解的是，在本申请中，第一方向x和第二方向y之间的夹角可以在0°至180°之间。具体地，第一方向x与第二方向y之间的夹角为0°、10°、20°、30°、40°、45°、50°、60°、70°、80°、90°、100°、110°、120°、130°、135°、140°、150°、160°、170°或180°。本申请实施方式中以第一方向x与第二方向y之间的夹角为90°为例，但不作为对本申请的限制。

本申请实施例提供的防护膜的制备方法，制备得到的防护膜包括抗刮层和自清洁层。抗刮层具有凹陷部。自清洁层覆盖凹陷部，自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面。抗刮层具有较高的硬度和较好的耐磨性。自清洁层具有优异的疏水性和/或疏油性。通过本申请实施例提供的防护膜制备方法制备得到的防护膜，可以防止被防护膜贴合的设备在日常使用中产生刮痕。同时，由于防护膜具有较好的疏水性和/或疏油性，在使用过程中可以起到自清洁作用。当贴合有防护膜的设备在室内使用时，可以避免设备的表面受到污染。当贴合有防护膜的设备在室外使用时，可以避免因雨雾等天气使得水汽在设备的表面凝结，有利于保持设备表面的清洁。

综上所述，虽然本申请实施例的详细介绍如上，但上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请实施例的技术方案的范围。

Claims (9)

1.一种防护膜，其特征在于，包括：

通过化学气相沉积形成抗刮层，所述抗刮层具有凹陷部；

通过化学气相沉积形成于所述抗刮层上的自清洁层，所述自清洁层覆盖所述凹陷部，所述自清洁层具有疏水表面和/或疏油表面；所述抗刮层还包括多个第一凸起部和多个第二凸起部，多个所述第一凸起部沿第一方向排列，多个所述第二凸起部沿第二方向排列，所述第一凸起部和所述第二凸起部形成网格状结构，所述第一凸起部和所述第二凸起部围绕所述凹陷部；

在所述第一凸起部垂直于所述第一方向的截面中，所述第一凸起部靠近所述自清洁层的一侧的截面宽度小于所述第一凸起部远离所述自清洁层的一侧的截面宽度。

2.根据权利要求1所述的防护膜，其特征在于，所述第一凸起部垂直于所述第一方向的截面的形状包括三角形、梯形、半圆形中的一种或多种；

所述第二凸起部垂直于所述第二方向的截面的形状包括三角形、梯形、半圆形中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的防护膜，其特征在于，所述防护膜还包括衬底，所述衬底位于所述抗刮层远离所述自清洁层的一侧，所述凹陷部贯穿所述抗刮层，所述自清洁层与所述衬底连接。

4.根据权利要求1所述的防护膜，其特征在于，所述抗刮层的材料为氮化硅或氧化硅；所述自清洁层表面的材料为含氟纳米硅或聚二甲基硅氧烷。

5.根据权利要求1所述的防护膜，其特征在于，所述抗刮层还包括多个阵列排布的抗刮凸起部，相邻的所述抗刮凸起部之间形成所述凹陷部。

6.根据权利要求5所述的防护膜，其特征在于，所述防护膜还包括衬底，所述抗刮层设置在所述衬底上，所述凹陷部使所述抗刮层远离所述衬底的表面凹陷，在所述抗刮凸起部垂直于第一方向的截面中，所述抗刮凸起部远离所述衬底的一侧的截面宽度小于所述抗刮凸起部靠近所述自清洁层的一侧的截面宽度。

7.根据权利要求5所述的防护膜，其特征在于，所述凹陷部围绕所述抗刮凸起部；

在所述抗刮凸起部垂直于第一方向的截面中，所述抗刮凸起部靠近所述自清洁层的一侧的截面宽度小于所述抗刮凸起部远离所述自清洁层的一侧的截面宽度。

8.一种显示装置，其特征在于，包括显示面板和如权利要求1至7中任一项所述的防护膜，所述防护膜位于所述显示面板的表面。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述凹陷部贯穿所述抗刮层，所述自清洁层与所述显示面板连接。

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