CN113193141B - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示面板及其制备方法，本发明通过在基底层与触控驱动单元之间增加第一光学膜层以及第二光学膜层，所述第一光学膜层及所述触控驱动单元的材质的折射率均小于所述第二光学膜层的材质的折射率，以使显示面板的发光单元发出的部分光线穿过第一光学膜层以及第二光学膜层，在第二光学膜层和触控驱动单元的接触面发生全反射，反射之后的光线穿过第二光学膜层，在第一光学膜层和第二光学膜层的接触面发生漫反射的同时发生全反射，在多次反射之后，光线从相邻两个触控驱动单元之间远离所述基底层的方向出射，由此可以减少发光单元发出的光线的损耗，增加发光单元发出的光线的利用率，提高显示面板的出光效率。

Description

一种显示面板及其制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

有机发光显示装置(英文全称：Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)又称为有机电激光显示装置、有机发光半导体。OLED具有电压需求低、省电效率高、反应快、重量轻、厚度薄，构造简单，成本低、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，已经成为当今最重要的显示技术之一。

随着电子及触控技术的快速发展，触控显示面板孕育而生，触控显示面板是结合感测技术及显示技术所形成的一种输入/输出装置，普遍运用于电子设备当中。电容式触控显示面板是一种最为常用的触控显示面板，电容式触控显示面板利用电容耦合效应以侦测触碰位置，当手指触碰电容式触控显示面板的表面时，相应位置的电容量会受到改变，因而得以侦测到触碰位置。电容式触控可分为外挂式及嵌入式两种技术路线，外挂式又有GFF(英文全称：Glass-Film-Film)和GG(英文全称：Glass-Glass)等结构，嵌入式又有On-cell和In-cell结构。

对于市面上的In-cell触控的OLED屏幕产品而言，目前的触控层一般选用多层金属膜作为触控驱动电极和触控感应电极。由于金属膜有较高的反射性能，因此发光单元发出的部分光线经过触控层多次反射后从显示面板的底部射出，进而造成显示面板的发光单元射出的光线的损失，导致显示面板发光单元的光线利用率低下。因此，需要寻求一种新型的显示面板以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种显示面板，其能够解决现有显示面板中存在的显示面板发光单元的光线利用率低下的问题。

为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板，其包括：基底层；若干触控驱动单元，相互间隔设置于所述基底层的一侧；第一光学膜层，其一侧面贴合至所述基底层朝向所述触控驱动单元的一侧的表面，其另一侧面设有粗糙结构；所述第一光学膜层与所述触控驱动单元对应设置；第二光学膜层，其一侧面贴合至所述第一光学膜层远离所述基底层的一侧的表面，其另一侧面贴合至所述触控驱动单元朝向所述基底层的一侧的表面；所述第二光学膜层与所述触控驱动单元对应设置；其中，所述第一光学膜层及所述触控驱动单元的材质的折射率均小于所述第二光学膜层的材质的折射率。

进一步的，当光线照射至所述第二光学膜层与所述触控驱动单元的接触面时，入射角大于临界角的光线发生全反射；当光线照射至所述第一光学膜层与所述第二光学膜层的接触面时发生漫反射及全反射。

进一步的，所述第二光学膜层的材质的折射率的范围为1.7-2.5，所述触控驱动单元的材质的折射率的范围为1-1.5，所述第一光学膜层的材质的折射率的范围为1-1.5。

进一步的，所述第二光学膜层的厚度与所述粗糙结构的厚度的比值为3-10。

进一步的，所述的显示面板还包括：第一介质层，覆盖于所述触控驱动单元上且延伸覆盖于所述基底层上；若干触控感应单元，设置于所述第一介质层远离所述基底层的一侧的表面上，且与所述触控驱动单元对应设置；以及第二介质层，覆盖于所述触控感应单元上且延伸覆盖于所述第一介质层上。

进一步的，所述基底层包括：基板；薄膜晶体管层，设置于所述基板朝向所述触控驱动单元的一侧的表面上；若干发光单元，相互间隔设置于所述薄膜晶体管层朝向所述触控驱动单元的一侧的表面上；封装层，覆盖于所述发光单元上且延伸覆盖于所述薄膜晶体管层上；以及保护层，设置于所述封装层远离所述基板的一侧的表面上；其中，每一所述触控驱动单元在所述基板上的投影均位于相邻两个所述发光单元之间。

为了解决上述问题，本发明提供了一种显示面板的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底层；在所述基底层的一侧的表面上的预设位置制备间隔设置的多个第一光学膜层；对所述第一光学膜层远离所述基底层的一侧的表面进行粗糙化处理，形成粗糙结构；在所述第一光学膜层远离所述基底层的一侧的表面上制备第二光学膜层，所述第二光学膜层与所述第一光学膜层对应设置；以及在所述第二光学膜层远离所述基底层的一侧的表面上制备若干触控驱动单元，所述触控驱动单元与所述第二光学膜层对应设置；其中，所述第一光学膜层及所述触控驱动单元的材质的折射率均小于所述第二光学膜层的材质的折射率。

进一步的，所述粗糙化处理的工艺包括：等离子体刻蚀工艺或化学气相沉积工艺。

进一步的，所述第一光学膜层和所述第二光学膜层的制备工艺均包括：喷墨打印工艺、化学气相沉积工艺及原子层沉积工艺中的一种。

进一步的，所述触控驱动单元的制备工艺为物理气相沉积工艺。

本发明的优点是：本发明涉及一种显示面板及其制备方法，本发明通过在基底层与触控驱动单元之间增加第一光学膜层以及第二光学膜层，所述第一光学膜层及所述触控驱动单元的材质的折射率均小于所述第二光学膜层的材质的折射率，以使显示面板的发光单元发出的部分光线穿过第一光学膜层以及第二光学膜层，在第二光学膜层和触控驱动单元的接触面发生全反射，反射之后的光线穿过第二光学膜层，在第一光学膜层和第二光学膜层的接触面发生漫反射的同时发生全反射，在多次反射之后，光线从相邻两个触控驱动单元之间远离所述基底层的方向出射，由此可以减少发光单元发出的光线的损耗，增加发光单元发出的光线的利用率，提高显示面板的出光效率。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明的显示面板的结构示意图；

图2是本发明的显示面板的光线走向示意图；

图3是本发明显示面板的制备步骤图。

附图标记说明：

100、显示面板

1、基底层； 2、第一光学膜层；

3、第二光学膜层； 4、触控驱动单元；

5、第一介质层； 6、触控感应单元；

7、第二介质层；

11、基板； 12、薄膜晶体管层；

13、发光单元； 14、封装层；

15、保护层。

具体实施方式

以下结合说明书附图详细说明本发明的优选实施例，以向本领域中的技术人员完整介绍本发明的技术内容，以举例证明本发明可以实施，使得本发明公开的技术内容更加清楚，使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本发明。然而本发明可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例，下文实施例的说明并非用来限制本发明的范围。

本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是附图中的方向，本文所使用的方向用语是用来解释和说明本发明，而不是用来限定本发明的保护范围。

在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外，为了便于理解和描述，附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。

如图1所示，本实施例提供一种显示面板100。所述显示面板100包括：基底层1、第一光学膜层2、第二光学膜层3、若干触控驱动单元4、第一介质层5、若干触控感应单元6以及第二介质层7。

如图1所示，所述基底层1包括：基板11、薄膜晶体管层12、若干发光单元13、封装层14以及保护层15。

其中，基板11可以采用柔性基板，具有阻隔水氧作用，基板11可具有较好的抗冲击能力，可以有效保护显示面板100。基板11的材质包括二氧化硅、涤纶树脂、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乳酸、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺或聚氨酯中的一种或多种。

如图1所示，薄膜晶体管层12设置于所述基板11朝向所述触控驱动单元4的一侧的表面上。所述薄膜晶体管层12包括：栅极层、栅极绝缘层、有源层、以及源漏极层等膜层，在此不进行赘述。其中所述源漏极层电连接至所述有源层。其中，所述薄膜晶体管层12可以采用顶栅结构，也可以采用底栅结构，本实施例对此不进行限定。

如图1所示，若干发光单元13相互间隔设置于所述薄膜晶体管层12朝向所述触控驱动单元4的一侧的表面上。其中所述发光单元13可以包括：第一电极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层以及第二电极等膜层，在此不进行赘述。

如图1所示，封装层14覆盖于所述发光单元13上且延伸覆盖于所述薄膜晶体管层12上。其中封装层14可以包括有机层，也可以包括无机层，也可以同时包括无机层和有机层。

如图1所示，保护层15设置于所述封装层14远离所述基板11的一侧的表面上。保护层15主要用于保护封装层14及其下的发光单元13等膜层。

如图1所示，若干触控驱动单元4相互间隔设置于所述基底层1的一侧。本实施例中，所述触控驱动单元4相互间隔设置于所述第二光学膜层3远离所述基底层1的一侧的表面上。所述触控驱动单元4的材质的折射率小于所述第二光学膜层3的材质的折射率。所述触控驱动单元4的材质的折射率的范围为1-1.5。本实施例优选的，所述触控驱动单元4的材质的折射率为1.3，在其他实施例中，所述触控驱动单元4的材质的折射率可以为1、1.1、1.4或者1.5。

如图1所示，每一所述触控驱动单元4在所述基板11上的投影均位于相邻两个所述发光单元13之间。由于触控驱动单元4一般采用金属材料制成，故而这样设置可以避免触控驱动单元4遮挡发光单元13，影响显示面板100的显示效果。

如图1所示，第一光学膜层2的一侧面贴合至所述基底层1朝向所述触控驱动单元4的一侧的表面，第一光学膜层2的另一侧面设有粗糙结构。所述粗糙结构的形状包括：锯齿形、波浪形及凹凸型中的一种或多种。所述粗糙结构的厚度小于50nm。如果粗糙结构的厚度大于50nm，则会加厚显示面板100的整体厚度，影响显示面板100的整体美观。其中，所述第一光学膜层2与所述触控驱动单元4对应设置。

其中，所述第一光学膜层2的材质的折射率小于所述第二光学膜层3的材质的折射率。所述第一光学膜层2的材质的折射率的范围为1-1.5。本实施例优选的，所述第一光学膜层2的材质的折射率为1.3，在其他实施例中，所述第一光学膜层2的材质的折射率可以为1、1.1、1.4或者1.5。

如图1所示，第二光学膜层3的一侧面贴合至所述第一光学膜层2远离所述基底层1的一侧的表面，第二光学膜层3的另一侧面贴合至所述触控驱动单元4朝向所述基底层1的一侧的表面；所述第二光学膜层3与所述触控驱动单元4对应设置。所述第二光学膜层3的材质的折射率的范围为1.7-2.5。本实施例优选的，所述第二光学膜层3的材质的折射率为2.0，在其他实施例中，所述第二光学膜层3的材质的折射率可以为1.7、1.8、1.9、2.1、2.2、2.3、2.4或者2.5。其中，所述第二光学膜层3的厚度与所述粗糙结构的厚度的比值为3-10。本实施例中，所述第二光学膜层3的厚度与所述粗糙结构的厚度的比值为4。所述第二光学膜层3的厚度为200nm。在其他实施例中，所述第二光学膜层3的厚度为150nm、180nm、220nm、240nm或者250nm。

如图1所示，第一介质层5覆盖于所述触控驱动单元4上且延伸覆盖于所述基底层1上。第一介质层5可以采用绝缘材料，可以防止触控驱动单元4与触控感应单元6之间发生短路。

如图1所示，若干触控感应单元6设置于所述第一介质层5远离所述基底层1的一侧的表面上，且与所述触控驱动单元4对应设置。

如图1所示，第二介质层7覆盖于所述触控感应单元6上且延伸覆盖于所述第一介质层5上。第二介质层7可以很好的保护触控感应单元6，防止其受水氧入侵。

如图2所示，当光线照射至所述第二光学膜层3与所述触控驱动单元4的接触面时，入射角大于临界角的光线发生全反射；当光线照射至所述第一光学膜层2与所述第二光学膜层3的接触面时发生漫反射及全反射。具体的，本实施例通过在基底层1与触控驱动单元4之间增加第一光学膜层2以及第二光学膜层3，所述第一光学膜层2及所述触控驱动单元4的材质的折射率均小于所述第二光学膜层3的材质的折射率，以使显示面板100的发光单元13发出的部分光线穿过第一光学膜层2以及第二光学膜层3，在第二光学膜层3和触控驱动单元4的接触面发生全反射，反射之后的光线穿过第二光学膜层3，在第一光学膜层2和第二光学膜层3的接触面发生漫反射的同时发生全反射，在多次反射之后，光线从相邻两个触控驱动单元4之间远离所述基底层1的方向出射，由此可以减少发光单元13发出的光线的损耗，增加发光单元13发出的光线的利用率，提高显示面板100的出光效率。

如图3所示，本实施例还提供了本实施例提及的显示面板100的制备方法，其包括以下步骤：S1，提供一基底层1；S2，在所述基底层1的一侧的表面上的预设位置处制备间隔设置的多个第一光学膜层2；S3，对所述第一光学膜层2远离所述基底层1的一侧的表面进行粗糙化处理，形成粗糙结构；S4，在所述第一光学膜层2远离所述基底层1的一侧的表面上制备第二光学膜层3，所述第二光学膜层3与所述第一光学膜层2对应设置；以及S5，在所述第二光学膜层3远离所述基底层1的一侧的表面上制备若干触控驱动单元4，所述触控驱动单元4与所述第二光学膜层3对应设置。其中，所述第一光学膜层2及所述触控驱动单元4的材质的折射率均小于所述第二光学膜层3的材质的折射率。其中，所述预设位置即后期制备形成触控驱动单元的位置。

通过在基底层1与触控驱动单元4之间增加第一光学膜层2以及第二光学膜层3，所述第一光学膜层2及所述触控驱动单元4的材质的折射率均小于所述第二光学膜层3的材质的折射率，以使显示面板100的发光单元13发出的部分光线穿过第一光学膜层2以及第二光学膜层3，在第二光学膜层3和触控驱动单元4的接触面发生全反射，反射之后的光线穿过第二光学膜层3，在第一光学膜层2和第二光学膜层3的接触面发生漫反射的同时发生全反射，在多次反射之后，光线从相邻两个触控驱动单元4之间远离所述基底层1的方向出射，由此可以减少发光单元13发出的光线的损耗，增加发光单元13发出的光线的利用率，提高显示面板100的出光效率。

步骤S3中的所述粗糙化处理的工艺包括：等离子体刻蚀工艺或化学气相沉积工艺。

步骤S2中所述第一光学膜层2的制备工艺均包括：喷墨打印工艺、化学气相沉积工艺及原子层沉积工艺中的一种。

步骤S4中所述第二光学膜层3的制备工艺均包括：喷墨打印工艺、化学气相沉积工艺及原子层沉积工艺中的一种。

步骤S5中所述触控驱动单元的制备工艺为物理气相沉积工艺。

以上对本申请所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基底层；

若干触控驱动单元，相互间隔设置于所述基底层的一侧；

第一光学膜层，其一侧面贴合至所述基底层朝向所述触控驱动单元的一侧的表面，其另一侧面设有粗糙结构；所述第一光学膜层与所述触控驱动单元对应设置；

第二光学膜层，其一侧面贴合至所述第一光学膜层远离所述基底层的一侧的表面，其另一侧面贴合至所述触控驱动单元朝向所述基底层的一侧的表面；所述第二光学膜层与所述触控驱动单元对应设置；

其中，所述第一光学膜层及所述触控驱动单元的材质的折射率均小于所述第二光学膜层的材质的折射率。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，当光线照射至所述第二光学膜层与所述触控驱动单元的接触面时，入射角大于临界角的光线发生全反射；当光线照射至所述第一光学膜层与所述第二光学膜层的接触面时发生漫反射及全反射。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二光学膜层的材质的折射率的范围为1.7-2.5，所述触控驱动单元的材质的折射率的范围为1-1.5，所述第一光学膜层的材质的折射率的范围为1-1.5。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二光学膜层的厚度与所述粗糙结构的厚度的比值为3-10。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：

第一介质层，覆盖于所述触控驱动单元上且延伸覆盖于所述基底层上；

若干触控感应单元，设置于所述第一介质层远离所述基底层的一侧的表面上，且与所述触控驱动单元对应设置；以及

第二介质层，覆盖于所述触控感应单元上且延伸覆盖于所述第一介质层上。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基底层包括：

基板；

薄膜晶体管层，设置于所述基板朝向所述触控驱动单元的一侧的表面上；

若干发光单元，相互间隔设置于所述薄膜晶体管层朝向所述触控驱动单元的一侧的表面上；

封装层，覆盖于所述发光单元上且延伸覆盖于所述薄膜晶体管层上；以及

保护层，设置于所述封装层远离所述基板的一侧的表面上；

其中，每一所述触控驱动单元在所述基板上的投影均位于相邻两个所述发光单元之间。

7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基底层；

在所述基底层的一侧的表面上的预设位置处制备间隔设置的多个第一光学膜层；

对所述第一光学膜层远离所述基底层的一侧的表面进行粗糙化处理，形成粗糙结构；

在所述第一光学膜层远离所述基底层的一侧的表面上制备第二光学膜层，所述第二光学膜层与所述第一光学膜层对应设置；以及

在所述第二光学膜层远离所述基底层的一侧的表面上制备若干触控驱动单元，所述触控驱动单元与所述第二光学膜层对应设置；

其中，所述第一光学膜层及所述触控驱动单元的材质的折射率均小于所述第二光学膜层的材质的折射率。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述粗糙化处理的工艺包括：等离子体刻蚀工艺或化学气相沉积工艺。

9.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一光学膜层和所述第二光学膜层的制备工艺均包括：喷墨打印工艺、化学气相沉积工艺及原子层沉积工艺中的一种。

10.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述触控驱动单元的制备工艺为物理气相沉积工艺。

Images