CN113195238A - 表面应用型微光防伪安全性装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种由防伪膜(130)构成的安全性装置，所述防伪膜具有(i)图像元件阵列(103)；(ii)聚焦元件阵列(106)；以及(iii)至少一种抗粘剂(115)。所述聚焦元件阵列和所述图像元件阵列相对于彼此设置，使得当通过所述聚焦元件阵列的至少一部分观看所述图像元件阵列的至少一部分时，由所述防伪膜投射合成图像。所述抗粘剂与所述聚焦元件阵列耦合。

Description

表面应用型微光防伪安全性装置
技术领域
根据本公开的某些实施方案涉及(i)适用于保护(即，鉴别或美化)高价值或高安全性产品的制品；此类高价值或高安全性产品在本文中统称为安全产品，且所述制品在本文中称为安全性装置。根据本公开的某些实施方案涉及保护(即，鉴别或美化)安全产品的方法。另外，本发明还涉及(iii)安全产品，(iv)通过将安全性装置应用于安全产品的方法形成的安全产品和(v)生产所述安全性装置的方法，以及(vi)通过这种方法形成的安全性装置。在另一方面，本公开涉及(vii)安全性装置用于保护安全产品的用途。
背景技术
安全产品包括高安全性产品和高价值产品。高安全性产品本身包括但不限于安全性文件，例如钞票、支票和政府身份文件，例如许可证、安全通行证、护照、官方政府信笺抬头等。上述高价值产品本身可以包括品牌产品，例如家居用品、个人产品、服装和高科技产品。这些安全产品可能依赖于各种鉴别工具来帮助减少伪造产品的泛滥。安全产品的制造商/使用者可用的各种鉴别工具包括水印、特种纤维、内嵌线和窗口化线。
水印通过为经常依赖现代和先进印刷和影印技术来复制/抄袭真钞的潜在伪造者提供障碍而充当鉴别工具。例如，钞票的使用者依赖于某些水印标记的存在，例如人物、数字、字母、符号和/或风景的描绘，以便鉴别那些高安全性文件。这种水印标记通常在用于形成钞票的纸张的制造过程中结合到钞票中。在某些情况下，水印标记充满了某些运动性/移动性效果，由此在观察者的视角中相对于安全产品的细微或较明显变化会导致标记的外观或位置发生可观察到的变化。例如，在反射光下观看水印标记，观察者将看到所述标记具有第一外观，而在透射光下观看水印标记(即，当纸张被保持在观察者与光源之间时，光透射通过纸张)提供了第二外观。当然，水印可能存在某些技术和功能限制。例如，为了满足一些有效性标准，水印可能需要包括高清晰度细节，这些高清晰度细节通常很难在数十亿张钞票上一致地产生。因此，如果没有这种高清晰度细节，伪造者更容易利用市售的高清晰度和高分辨率打印机生产看起来真实的钞票而生产假钞。
特种纤维是经常用于保护(无论是通过安全性还是美学)高安全性文件的另一种鉴别工具。例如，为了鉴别钞票，在制造过程中将纤维添加到纸浆中，从而使所得纸张具有颜色特定或机器可检测信号特定的纤维分布。然而，大多数将纤维掺入纸张中是通过在整个纸张体积和/或纸张的表区域上的随机分布来实现的。因此，在其它方面相对相同的数十亿张钞票中，不同钞票的纤维安全性特征各不相同。一组安全产品中的这种可变性使伪造者能够生产最终使用者不易区分的伪造版本。
内嵌线是另一鉴别工具，其可以采用多种形式，但它们通常在用于制作高安全性文件的纸张的制造过程中并入安全文件产品中。虽然此类鉴别工具使中央银行和BEM(钞票设备制造商)的机器能够轻松鉴别钞票，但此类装置通常对公众隐藏，并不能积极地让公众参与。伪造者依靠公众和内嵌线之间的这种被动交互来获取作为此类文件的1级鉴别者的公众最终使用者的认可。
窗口化线为内嵌线带来的问题提供了部分解决方案，但会产生可能被伪造者利用的额外问题。例如，在用于生产钞票的纸张的制造过程中，可以将窗口化线编织到钞票中。在最终形式中，线在被称为窗口的区域中暴露并且在被称为桥的区域中埋在纸张下面。虽然这些窗口化区域允许公众最终使用者使用安全性特征，但它也增加了看起来非常真实的伪造产品的可能性。这是因为伪造者可以简单地去除桥下的线区域，并将它们结合到伪造钞票的窗口化区域中；从而形成看似真实的钞票。
从上面可以明显看出，保护安全产品继续面临无数的技术挑战。迄今为止，在高安全性文件的表面，特别是在钞票上添加安全性特征仍然具有挑战性，因为这种鉴别工具无论是条纹还是补丁形式通常都会增加钞票厚度的变化(有时称为卡尺微差)，这对于例如BEMS机器的下游流程来说是无法忍受的，并且会缩短钞票在流通过程中的生命周期。如本文所讨论，根据本公开的制品、方法、用途和工艺产品已被证明在将安全性装置结合到安全产品(例如高安全性文件)的表面上时出人意料地有效，而没有上文讨论的所有附带缺点。
本发明如在此提出的权利要求中阐述。然而，为了清楚起见，使得本领域的普通技术人员(即PHOSITA)无需过度实验就能够制造和使用要求保护的发明，提供以下描述和附图作为要求保护的发明的示例性实施方案。应当理解，本文呈现的每个单独实施方案的元件或组件可以应用于本文呈现的另一单独实施方案，从而形成另外的实施方案。
发明内容
鉴于上述缺陷，根据本公开的某些实施方案包括(i)安全性装置；(ii)形成安全性装置的方法和(iii)通过此方法形成的安全性装置；(iv)安全产品；(v)形成安全产品的方法和(vi)通过此方法形成的安全产品；以及(vii)安全性装置用于保护安全文件的用途，所有这些都没有上述至少一些缺陷。发明人惊奇地发现本发明满足此目的。
根据本公开的各种实施方案，一种安全性装置包括防伪膜，所述防伪膜具有(i)图像元件阵列，(ii)聚焦元件阵列和(iii)至少一种抗粘剂；其中聚焦元件阵列和图像元件阵列相对于彼此设置，使得当通过聚焦元件阵列的至少一部分观看图像元件阵列的至少一部分时，由防伪膜投射合成图像；并且其中抗粘剂与聚焦元件阵列耦合。
根据本公开的一些实施方案，一种形成安全性装置的方法包括通过以下方式提供防伪膜：(i)将聚焦元件阵列层叠在图像元件阵列上，使得当通过聚焦元件阵列观看图像元件阵列时，由防伪膜投射合成图像，并且(ii)将抗粘剂耦合到聚焦元件。
在另一方面，本发明是通过前一段中描述的方法形成的安全性装置。在根据本公开的一些实施方案中，一种安全性装置包括防伪膜，所述防伪膜具有(i)图像元件阵列，(ii)聚焦元件阵列和(iii)至少一种抗粘剂；其中聚焦元件阵列和图像元件阵列相对于彼此设置，使得当通过聚焦元件阵列的至少一部分观看图像元件阵列的至少一部分时，由防伪膜投射合成图像；并且其中抗粘剂与聚焦元件阵列耦合—其中通过一种方法形成所述安全性装置，所述方法包括通过以下方式提供防伪膜：(i)将聚焦元件阵列层叠在图像元件阵列上，使得当通过聚焦元件阵列观看图像元件阵列时，由防伪膜投射合成图像，并且(ii)将抗粘剂耦合到聚焦元件。
在根据本公开的各种实施方案中，安全产品包括安全产品衬底和具有抗粘剂并耦合到安全产品衬底的防伪膜。
根据本公开的某些实施方案，一种方法包括提供防伪膜；并且将防伪膜耦合到安全产品衬底。
在另一方面，某些实施方案包括使用本公开的各种实施方案的方法生产的安全产品。在至少一个实施方案中，安全产品包括安全产品衬底；以及具有抗粘剂并耦合到安全产品衬底的防伪膜—其中通过一种方法形成所述安全产品，所述方法包括提供防伪膜；并且将防伪膜耦合到安全产品衬底。
根据本公开的各种实施方案包括使用根据一些实施方案构造的安全性装置来保护安全文件。在一个特定的相关实施方案中，所述用途包括使用本文通篇描述的安全性装置来保护安全产品。
将在随后的段落和附图中进一步扩展上文概括总结的方面和实施方案。
定义
如本文所用，术语“防粘连”应表示防止防伪膜在卷起时由于其粘性而粘到自身上。
如本文所用，除非上下文另有要求，否则术语“或”应理解为包括“或”、“和”或“和/或”。
如本文所用，术语“耦合”应理解为包括直接或间接地彼此附接的两个组件。
如本文所用，术语“F#”或“F-数”应表示聚焦元件的焦距与其有效直径的比率。
如本文所用，术语“上方”应表示在最终产品中，产品可以在至少一个方向上物理定向，其中聚焦元件阵列在顶部并且图像元件阵列在聚焦元件阵列下方。
附图说明
图1示出根据本公开的某些实施方案生产的中间安全性装置的横截面，其中防伪膜层叠在载体膜上。
图2示出根据本公开的各种实施方案的中间安全性装置的横截面，其中防伪膜设置在载体膜与转印膜之间。
图3示出根据本公开的一些实施方案的中间安全性装置的横截面，其中防伪膜耦合到转印膜。
图4示出根据本公开的某些实施方案的中间安全性装置的横截面，其中安全性装置(例如，图3的安全性装置)还包括粘合元件和底漆层。
图5示出根据本公开的某些实施方案的中间安全性装置的横截面，其中防伪膜设置在转印膜与安全衬底之间。
图6示出根据本公开的一些实施方案的中间安全性装置的横截面，其中防伪膜借助粘合元件固定到安全衬底。
图7示出根据本公开的一些实施方案的图像元件阵列的横截面，其中图像元件通过微结构或通过印刷提供以在图像元件阵列(例如，图像元件层)上或其中提供空隙和突起。
图8示出根据本公开的实施方案的图像元件阵列的横截面，其中图像元件层叠在光学间隔件下方，所述光学间隔件包括分布在间隔件一侧的至少部分上的浮雕结构。
图9以横截面示出根据本公开的结合抗粘剂和图像元件的三个实例。
图10示出根据某些实施方案的安全性装置的横截面，所述安全性装置包括聚焦元件上方的离散抗粘剂层并且通过转印膜与防伪膜的分离而形成。
图11示出根据本公开的各种实施方案的安全性装置的横截面，其中防伪膜被施加到安全衬底。
图12是根据本公开的某些实施方案的防伪膜的等距剖视图，展示了图像元件阵列、具有浮雕结构的间隔件和耦合在一起以产生合成图像的聚焦元件阵列。
图13是根据本公开的至少一个实施方案的安全性装置的横截面，其中聚焦元件是反射性的并且设置在图像元件阵列和转印膜下方，转印膜设置在图像元件上方且用于将防伪膜转印到安全衬底(未示出)。
具体实施方式
已经发现，通过使用载体膜和/或转印膜将防伪膜施加到安全产品上，可以使用非常薄的防伪膜来确保安全产品的真实性或美观性。
当考虑到本公开时，额外的益处对PHOSITA来说将显而易见的。
根据本公开的一些实施方案的安全性装置包括具有(i)图像元件阵列；(ii)聚焦元件阵列；以及(iii)至少一种抗粘剂的的防伪膜。此防伪膜在本文中的某些实施方案中也被称为膜F9。
鉴于本公开(即，权利要求、附图和描述)，PHOSITA将理解，除了本文明确列举的那些实施方案之外的各种实施方案是可能的，并且将能够容易地考虑本公开范围内的各种其它实施方案。
例如，设想在各种实施方案中，将额外组件添加到图像元件阵列、聚焦元件阵列和抗粘剂。在某些实施方案中，例如，安全性装置包括作为防伪膜的一部分的以下额外组件中的一个或多个：光学间隔件；嵌入材料；底漆层；对比材料；机器可读组件；或背面涂层。类似地，可以通过改变任何一个或一组组件的颜色、形状、大小、尺寸或化学组成来修改防伪膜的组件(例如，图像元件阵列和聚焦元件阵列)以改变它们的光学响应/投射。此外，设想在根据本公开的一些实施方案中，除了防伪膜之外，安全性装置还包括其它组件。例如，在某些实施方案中，安全性装置包括载体膜、转印膜或粘合元件中的至少一个。
如本文所用，图像元件指的是布置成阵列以形成图像(例如，完整图像、图像部分或帧)的浮雕结构。浮雕结构以图案分布在阵列上，使得当通过聚焦元件阵列观看时，聚焦元件和图像元件协作以投射合成图像。合适的图像元件和提供图像元件的方法描述于国际专利申请公开WO2005/052650、WO2006/125224、WO2008/008635、WO2011/019912、WO2011/163298、WO/2013/028534、WO2014/143980、WO2009/017824、WO2016/044372、WO2016/011249、WO2013/163287、WO2007/133613、WO2012/103441、WO2015/148878、WO2005/106601和WO2006/087138中，所述国际专利申请公开在此以全文引用的方式并入。
根据一些实施方案的浮雕结构包括空隙(例如，通孔和凹部)和相邻或邻近实体区(例如，突起)，其中合成图像从空隙、突起、空隙部分、突起部分，或它们的任何组合投射。这些浮雕结构可以形成于阵列层之上或之中。例如，突起可以印刷(例如，通过油墨喷射、激光喷射、凸版印刷、柔版印刷、凹版印刷或甚至雕刻印刷)到层上从而形成具有邻近印刷空隙的印刷突起，或者可以压印到层中从而形成具有邻近压花空隙的压花突起。此外，可以嵌入印刷的突起，从而形成嵌入浮雕结构阵列。图像元件阵列可以包括这些印刷图像元件、压花图像元件或嵌入图像元件的任何组合。对于图像元件适用各种大小，并且在本发明的范围内还设想图像元件阵列可以全部具有相同的尺寸或者大小可以变化。然而，在一些实施方案中，图像元件是微结构化的，这意味着一些或大量或所有图像元件是微米级的。例如，在某些实施方案中，用于投射合成图像所依赖的浮雕结构(即，空隙和/或突起)具有范围从约0.25 μm到约8 μm的深度并且具有范围从约10 μm到约40 μm的宽度。选择用于形成图像元件阵列的各种材料也是合适的，并且合适的实例包括基本上透明、有色或无色的聚合物，例如丙烯酸树脂、丙烯酸酯化聚酯、丙烯酸酯化聚氨酯、环氧树脂、聚碳酸酯、聚丙烯等。鉴于本公开，提供层的各种方式对于PHOSITA来说将是显而易见的，然而，示例性方法包括挤出、辐射固化浇铸、注塑、反应注塑或反应浇铸。优选地，所选材料的折射率大于1.2；更优选地范围从1.5到1.9。
防伪膜通过图像元件和聚焦元件的配合投射出的合成图像依靠待辨别的空隙与突起之间的对比。这种对比可以通过空隙与突起之间的尺寸和几何差异来提供，或者通过应用于空隙和/或突起的对比处理来提供。对比处理包括将对比材料施加到防伪膜上，从而在空隙与突起或其相应部分之间形成对比。可以以多种方式提供这种对比处理，包括使用不同的材料来形成空隙、实心区或其相应部分，或者通过将对比材料耦合到空隙、突起或其相应部分。对比材料的耦合包括填充或涂布空隙或其部分、涂布突起或其部分、涂布空隙或其部分的背面、涂布突起或其部分的背面，或其任何组合。如本文所用，动词“涂布”可包括对空隙、突起或其部分进行背面和正面涂布。鉴于本公开，用于填充或涂布的各种对比材料对于PHOSITA将是显而易见的。然而，对于填充或涂布对比材料，优选的是具有不同折射率的蒸发金属材料，或者染色或着色材料。在嵌入图像元件的情况下，嵌入的突起可以由明胶中的银颗粒形成，作为照相乳剂，吸收到油墨受体涂层中的着色或染色的油墨，转印到染料受体涂层中的染料升华，以及成像胶片中的光致变色或热致变色图像。替代地，当浮雕结构印刷在图像元件阵列层上时，印刷的突起是染色、着色或反射的材料或者可以是透明的聚合物材料。在某些实施方案中，突起或其部分是染色或着色的材料，但也设想在一些实施方案中印刷的空隙将像上述空隙一样进行对比处理。应当理解，空隙的填充是指占据空隙的全部深度，而涂层是指小于空隙的全部体积的任何东西。涂层可以是非常薄的层，它追溯出空隙或突起的形状或空隙或突起的背面。
在至少一个实施方案中，由设置在图像元件阵列与聚焦元件阵列之间或耦合到聚焦元件阵列的对比材料层提供对比度。在某些实施方案中，对比材料层是不连续的，因为它填充/涂布空隙但不涂布实心区或从实心区去除。根据一些实施方案，对比材料可以被设置成使得它填充/涂布空隙的至少一部分并且涂布实心区的至少一部分。在空隙被填充或涂布并且实心区被涂布的情况下，可以通过空隙与实心区之间的尺寸/几何差异来有效地提供对比度。
在本公开的范围内考虑各种对比材料，并且鉴于本文提供的描述，各种对比材料对于PHOSITA来说将是显而易见的。例如，合适的对比材料包括着色材料、可原位固化以具有光学对比度的材料或反射材料。在优选实施方案中，对比材料是着色材料，其可用于涂布/填充空隙或用于印刷突起和形成空隙。替代地，对比材料是反射材料，例如铝、锌或铜。
在各种实施方案中，安全性装置包括油墨层形式的额外组件，其填充/涂布在防伪膜层内形成的微结构(例如，空隙或实心区)。在一些实施方案中，安全性装置包括呈涂布凹部背面的铝背面涂层形式的额外组件。在一些实施方案中，所述额外组件是呈涂布实心区背面的铝背面涂层形式的对比材料。在替代实施方案中，所述额外组件是呈到一层防伪膜上的印刷着色或反射材料形式的对比材料。还设想了这些实施方案的各种组合；包括背面涂布图像元件的部分以及填充或正面涂布其它部分。
在各种实施方案中，图像元件被组织成阵列。图像元件(无论是完整图像、图像部分还是帧)在阵列的多个维度中以重复模式扩展，从而提供重复周期和间距。鉴于本公开，形成图像元件阵列的各种方式对于PHOSITA来说将是显而易见的。
聚焦元件阵列耦合到图像元件阵列，使得当通过聚焦元件阵列或其部分观看图像元件或其部分时，由防伪膜投射合成图像。合适的聚焦元件和提供聚焦元件的方法描述于国际专利申请公开WO2005/052650、WO2006/125224、WO2008/008635、WO2011/019912、WO2011/163298、WO/2013/028534、WO2014/143980、WO2009/017824、WO2016/044372、WO2016/011249、WO2013/163287、WO2007/133613、WO2012/103441、WO2015/148878、WO2017/105504、WO2005/106601和WO2006/087138中，所述国际专利申请公开在此以全文引用的方式并入。
在本公开的范围内设想各种聚焦元件。例如，折射、反射(例如，凹反射、凸反射)、混合反射/折射和衍射聚焦元件是合适的。此外，聚焦元件可以选自柱面透镜或非柱面透镜；聚焦反射器；包括多个孔的不透明层；或反射层。此外，这些非柱面透镜通常包括透镜主体和透镜基底。非柱面透镜的透镜主体和透镜基底可选自球面、非球面(例如，圆锥形、椭圆形、抛物线形等)或其组合中的任一种。这些透镜的基底可以选自各种几何形状，但圆形、椭圆形、多边形是优选的。这些聚焦元件以规则、图案化或随机的一维或二维阵列的形式布置成阵列。聚焦元件可以布置在聚焦元件的子集中，使得每个子集布置成多边形形状，例如六边形图案。在聚焦元件布置成多边形形状的各种实施方案中，多边形的每一边包括至少两个聚焦元件。此外，本文设想聚焦元件可以构成各种颜色、形状、大小、尺寸或化学组成。虽然优选地聚焦元件在整个聚焦元件阵列上具有一致的形状和大小，但也可以设想在某些实施方案中，颜色、形状、大小、尺寸或化学组成将在整个阵列上变化。
根据本公开的某些实施方案的安全性装置包括嵌入的聚焦元件阵列。已经发现，通过嵌入聚焦元件，可以减轻与聚焦元件相关联的一般污染。在第8,867,134号美国专利中提供了嵌入聚焦元件的合适嵌入制剂和手段，所述美国专利以全文引用的方式并入本文中。在某些实施方案中，嵌入材料的折射率小于聚焦元件的折射率。
尽管鉴于本公开，上述选项和对PHOSITA来说显而易见的各种其它选项是合适的，但在一些实施方案中，聚焦元件是在聚合物膜层中形成的呈二维阵列的非柱面微型透镜。这些透镜具有非球面主体和多边形(例如六边形)基本几何形状。随着图案在整个阵列上扩展，聚焦元件的子集以六边形图案布置。在至少一个方向上图像元件的重复周期与聚焦元件的重复周期的比率基本上等于1，并且图像元件阵列的对称轴与聚焦元件阵列的对应对称轴旋转未对准，从而为至少一个合成放大图像提供正视运动效果。在各种实施方案中，这种安全性装置的厚度小于50 μm，更优选小于40 μm。
透镜的特征在于F#，可以根据需要调整它以修改合成图像及其光学效果。考虑到防伪膜或安全性装置的所需厚度，合适的F数优选调整为小于10；更优选小于约4；且在一些实施方案中，最优选地小于2或1。合成图像还通过聚焦元件阵列与图像元件阵列的相对布置和对准进行调节，并且每个阵列具有相应的重复周期。可以调整相应阵列的重复周期，使得它们的比率等于1、略高于或略低于1；但是也设想了基本上高于和基本上低于1的比率。聚焦元件的基底直径(相当于柱面透镜的底部宽度)也可以根据需要进行调整，且这些基底直径可以具有200 μm至500 μm；50 µm至200 µm；小于50 μm (更优选地小于约45 μm或范围从约10 μm至约40 μm)的范围也在本公开的范围内。可以通过调整焦距使得焦距允许通过聚焦元件观看图像元件阵列中的图像元件并投射合成图像来进一步修改聚焦元件。小于50 µm的焦距是合适的；更优选小于45 μm；并且在各种实施方案中，最优选地是范围从约10μm到约30 μm。
虽然可以采用各种折射率的材料来形成聚焦元件阵列，但已发现最适合使用折射率范围为约1.0至约2.5的那些材料。具有大于1.5、1.6、1.7或更高的折射率(在589 nm，20℃下)的高折射率、有色或无色材料，例如在Hoffmuller等人的第US 2010/0109317 A1号美国专利申请公开中描述的那些材料也可用于本发明的实践以提供聚焦元件制剂或图像元件制剂(即，用于形成图像元件层)。在本发明的范围内还设想自聚焦透镜。
各种组件可以耦合到聚焦元件阵列。申请人已经发现，通过将抗粘剂耦合到聚焦元件阵列，可制造性得到显著提高。应注意，在某些实施方案中，抗粘剂与聚焦元件阵列的耦合必须在不中断聚焦元件阵列的光学功能的情况下进行，从而保持投射合成图像所需的光学完整性。因此，合适的抗粘剂不应显著干扰聚焦元件阵列的F#、焦距、颜色或折射率。此外，一些合适的抗粘剂为聚焦元件制剂提供了目标粘合平衡(TAB)，使得在制造过程中，防伪膜与转印膜之间的粘合强度足以避免在运输阶段发生分层，但又足够弱以允许在转印阶段轻松地将聚焦元件阵列与转印膜分离。因此，在各种实施方案中，抗粘剂调节防伪膜与转印膜之间的界面的粘合强度。
虽然设想在根据本公开的各种实施方案中，抗粘剂通过作为与聚焦元件阵列分离的离散层结合在防伪膜内而耦合到聚焦元件阵列，但也可设想抗粘剂以不连续的方式设置在聚焦元件阵列中，例如将其作为分散体或乳液掺入。在某些实施方案中，抗粘剂可以作为颗粒的随机或有组织的分布耦合到聚焦元件阵列；或者可以耦合为聚焦元件阵列的厚度横截面内的层。在某些实施方案中，当抗粘剂作为颗粒分布设置在聚焦元件阵列内时，颗粒未着色或具有与聚焦元件相同的着色，使得它们与聚焦元件无法区分。将抗粘剂耦合到聚焦元件阵列还可以包括选择聚焦元件制剂和混合/掺合抗粘制剂或以其它方式将抗粘制剂组合到聚焦元件中，从而形成溶液、混合物、分散体、乳液等。
在一些实施方案中，抗粘剂耦合到聚焦元件阵列，抗粘剂耦合到转印制剂、转印制剂层、聚焦元件制剂、聚焦元件制剂层(聚焦元件阵列)或其任何组合也在本发明的范围内。
在一个实施方案中，抗粘剂是表面活性剂；例如非离子表面活性剂或非离子乳化剂。合适的非离子表面活性剂对PHOSITA来说是显而易见的。然而，已经发现使用具有至少一个酯基团和烃的表面活性剂是有效的。根据至少一个实施方案，表面活性剂包括多个或交替的酯和烃基团。
替代的表面活性剂包括具有交替的环氧乙烷和环氧烷烃单元的那些表面活性剂。例如，具有EO-AO-EO-AO重复模式的表面活性剂是合适的。每个EO或AO基团分别代表大约1-10个环氧乙烷或环氧烷烃基团。这些基团的实例是以下通式的表面活性剂：
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其中R1代表直链或支链、饱和或单-或多不饱和C6-24-烷基或烯基，每个基团R2或R3彼此独立地选自-CH3、-CH2CH3、-CH2CH2-CH3、-CH(CH3)2，并且相互独立的下标w、x、y、z代表从1到6的整数。它们可以通过已知的方法从相应的醇R1-OH和环氧乙烷或环氧烷烃制造。
美国专利6,677,293还公开了作为合适表面活性剂的非离子嵌段共聚物，且以全文引用的方式并入本文中。
防伪膜投射合成图像，所述合成图像可以理解为通过图像元件阵列和聚焦元件阵列的配合而构成的图像。这种配合可以有多种形式。然而，在优选形式中，通过聚焦元件观察图像元件或其部分的观看者将看到那些图像元件或其部分的放大版本，并且观察者的眼睛立体地组合各种放大的图像元件或其部分以提供图像(即合成图像)或由图像元件的放大部分组成的多个合成图像。这些合成图像可以显示各种光学效果，包括Deep、SuperDeep、Float或SuperFloat以及当观看者相对于防伪膜或安全性装置的视角发生变化时的各种视差运动。还设想各种其它光学效果是可能的，并且鉴于本公开，这些效果对于PHOSITA将是显而易见的。由于涉及合成图像，因此应当理解，本文使用的合成图像是指通过图像元件阵列中的聚焦元件下方存在的图像点的放大和组成而形成的图像。图像点可以是完整图像、图像部分或帧。如本文所用，帧是指由图像组成的图像点(像素)，同一图像具有不同角度，例如其中图像以沿x轴和y轴从不同轴观看的图像的双轴交错组织。帧和双轴交错图像元件在美国专利9,019,613中进行了描述，所述美国专利全文并入本文中。美国专利(i) 9,482,792、(ii) 8,739,711、(iii) 7,333,268、(iv) 8,310,760、(v) 7,468,842、(vi) 7,738,175、(vii) 8,773,763和(viii) 8,867,134中描述了合适的合成图像，所述美国专利都全文并入本文中。
如所指出，在本发明的范围内设想可以将各种其它组件添加到防伪膜或安全性装置。例如，合成图像及其图像质量将部分取决于从聚焦元件到图像元件的距离是否与聚焦元件的焦距共同延伸。此距离可以通过是否存在光学间隔件来调整。光学间隔件设置在聚焦元件与图像元件之间。例如，聚焦元件和图像元件可以在光学间隔件的相应相对侧上布置成阵列，或者间隔件可以设置为聚焦元件阵列与图像元件阵列之间的不同层。合适的间隔件在国际专利申请公开WO2005/052650中进行了描述，所述国际专利申请公开全文并入本文中。光学间隔件优选地使用一种或多种基本上无色或透明的材料形成，包括但不限于例如聚碳酸酯、聚酯、聚乙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚偏二氯乙烯等的聚合物。鉴于本公开，将光学间隔件耦合到其它组件(例如，聚焦元件阵列、图像元件阵列)的方式对于PHOSITA将是显而易见的，包括将组件分层，以乳液或分散体形式呈现，然后原位固化这些层。
光学间隔件可以采用多种形状，包括平面、正弦或其它结构浮雕。在优选实施方案中，光学间隔件包括在其至少一侧上的结构浮雕。更优选地，光学间隔件具有浮雕结构，所述浮雕结构靠近聚焦元件设置，由用于在聚合材料中形成透镜或聚焦元件的压花工具形成。在这种情况下，浮雕结构优选地是具有至少一个重复周期并且跨多个轴延伸的透镜阵列(间隔件-透镜)。间隔件-透镜的重复周期与聚焦元件的重复周期的比率优选略小于1或略大于1。然而，在替代实施方案中，重复周期相同或基本大于1或小于1。还设想光学间隔件的宽度等于或小于图像元件阵列的宽度。
在一个特定实施方案中，聚焦元件阵列具有第一重复周期并且间隔件的浮雕结构具有第二重复周期，并且第一重复周期大于第二重复周期。因此，间隔件-透镜和聚焦元件具有不同的大小也在本发明的范围内。还应该明白，间隔件-透镜和聚焦元件包括但不限于具有相同大小、形状、材料、重复周期或折射率的实施方案。然而，在优选实施方案中，间隔件的折射率与聚焦元件阵列的折射率相同或基本相同。
在某些实施方案中，除了防伪膜之外，安全性装置还包括载体膜、转印膜和安全产品衬底中的至少一种。当存在载体膜时，它在靠近图像元件阵列的一侧耦合到防伪膜，且当存在转印膜时，它在与图像元件阵列相对的一侧耦合到防伪膜；并且当存在安全产品衬底时，它在靠近图像元件阵列的一侧耦合到防伪膜且不存在载体膜。
本发明的另一方面是生产安全性装置的方法和生产安全产品的方法。此方法一般包括第一运输(TPP1)阶段、第一转印阶段(TFP1)、第二运输阶段(TPP2)、第二转印阶段(TFP2)和第三运输阶段(TPP3)。第一运输阶段包括使用中间膜F1 (例如载体膜)在防伪膜耦合到载体膜时运输防伪膜。在随后的第一转印阶段，将耦合到载体膜的防伪膜进一步耦合到转印膜，这开始第一转印阶段，其中包括载体膜、防伪膜和转印膜的安全性装置在载体膜与防伪膜之间的界面处或沿着所述界面分离。在第二运输阶段，提供安全性装置，其中将防伪膜耦合到转印膜并由此进行运输。在第二转印阶段，然后将防伪膜耦合到安全产品的衬底，从而形成另一个中间安全性装置，所述中间安全性装置包括设置在转印膜与安全产品的衬底之间的防伪膜——此安全性装置在TFP2期间在防伪膜与转印膜之间的界面处或沿着所述界面分离。在第三运输阶段，将防伪膜耦合到安全产品的衬底。
在形成安全性装置时，载体膜用作用于形成和/或运输防伪膜的基底衬底。这可以通过图1中呈现的中间膜(100)最佳地说明。载体膜(120)包括基膜bf1 (101)和任选地底涂层(102)和防粘连元件(未示出)中的至少一个。鉴于本公开，用于bf1 (101)的合适材料对于PHOSITA来说将是显而易见的。然而，在优选的实施方案中，bf1(101)选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚丙烯、聚偏二氯乙烯膜或片材、聚酯膜片材、玻璃纸、纸、抹布/棉或其任意组合。
在一个特定实施方案中，第一运输阶段包括使用载体膜(120)来运输防伪膜(130)。此处，载体膜(120)的基膜bf1 (101)具有第一侧和第二侧。第一底涂层(102)耦合到第一侧。在相对的第二侧上任选地存在第二底涂层和防粘连元件(耦合到第二底涂层的与bf1相对的一侧)中的至少一者。然后在第一底涂层(102)上构建防伪膜(130)的层。因此，防伪膜既可以逐层构建，也可以作为预制的多层结构固定。在一个实施方案中，逐层构建防伪膜，其中第一防伪膜(130)层是用抗粘剂(115)或(如上所述)经过预处理或原位处理(通过喷涂或真空沉积)的图像元件阵列(103 (包括103'和103''))，随后任选地是对比材料层(104)，然后任选地是光学间隔件(105)，然后是聚焦元件阵列(106)，从而提供中间膜F6。
在图2中描绘的第一转印阶段的一个特定实施方案中，具有耦合到防伪膜(230)的载体膜(220)的膜F6 (100)通过压机进给并由此耦合到转印膜(F6') (240)。此处，转印膜(240)的基膜(bf2) (209)具有第一侧和第二侧。第一底涂层(208)耦合到bf2 (209)的第一侧。在相对的第二侧上是第二底涂层(未示出)和防粘连元件(耦合到第二底涂层的与bf2相对的一侧)中的至少一者。合适的防粘连材料对于PHOSITA来说将是显而易见的，并且包括防止防伪膜(130、230)在卷起时由于其粘性而粘到自身上的材料。转印制剂层(207)设置在转印膜(240)与防伪膜(230)之间。虽然应理解，转印制剂(207)可以被添加到防伪膜(230)或转印膜(240)中，但也可以在这些膜被运输到压机的同时在这两个膜(230、240)之间独立地进给。在某些实施方案中，图像元件层203设置在载体膜220上。根据各种实施方案，图像元件层203包括图像元件203'和203''。如图2的非限制性实例中所示，对比材料层204可以施加至图像元件层203。在某些实施方案中，可以在图像元件层203上方提供光学间隔件205。在第一转印阶段，将膜F6 (100) (即载体膜加防伪膜)耦合到转印膜(F6') (240)，然后从膜F8 (200)去除载体膜(101、201)以产生中间膜F9 (300)，如图3和图4中所描绘，并且在靠近聚焦元件(306)和远离图像元件(303)的一侧将防伪膜(330)耦合到转印膜(340)。根据各种实施方案，图像元件层303包括图像元件303'和303''。在根据本公开的各种实施方案中，任选的底漆层(308)也可以设置在转印制剂层(307)与基膜(309)之间。在一些实施方案中，光学间隔件305设置在聚焦元件306下方。如图3的非限制性实例中所示，在光学间隔件305下方提供对比材料层304。
在图4和图5中所描绘的第二运输阶段，膜F9 (400)与粘合元件(410、510、520)耦合，从而耦合到安全产品(未示出)的衬底(511)，其中在第二转印阶段，将防伪膜(530)转印到安全产品的衬底(511、611)，如图6中所描绘。在图4的非限制性实例中，示出了防伪膜430和转印膜440。根据各种实施方案，图像元件层403包括图像元件403'和403''。在根据本公开的各种实施方案中，任选的底漆层(408)也可以设置在转印制剂层(407)与基膜(409)之间。在一些实施方案中，光学间隔件405设置在聚焦元件406下方。如图4的非限制性实例中所示，在光学间隔件405下方提供对比材料层404。根据各种实施方案，图像元件层503包括图像元件503'和503''。在根据本公开的各种实施方案中，任选的底漆层(508)也可以设置在转印制剂层(507)与基膜(509)之间。在一些实施方案中，光学间隔件505设置在聚焦元件506下方。如图5的非限制性实例中所示，在光学间隔件505下方提供对比材料层504。根据各种实施方案，图像元件层603包括图像元件603'和603''。在一些实施方案中，光学间隔件605设置在聚焦元件606下方。如图6的非限制性实例中所示，在光学间隔件605下方提供对比材料层604。根据各种实施方案，粘合元件610设置在层603与611之间。
设想了各种方式来运输和转印中间膜(例如，从F1到F11) (100、200、300、400、500、600)。然而，在优选的实施方案中，所述过程通过连续进给的压机操作。在第一运输阶段期间的另外的步骤中，将由对比制剂形成的对比材料层(714''')耦合到图像元件阵列(711)。设想了用于提供对比材料层(714''')的各种方法，包括用对比制剂(714''')对图像元件阵列(711)进行泛涂直到空隙(714)被填充/涂布，然后任选地去除任何多余的部分以使实心区(714'')没有对比材料，或者不超过会扭曲空隙与实心区之间的对比度的程度。例如，在一个实施方案中，将对比材料(714''')泛涂到图像元件阵列(711)上以填充空隙(714')并且从其它区域(714'')去除所有多余的材料，只留下用对比材料(714''')分层的空隙(714')。也可以在图像元件阵列(711)的相对侧上施加对比材料(714''')，或者可以任选地或替代地作为印刷物(715)施加，其中突起是对比材料(715')。在图8中所描绘的第一运输阶段期间的另外的步骤中，将光学间隔层(726)与中间膜F4 (710)耦合，所述中间膜包括载体膜(712、722)、图像元件阵列(711、721)和任选地对比材料(724)。在一个实施方案中，通过在膜F4 (710)上设置间隔件制剂来形成光学间隔件(726)。间隔件(726)的尺寸，特别是其高度可以根据需要进行调整以考虑聚焦元件的焦距。在第一运输阶段期间的另外的步骤中，通过将聚焦元件制剂(738)设置在光学间隔件(736)上方，将聚焦元件阵列耦合到膜F5 (720)，如图9中所描绘。在本发明的范围内设想在用UV5紫外线处理聚焦元件制剂(738)之前、期间或之后使用压花设备(未示出)在聚焦元件制剂中生产透镜(柱面或非柱面) (738)，从而产生中间膜F6 (包括元件730a、730b、730c，并且在某些实施方案中，间隔层730)。图9 (730a)提供具有印刷图像元件阵列(734a)的中间膜F6；图9 (730b)提供具有嵌入图像元件阵列(734b)的中间膜F6；而图9 (730c)提供具有微结构化图像元件阵列(734c)的中间膜F6。膜F6 (730a、730b、730c)是安全性装置，包括具有底涂层的基膜、图像制剂层(即图像元件阵列) (734a、734b、734c)、油墨层(即填充油墨的空隙)、间隔件制剂层(即，间隔层) (736)和聚焦元件制剂层(即，聚焦元件阵列) (738)，其堆叠在一起使得间隔层(736)设置在聚焦元件阵列(738)与图像元件阵列之间。换句话说，中间膜F6包括载体膜(120)和防伪膜(例如，如图1中最佳描绘)。所提供的聚焦元件制剂用抗粘剂(715a、715b、715c)处理。如图9中所描绘，抗粘剂可以多种方式施加到聚焦元件上，包括作为聚焦元件内的离散层(715a)；作为聚焦元件内的均匀或基本均匀分布(715b)；或作为设置在聚焦元件上的离散层(715c)。应当理解，这些实施方案中描绘的这些各个元件可以分别互换。
在第一转印阶段期间的另外的步骤中，通过连续过程(例如联机连续压机)进给膜F6 (100) (即防伪膜(230)和载体膜(220))，其中膜F6 (100)与转印膜F6' (240)耦合，如图2中所描绘，以形成安全性装置或中间膜F7 (200)。膜F6' (240)如本文所述，并且在一个实施方案中被送入压机，使得基膜bf2 (209)上的防粘连件远离防伪膜(230)，并且bf2(209)的第一侧上的底涂层(208)靠近防伪膜(230)。额外层可以任选地耦合到F6'膜，例如底漆层。此外，转印制剂层设置在防伪膜(230)与转印膜(240)之间。转印制剂层(207)由直接设置在防伪膜(230)上或转印膜(240)上；优选地防伪膜(230)上的转印制剂形成。根据各种实施方案，转印制剂填充聚焦元件周围的间隙空间，允许转印膜在第二转印阶段期间保持层压到转印层，而且在第二转印阶段期间与防伪膜分层。这种分层在图10中得到了最好的证明，其中转印膜810的转印制剂层(817)形成与聚焦元件(816)互补的几何形状，并且聚焦元件(816)包括设置在聚焦元件(816)顶部的离散层(815)中的抗粘剂(815)。
在第一转印阶段的另外的步骤中，当对膜F8施加力以迫使沿防伪膜(230)与载体膜(220)之间的界面分层时，防伪膜(230)与载体膜(220)解耦，从而提供安全性装置、中间膜F9 (300)，如图3中所描绘。膜F9 (300)包括(i)转印膜(340)和(ii)防伪膜(330)。在本公开的各种实施方案中可以提供基膜300。
在第二运输阶段的另外的步骤中，中间膜F9 (400)与适合于将膜F9耦合到安全衬底的粘合元件(410)耦合，或替代地，如图11中所描绘，将粘合元件(821)施加到安全衬底(822)。参考图11的非限制性实例，将抗粘剂825施加到防伪膜820的聚焦元件。根据各种实施方案，提供聚焦层826和图像元件层823作为防伪膜820的一部分。
在由图5和图10最佳地描述的第二转印阶段，将中间安全性装置F10 (400)耦合到安全衬底(511)以形成安全产品或中间膜F10' (500)。F10'是包括转印膜(540)、安全衬底(511)以及耦合到转印膜和安全衬底的防伪膜(530)的安全产品，所述防伪膜通过设置在防伪膜(530)与安全衬底(511)之间的粘合元件(510)耦合到转印膜和安全衬底。然后从膜F10'去除转印膜(540)，留下膜F11，其包括耦合到安全衬底(611)的防伪膜(530、630)。
基膜bf1和bf2可以由具有适当柔韧性以允许在转印阶段弯曲的任何材料构成。在某些实施方案中，bf1和bf2可以是相同的材料或不同的材料。在一个特定实施方案中，bf1是59号PET膜，而bf2是92号PET膜。
如本文所述，所得防伪膜包括图像元件阵列和聚焦元件阵列，其耦合在一起以投射合成图像。图12和图13提供了所得防伪膜(830、840)的示例性实施方案。例如，在图12中，图像元件(831)被描绘为“$”并且聚焦元件(832)是布置成在多个轴上扩展的阵列的一组折射微透镜(832)。此外，安全性装置还包括具有浮雕结构(833')的光学间隔件(833)。替代地，在图13中，聚焦元件(842)是反射性的并且设置在图像元件阵列(841)和转印膜下方(845)，所述转印膜设置在图像元件上方且用于将防伪膜转印到安全衬底(未示出)。
在本发明的另一方面中，提供一种由工艺限定的产品，由此如本文描述的安全性装置通过如本文描述的工艺制造。
在本发明的另一方面中，提供一种用途。在一个实施方案中，所述用途包括通过将安全性装置耦合到高价值或高安全性产品的衬底来使用安全性装置保护高价值或高安全性产品。
在本发明的范围内还设想各种安全产品。安全产品包括耦合到衬底层的安全性装置。虽然各种安全产品对于PHOSITA来说是显而易见的，但在一个特定实施方案中，安全产品是例如钞票、支票、汇票或其它货币工具的高安全性产品。在安全产品是钞票的情况下，安全性装置呈各种形状、大小和颜色的补丁或条带的形式在本发明的范围内。此外，优选地，安全性装置耦合到安全产品衬底的表面而不是嵌入在钞票纸张的表面之下，尽管这不是排他的。在替代实施方案中，安全性装置耦合到表面，其中所述安全性装置的边缘中的至少一个至少部分地埋在钞票纸张的下方或一定深度内。将防伪膜从转印膜转印到衬底的合适方法(包括通过热印烫金)对PHOSITA来说是显而易见的。
在第一实例实施方案中，通过提供包括基膜(BF1)和底涂层的中间膜F1来生产载体膜。然后在载体膜(F2)上形成防伪膜。为了形成防伪膜，将图像制剂沉积到载体膜F2的底涂层上，其中图像制剂用紫外线辐射(UV2)进行紫外线处理，并用图标压花设备压花以在图像制剂中创建微结构，从而形成中间膜F3。膜F3具有UV2固化的图像制剂层和通过图标压花设备在图标制剂层中形成的微结构。然后用油墨1对F3的微结构进行泛涂，接着从实心区去除多余部分。然后用紫外线辐射(UV3)对油墨1进行紫外线处理，从而产生中间膜F4。然后在中间膜F4上形成间隔层。为了形成间隔层，将间隔件制剂沉积在F4的图像制剂层侧上。然后通过首先在间隔层上沉积聚焦元件制剂，在间隔层上形成聚焦元件的层或阵列。使用透镜工具在聚焦元件制剂中生产微结构透镜。然后使用紫外线辐射(UV6)再次对膜F6进行紫外线处理。膜F6包括具有底涂层的基膜、图像制剂层(即图像元件阵列)、油墨层(即填充油墨的空隙)、间隔件制剂层(即，间隔层)和聚焦元件制剂层(即，聚焦元件阵列)，其堆叠在一起使得间隔层设置在聚焦元件阵列与图像元件阵列之间。换句话说，中间膜F6包括载体膜和防伪膜。
膜F6被送入压机，其中所述膜附着到转印膜，从而形成膜F7。提供转印膜(膜F6')，其中所述膜包括基膜BF2、在其第一侧上的粘合促进底涂层、以及在其相反侧上的底涂层和防粘连层。底漆层耦合到膜F6'的第一侧以形成膜F6''。转印制剂耦合到聚焦元件阵列以形成膜F7。在某些实施方案中，抗粘剂被施加到聚焦元件阵列。膜F6''和膜F7耦合使得底漆层与转印制剂层接触，从而形成膜F8。
通过去除载体膜修改膜F8，从而留下膜F9。膜F9包括(i)具有的转印膜，(ii)底漆层，(iii)转印制剂层，和(iii)防伪膜。
将粘合剂添加到图标侧的膜F9，从而产生安全性装置(膜F10)。
将膜F10切成条带并去除转印膜以生产防伪膜(膜F11)。转印膜的去除与防伪膜和安全产品衬底的耦合同时进行。
也可以通过将F10倒置来将膜F10切成补丁，使得粘合元件在顶部且BF2在底部。切割补丁并去除载体层以产生补丁形式的膜F11。
在第二实例实施方案中，防伪膜包括(i)载体膜和(ii)设置在载体膜上的防伪膜。防伪膜包括92号基膜bf1和设置在图像元件阵列与bf1膜之间的底涂层。防伪膜包括设置在图像元件阵列上的聚焦元件阵列，其中图像元件阵列和聚焦元件阵列设置在光学间隔件的相对侧上。此处，图像元件阵列形成为微结构空隙，所述微结构空隙填充有具有亚微米颜料的油墨。防伪膜的层(图像、间隔件和聚焦)按照它们在括号中出现的顺序在防伪膜的具有底涂层的一侧上分层。载体膜的底涂层与防伪膜中的图像元件阵列直接接触。防伪膜的聚焦元件阵列通过抗粘剂处理。
在第三实例实施方案中，安全性装置包括(i)载体膜、(ii)防伪膜和(iii)转印膜，其中防伪膜设置在载体膜与转印膜之间。防伪膜直接耦合到设置在转印膜与防伪膜之间的转印层。聚焦元件阵列通过抗粘剂处理。防伪膜包括呈构成油墨的印刷微结构形式的图像元件阵列。
在第四实例实施方案中，提供一种安全性装置，其包括(i)安全产品衬底，(ii)防伪膜和(iii)转印膜。防伪膜包括直接耦合到聚焦元件阵列的图像元件阵列，其中聚焦元件的焦点聚焦在图像元件深度范围内(范围从0.5 μm到5 μm)。聚焦元件阵列直接耦合到转印制剂层，所述转印制剂层又耦合到设置在转印制剂层与bf2膜(92号)之间的底漆层。此处，如在通篇描述的一些实施方案中，聚焦元件耦合到转印制剂层，使得在转印制剂中形成聚焦元件的反面形状。用抗粘剂处理聚焦元件阵列，从而在聚焦元件内形成整合图案。此处，安全产品是钞票，并且安全性装置作为补丁转印到衬底上。
在第一组实施方案的某些实施方案中，一种安全性装置包括防伪膜(130)，所述防伪膜包括(i)图像元件阵列(103)，(ii)聚焦元件阵列(106)和(iii)至少一种抗粘剂(115)；其中聚焦元件阵列和图像元件阵列相对于彼此设置，使得当通过聚焦元件阵列的至少一部分观看图像元件阵列的至少一部分时，由防伪膜投射合成图像；并且其中抗粘剂与聚焦元件阵列耦合。
根据各种实施方案，光学间隔件设置在图像元件阵列与聚焦元件阵列之间。
在第一组实施方案的一些实施方案中，安全性装置包括具有浮雕结构的光学间隔件。
在第一组实施方案的一些实施方案中，光学间隔件和图像元件阵列各自具有宽度，并且光学间隔件的宽度小于图像元件阵列的宽度。
在第一组实施方案内的至少一个实施方案中，聚焦元件阵列具有第一重复周期且浮雕结构具有第二重复周期，并且第一重复周期大于第二重复周期。
根据第一组实施方案的各种实施方案，以完整图像、部分图像或帧的重复图案来组织图像元件。
在第一组实施方案内的各种实施方案中，图像元件是微结构。
根据第一组实施方案内的一些实施方案，微结构包括空隙和实心区中的至少一个。
在第一组实施方案内的一些实施方案中，安全性装置还包括耦合到图像元件阵列的对比材料。
在第一组实施方案内的某些实施方案中，对比材料是着色材料或反射材料中的至少一种。此外，在一些实施方案中，对比材料是设置在形成图像元件的微结构空隙内的油墨。
根据第一组实施方案内的一些实施方案，对比材料包括设置在形成图像元件的微结构空隙内的铝。
在第一组实施方案内的各种实施方案中，安全性装置包括具有小于50 um的基底直径的聚焦元件。
根据第一组实施方案内的各种实施方案，聚焦元件被布置成六边形子集阵列，其中六边形的每一边包括至少两个聚焦元件。
在第一组实施方案内的至少一个实施方案中，聚焦元件是嵌入的。
在根据第一组实施方案的各种实施方案中，聚焦元件包括自聚焦透镜。
在根据第一组实施方案的某些实施方案中，聚焦元件具有多边形基底和非球面体中的至少一个。
根据第一组实施方案内的一些实施方案，聚焦元件具有小于4的F数。
在第一组实施方案内的各种实施方案中，聚焦元件阵列具有范围从约1.0到约2.5的折射率。
根据第一组实施方案内的至少一个实施方案，抗粘剂是非离子表面活性剂。
根据第一组实施方案内的各种实施方案，抗粘剂还耦合到光学间隔件和图像元件阵列中的至少一个。
在第一组实施方案内的某些实施方案中，抗粘剂是具有多个酯基团的表面活性剂。
在根据第一组实施方案的一些实施方案中，一种安全性装置包括以下至少一项：载体膜、转印膜以及安全产品衬底，其中当存在载体膜时，它在靠近图像元件阵列的一侧耦合到防伪膜，且当存在转印膜时，它在与图像元件阵列相对的一侧耦合到防伪膜，并且当存在安全产品衬底时，它在靠近图像元件阵列的一侧耦合到防伪膜且不存在载体膜。
在第一组实施方案内的各种实施方案中，载体膜包括bf1基膜，并且任选地包括底涂层和防粘连元件中的至少一个。
在根据第一组实施方案的某些实施方案中，载体膜包括bf1基膜，并且具有耦合到第一侧的第一底涂层和耦合到第二侧的第二底涂层且具有耦合到第二底涂层的防粘连元件。
根据第一组实施方案内的一些实施方案，转印膜包括bf2基膜，以及任选地至少一个防粘连元件和至少一个底涂层。
根据第一组实施方案中的某些实施方案，安全性装置还包括底漆层、转印制剂层和底漆-转印制剂双层中的至少一个，其耦合到与防粘连元件相对的底涂层中的一者。
在根据第一组实施方案的各种实施方案中，转印膜包括bf2基膜并且具有耦合到第一侧的第一底涂层和耦合到第二侧的第二底涂层且具有耦合到第二底涂层的防粘连件，并且底漆-转印制剂双层设置在转印膜与防伪膜之间。
在第一组实施方案的至少一个实施方案中，防伪膜通过设置在防伪膜与安全产品衬底之间的粘合元件耦合到安全产品衬底。
在第一组实施方案内的各种实施方案中，转印膜还包括设置在转印膜与防伪膜之间的底漆层。
在根据本公开的第二组实施方案中，一种形成安全性装置的方法包括通过以下方式提供防伪膜(130)：(i)将聚焦元件阵列(106)层叠在图像元件阵列(103)上，使得当通过聚焦元件阵列观看图像元件阵列时，由防伪膜投射合成图像，并且(ii)将抗粘剂(115)耦合到聚焦元件。
在根据第二组实施方案的各种实施方案中，一种方法包括以下至少一项：结合防伪膜与载体膜，结合防伪膜与转印膜，以及结合安全产品衬底，其中当载体膜与防伪膜结合时，它在靠近图像元件阵列的一侧耦合到防伪膜，且当存在转印膜时，它在与图像元件阵列相对的一侧耦合到防伪膜，并且其中当结合安全产品时，它在靠近图像元件阵列的一侧耦合到防伪膜且不存在载体膜。
在各种实施方案中，通过第二组实施方案的方法生产第一组实施方案内的安全性装置。
在第三组实施方案中，安全产品包括安全产品衬底(822)和具有抗粘剂(825)的防伪膜(820)，其中所述防伪膜耦合到安全产品衬底。
一种根据第三组实施方案的安全产品，其中粘合元件设置在安全产品衬底与防伪膜之间。
根据第四组实施方案，一种形成安全产品的方法包括提供防伪膜(130)；以及将防伪膜耦合到安全产品衬底(120)。
通过第四组实施方案内的方法形成根据第三组实施方案的安全产品。
第一组实施方案的安全性装置用于保护安全产品的用途。
第三组实施方案内的一种安全产品，其中安全产品衬底是钞票。
结合第一组实施方案的安全性装置的安全产品的用途，其中安全产品是钞票。
第一组实施方案内的一种安全性装置，其中聚焦元件阵列具有聚焦宽度，间隔层具有间隔宽度，图像元件阵列具有图像宽度并且载体膜具有载体宽度，使得载体宽度大于图像宽度，图像宽度又大于间隔宽度，而间隔宽度又大于聚焦宽度。
本文提供的实例和实施方案是以下权利要求中提供的本发明的实例。

Claims (41)

1.一种安全性装置，包括
防伪膜(130)，其包括(i)图像元件阵列(103)；(ii)聚焦元件阵列(106)；以及(iii)至少一种抗粘剂(115)；
其中所述聚焦元件阵列和所述图像元件阵列相对于彼此设置，使得当通过所述聚焦元件阵列的至少一部分观看所述图像元件阵列的至少一部分时，由所述防伪膜投射合成图像；并且
其中所述抗粘剂与所述聚焦元件阵列耦合。
2.如权利要求1所述的安全性装置，其中光学间隔件设置在所述图像元件阵列与所述聚焦元件阵列之间。
3.如权利要求2所述的安全性装置，其中所述光学间隔件具有浮雕结构。
4.如权利要求2所述的安全性装置，其中所述光学间隔件和所述图像元件阵列各自具有宽度，并且所述光学间隔件的所述宽度小于所述图像元件阵列的所述宽度。
5.如权利要求3所述的安全性装置，其中所述聚焦元件阵列具有第一重复周期且所述浮雕结构具有第二重复周期，并且所述第一重复周期大于所述第二重复周期。
6.如权利要求1所述的安全性装置，其中以完整图像、部分图像或帧的重复图案来组织所述图像元件。
7.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述图像元件是微结构。
8.如权利要求7所述的安全性装置，其中所述微结构包括空隙和实心区中的至少一个。
9.如权利要求1所述的安全性装置，还包括耦合到所述图像元件阵列的对比材料。
10.如权利要求9所述的安全性装置，其中所述对比材料是着色材料或反射材料中的至少一种。
11.如权利要求9所述的安全性装置，其中所述对比材料是设置在形成所述图像元件的微结构空隙内的油墨。
12.如权利要求9所述的安全性装置，其中所述对比材料包括设置在形成所述图像元件的微结构空隙内的铝。
13. 如权利要求1所述的安全性装置，其中所述聚焦元件具有小于50 um的基底直径。
14.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述聚焦元件被布置成六边形子集阵列，其中所述六边形的每一边包括至少两个聚焦元件。
15.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述聚焦元件是嵌入的。
16.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述聚焦元件包括自聚焦透镜。
17.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述聚焦元件具有多边形基底和非球面体中的至少一个。
18.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述聚焦元件具有小于4的F数。
19.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述聚焦元件阵列具有范围从约1.0到约2.5的折射率。
20.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述抗粘剂是非离子表面活性剂。
21.如权利要求2所述的安全性装置，其中所述抗粘剂还耦合到所述光学间隔件和所述图像元件阵列中的至少一个。
22.如权利要求1所述的安全性装置，其中所述抗粘剂是具有多个酯基团的表面活性剂。
23.如权利要求1所述的安全性装置，还包括以下至少一项：
载体膜；
转印膜；以及
安全产品衬底，
其中当存在所述载体膜时，它在靠近所述图像元件阵列的一侧耦合到所述防伪膜，且当存在所述转印膜时，它在与所述图像元件阵列相对的一侧耦合到所述防伪膜；并且
其中当存在所述安全产品衬底时，它在靠近所述图像元件阵列的所述一侧耦合到所述防伪膜且不存在所述载体膜。
24.如权利要求23所述的安全性装置，其中所述载体膜包括bf1基膜，并且任选地底涂层和防粘连元件中的至少一个。
25.如权利要求23所述的安全性装置，其中所述载体膜包括bf1基膜，并且具有耦合到第一侧的第一底涂层和耦合到第二侧的第二底涂层且具有耦合到所述第二底涂层的防粘连元件。
26.如权利要求23所述的安全性装置，其中所述转印膜包括bf2基膜，以及任选地至少一个防粘连元件和至少一个底涂层。
27. 如权利要求26所述的安全性装置，还包括底漆层、转印制剂层和底漆-转印制剂双层中的至少一个，其耦合到与所述防粘连元件相对的所述底涂层中的一者。
28.如权利要求27所述的安全性装置，其中所述转印膜包括bf2基膜，并且具有耦合到第一侧的第一底涂层和耦合到第二侧的第二底涂层且具有耦合到所述第二底涂层的防粘连件；并且
其中所述底漆-转印制剂双层设置在所述转印膜与所述防伪膜之间。
29.如权利要求23所述的安全性装置，其中所述防伪膜通过设置在所述防伪膜与所述安全产品衬底之间的粘合元件耦合到所述安全产品衬底。
30.如权利要求23所述的安全性装置，其中所述转印膜还包括设置在所述转印膜与所述防伪膜之间的底漆层。
31.一种形成安全性装置的方法，包括：
通过以下方式提供防伪膜(130)：(i)将聚焦元件阵列(106)层叠在图像元件阵列(103)上，使得当通过所述聚焦元件阵列观看所述图像元件阵列时，由所述防伪膜投射合成图像，并且(ii)将抗粘剂(115)耦合到所述聚焦元件。
32.如权利要求31所述的方法，还包括以下至少一项：
结合所述防伪膜与载体膜；
结合所述防伪膜与转印膜；以及
结合安全产品衬底；
其中当所述载体膜与所述防伪膜结合时，它在靠近所述图像元件阵列的一侧耦合到所述防伪膜，且当存在所述转印膜时，它在与所述图像元件阵列相对的一侧耦合到所述防伪膜；并且
其中当结合所述安全产品时，它在靠近所述图像元件阵列的所述一侧耦合到所述防伪膜且不存在所述载体膜。
33.如权利要求1所述的安全性装置，其通过如权利要求31所述的方法形成。
34.一种安全产品，包括：
安全产品衬底(822)；
防伪膜(820)，其具有抗粘剂(825)，其中所述防伪膜耦合到所述安全产品衬底。
35.如权利要求34所述的安全产品，其中粘合元件设置在所述安全产品衬底与所述防伪膜之间。
36. 一种形成安全产品的方法，包括：
提供防伪膜(130)；以及
将所述防伪膜耦合到安全产品衬底(120)。
37.如权利要求34所述的安全产品，其通过如权利要求36所述的方法形成。
38.一种如权利要求1所述的安全性装置用于保护安全产品的用途。
39.如权利要求34所述的安全产品，其中所述安全产品衬底是钞票。
40.如权利要求38所述的用途，其中所述安全产品是钞票。
41.如权利要求23所述的防伪膜，其中所述聚焦元件阵列具有聚焦宽度，所述间隔层具有间隔宽度，所述图像元件阵列具有图像宽度并且所述载体膜具有载体宽度，使得所述载体宽度大于所述图像宽度，所述图像宽度又大于所述间隔宽度，而所述间隔宽度又大于所述聚焦宽度。
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