CN113179792A - 一种植物控温栽培装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了植株栽培领域的一种植物控温栽培装置以克服现有技术中不能实现珍贵植株局部加热的缺陷，为了克服上述缺陷本技术方案包括花盆底座和包裹底座四周的加热器，所述加热器包括带有开口的箱体，所述箱体内置有螺旋状的线圈，所述线圈缠绕于花盆底座的外层，线圈的两端通入交变电流，并使线圈与底座外层形成闭合回路，采用本技术方案时线圈产生的电流在金属内沿着闭合回路流动，产生热能，实现了加热效益，同时电流在花盆底座内循环减少了花盆表面的氧化现象，并且实现了接触部位的局部加热，降低了发热所需时间，同时减少了热辐射的消耗。

Description

一种植物控温栽培装置

技术领域

本发明属于植株栽培领域，具体是一种植物控温栽培装置。

背景技术

在花卉花期控制过程中，每一种花卉植物都有自己的一个温度范围(这个范围包括两个范畴：一个是营养生长的范围，另一个是生殖生长的范围每个范畴的温度范围各不相同；不但温度的度数不同，还有温度的持续时间的长短也不同。

特别是在冬春季节，天气寒冷，气温下降，大部分的花卉植物生长变缓，在5℃以下大部分花卉停止生长，进入休眠状态，部分热带花卉受到冻害。因此，增加温度阻止花卉植物进入休眠，防止热带花卉受冻害，是提早开花的主要措施。

为了实现上述温度调控的目的，现有技术中一般采用发光二极管节能植物生长灯为光源，应用物联网技术，采用制冷一加热双向调温控湿、光照一二氧化碳偶联调控、营养液在线检测与控制等相互关联的控制子系统等，实现对植物生长的环境要素。

但是发光二极管通常利用于植物工厂进行产链式培养，通常适合瓜叶菊、牡丹、杜鹃和绣球花此类花卉，但对于贵重品种兰花或其他根系畏寒的花卉而言，不能实现对于局部的加热，并且加大了单一珍贵花卉培养过程中热辐射的消耗。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的是提供一种能够单点培养珍贵植物进行局部加热的植物控温栽培装置。

为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：一种植物控温栽培装置包括花盆底座和包裹底座四周的加热器，所述花盆底座包括内层和外层，内层采用陶瓷材质，外层采用金属材质，所述内层沿开口处至盆底逐渐收束，且内层的内壁处带有弧形的凹槽，凹槽汇集于内层的盆底，所述凹槽接触有金属转子；所述加热器包括带有开口的箱体，所述箱体内置有螺旋状的线圈，所述线圈缠绕于花盆底座的外层，线圈的两端通入交变电流，并使线圈与底座外层形成闭合回路。

采用上述方案后实现了以下有益效果：1、相对于采用灯管加热或烘烤加热的现有技术，本技术方案中利用线圈缠绕花盆底座的方案，以线圈通入交变电流形成闭合的磁场，此时由于花盆底座外表面为金属结构，因此在金属内部产生感应电动势从而引导金属内部电流的产生(交变电流随时变化，因此产生变相的切割磁感线运动)，由于外部线圈构建的磁场为涡卷结构，此时产生的电流在金属内沿着闭合回路流动，产生热能，实现了加热效益，同时电流在花盆底座内循环减少了花盆表面的氧化现象，并且实现了接触部位的局部加热，降低了发热所需时间，同时减少了热辐射的消耗。

2、相对于采用带有交变电流实现局部供热的现有技术，本技术方案中利用内层中的金属转子进行转动操作，此时金属转子受到两种力，一种是水作为一种晶体在不断蒸发加热过程中逐渐被汽化，产生的水蒸气逐渐增高花盆底座内的压力，从而将金属转子沿着凹槽向上滑动，其次金属转子还受到电磁场产生的偏转力，从而使偏转过程中的金属转子围绕凹槽行进，实现了紧贴花盆处土壤的松动，方便移栽过程中省略土壤松动过程，同时增强土壤的透气性。

3、相对于省略土壤松动过程的现有技术，本技术方案中利用螺旋状的线圈以增大金属转子的接触面积。

进一步，所述金属转子间隙配合于凹槽内，且凹槽的最低端带有用于装载金属转子的缺口，所述缺口正对盆底。

有益效果：1、相对于提升接触面的现有技术，本技术方案中利用缺口进行金属转子的承接与卡合，此时当金属转子卡合入缺口时，避免金属转子受到电磁力作用下进行偏转位移，避免了频繁松土造成的土壤塌方，以及土壤内养分的流失。

2、相对于采用承接卡合金属转子的现有技术，本技术方案中金属转子的解锁主要利用水蒸气的聚集，从而将金属转子抬升出缺口内，其次是利用盆底中积水的逐渐聚集，此处当引入的水流大于消耗(蒸发)的水流，则聚集的水流将金属转子逐渐举升。

进一步，所述箱体外层安装有温控装置，所述温控装置包括阈值阀、断路器和感应器，所述感应器外表面装载有数显屏幕，所述阈值阀用于，当感应器传递的温度超过阈值阀内置的阈值时将电流导向断路器进行切断电源的操作。

有益效果：通过数显装置进行温度的监控和温度的调节，此时阈值阀设置的阈值对电路进行保护作用，避免了温度过高使植株产生烧根现象。

进一步，所述花盆开口处扣合有挡风罩，所述挡风罩采用透明材质，且挡风罩的顶部开有透气孔。

有益效果：便于对植株进行挡风操作，避免气流对植株的吹拂。

进一步，所述透气孔沿挡风罩的竖向中轴线围成圆形阵列，且挡风罩的直径小于花盆直径。

有益效果：利用花盆将挡风罩进行承接，避免挡风罩因接触加热装置而烧毁。

进一步，所述内层的底部呈现漏斗状，所述底部的内侧带有螺旋槽纹。

有益效果：利用螺旋槽纹逐渐承接土壤产生的重力。

进一步，所述内层底部的直径从上往下逐渐缩小。

有益效果：通过直径的逐渐减小实现种植土在上层的聚集，从而使内层底部形成一段空置的空腔结构，便于蓄水和底部水流蒸发产生的水蒸气温和反补于土壤中，减少了最底层土壤持续浸水导致烧根的可能性。

进一步，所述金属转子呈正多边形，且金属转子本身的质量小于0.2g。

有益效果：利用金属转子本身的轻质量转动，同时多面菱角有助于在转动过程中将土壤进行松动。

进一步，所述金属转子为空心转子。

有益效果：通过空心结构降低金属转子的质量。

进一步，所述金属转子的任意对角线处接触凹槽的径向两端以形成支点。

附图说明

图1为本发明实施例一的示意图；

图2为图1中花盆底座的剖视图；

图3为图1中挡风罩的结构图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式进一步详细说明：

说明书附图中的附图标记包括：花盆底座1、内层101、外层102、凹槽103、缺口104、加热器2、箱体201、线圈202、金属转子3、温控装置4、数显屏幕401、挡风罩5、透气孔6。

实施例一

本实施例基本如附图1和附图2所示：一种植物控温栽培装置包括花盆底座1和包裹底座四周的加热器2，花盆底座1包括内层101和外层102，内层101采用陶瓷材质，外层102采用金属材质，内层101沿开口处至盆底逐渐收束，且内层101的内壁处带有弧形的凹槽103，凹槽103汇集于内层101的盆底，凹槽103接触有金属转子3，金属转子3间隙配合于凹槽103内，且凹槽103的最低端带有用于装载金属转子3的缺口104，缺口104正对盆底。

加热器2包括带有开口的箱体201，箱体201内置有螺旋状的线圈202，线圈202缠绕于花盆底座1的外层102，线圈202的两端通入交变电流，并使线圈202与底座外层102形成闭合回路。

箱体201外层102安装有温控装置4，温控装置4包括阈值阀、断路器和感应器，感应器外表面装载有数显屏幕401，阈值阀用于当感应器传递的温度超过阈值阀内置的阈值时将电流导向断路器进行切断电源的操作。

具体实施过程如下：本技术方案中利用线圈202缠绕花盆底座1的方案，以线圈202通入交变电流形成闭合的磁场，此时由于花盆底座1外表面为金属结构，因此在金属内部产生感应电动势从而引导金属内部电流的产生(交变电流随时变化，因此产生变相的切割磁感线运动)，由于外部线圈202构建的磁场为涡卷结构，此时产生的电流在金属内沿着闭合回路流动，产生热能，实现了加热效益，同时电流在花盆底座1内循环减少了花盆表面的氧化现象，并且实现了接触部位的局部加热，降低了发热所需时间，同时减少了热辐射的消耗。

同时内层101中的金属转子3进行转动操作，在转动过程中利用螺旋状的线圈202以增大金属转子3的接触面积。当金属转子3转动过程中金属转子3受到两种力，一种是水作为一种晶体在不断蒸发加热过程中逐渐被汽化，产生的水蒸气逐渐增高花盆底座1内的压力，从而将金属转子3沿着凹槽103向上滑动，其次金属转子3还受到电磁场产生的偏转力，从而使偏转过程中的金属转子3围绕凹槽103行进，实现了紧贴花盆处土壤的松动，方便移栽过程中省略土壤松动过程，同时增强土壤的透气性。

当金属转子3受到重力作为主导力后，往往会使金属转子3卡合入缺口104时，此时缺口104避免金属转子3受到电磁力作用下进行偏转位移，避免了频繁松土造成的土壤塌方，以及土壤内养分的流失。

解锁状态时，主要利用水蒸气的聚集，从而将金属转子3抬升出缺口104内，其次是利用盆底中积水的逐渐聚集，此处当引入的水流大于消耗(蒸发)的水流，则聚集的水流将金属转子3逐渐举升。

实施例二

请参考图3，本实施例与上述实施例的区别在于，花盆开口处扣合有挡风罩5，挡风罩5采用透明材质，且挡风罩5的顶部开有透气孔6。透气孔6沿挡风罩5的竖向中轴线围成圆形阵列，且挡风罩5的直径小于花盆直径。

花盆底座1内层101的底部呈现漏斗状，底部的内侧带有螺旋槽纹，内层101底部的直径从上往下逐渐缩小。

具体实施过程如下：内层101的设计通过直径的逐渐减小实现种植土在上层的聚集，从而使内层101底部形成一段空置的空腔结构，便于蓄水和底部水流蒸发产生的水蒸气温和反补于土壤中，减少了最底层土壤持续浸水导致烧根的可能性通过数显装置进行温度的监控和温度的调节，此时阈值阀设置的阈值对电路进行保护作用，避免了温度过高使植株产生烧根现象。

随后挡风罩5扣合在花盆顶部便于对植株进行挡风操作，避免气流对植株的吹拂，位于顶部的透气孔6便于挡风罩5与外界的气流交换。

实施例三

本实施例与上述实施例的区别在于，金属转子3呈正多边形，且金属转子3本身的质量小于0.2g，金属转子3为空心转子，且金属转子3的任意对角线处接触凹槽103的径向两端以形成支点。

具体实施过程如下：通过空心结构降低金属转子3的质量随后利用金属转子3本身的轻质量转动，同时多面菱角有助于在转动过程中将土壤进行松动。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述，所属领域普通技术人员知晓申请日或者优先权日之前发明所属技术领域所有的普通技术知识，能够获知该领域中所有的现有技术，并且具有应用该日期之前常规实验手段的能力，所属领域普通技术人员可以在本申请给出的启示下，结合自身能力完善并实施本方案，一些典型的公知结构或者公知方法不应当成为所属领域普通技术人员实施本申请的障碍。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

Claims (10)

1.一种植物控温栽培装置，其特征在于：包括花盆底座和包裹底座四周的加热器，所述花盆底座包括内层和外层，内层采用陶瓷材质，外层采用金属材质，所述内层沿开口处至盆底逐渐收束，且内层的内壁处带有弧形的凹槽，凹槽汇集于内层的盆底，所述凹槽接触有金属转子；

所述加热器包括带有开口的箱体，所述箱体内置有螺旋状的线圈，所述线圈缠绕于花盆底座的外层，线圈的两端通入交变电流，并使线圈与底座外层形成闭合回路。

2.根据权利要求1所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述金属转子间隙配合于凹槽内，且凹槽的最低端带有用于装载金属转子的缺口，所述缺口正对盆底。

3.根据权利要求2所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述箱体外层安装有温控装置，所述温控装置包括阈值阀、断路器和感应器，所述感应器外表面装载有数显屏幕，所述阈值阀用于，当感应器传递的温度超过阈值阀内置的阈值时将电流导向断路器进行切断电源的操作。

4.根据权利要求1所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述花盆开口处扣合有挡风罩，所述挡风罩采用透明材质，且挡风罩的顶部开有透气孔。

5.根据权利要求4所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述透气孔沿挡风罩的竖向中轴线围成圆形阵列，且挡风罩的直径小于花盆直径。

6.根据权利要求5所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述内层的底部呈现漏斗状，所述底部的内侧带有螺旋槽纹。

7.根据权利要求6所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述内层底部的直径从上往下逐渐缩小。

8.根据权利要求1所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述金属转子呈正多边形，且金属转子本身的质量小于0.2g。

9.根据权利要求8所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述金属转子为空心转子。

10.根据权利要求9所述的一种植物控温栽培装置，其特征在于：所述金属转子的任意对角线处接触凹槽的径向两端以形成支点。

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