CN105325153B - 一种芍药利用自然低温促成栽培方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种芍药利用自然低温促成栽培方法,包括以下步骤:将芍药苗9月到10月种植于地形平坦,排水良好的露地中,期间平均温度为20‑8℃;11月中旬到12月中旬,平均温度‑15℃到‑25℃,冻土层厚度为5‑15cm时,将芍药苗于露地起苗,晾置5‑7d;使用生根粉和赤霉素处理组合溶液处理芍药根部,其中所选用生根粉浓度为0‑150mg/L,赤霉素浓度为0‑300mg/L;将激素处理后的芍药苗植入花盆中,将盆栽移入温室;将植入花盆的芍药苗在温室中培养,辅以补光、温湿度调节措施。本发明使用激素处理结合自然低温打破芍药休眠状态,能够促进芍药提前开花,为芍药盆花促成栽培提供了新途径,且该方法对场地没有限制,避免租用冷库,降低了成本,节能环保。
Description
技术领域
本发明涉及花卉花期调控技术领域,尤其是涉及一种芍药利用自然低温促成栽培方法。
背景技术
芍药是我国传统名花之一,历来被誉为“花相”,主要花期为4-6月,深受人们喜爱。随着人们生活水平的提高和栽培技术的发展,“不时之花”-盆花芍药和切花芍药逐渐上市,极大的丰富和满足了人们的需求。围绕日渐繁荣的芍药供求市场,国内外关于芍药的促成栽培研究亦逐年递增,芍药需经春化作用才能开花,因此在芍药促成栽培研究中,通常的做法是使用冷库冷藏来打破休眠促进萌发并提高成花率。然而使用冷藏手段使得芍药培育过程中生产成本增加,劳动量加大等,导致花卉商品价格升高,不利于商品推广。
我国赤峰市地处内蒙古中纬度地区,属中温带、半干旱、大陆性季风气候区。冬季漫长而寒冷,春季干旱多大风,夏季短促炎热、雨水集中,秋季短促、气温下降快、霜冻降临早。赤峰市年平均气温为0-7℃。极端最低气温达-45.5℃,极端最高气温37.7℃。大部地区年日照时数为2700-3100h。
本发明针对赤峰地区寒冷的气候特点,突破传统的栽培技术,即冬季露地起苗激素处理上盆之后直接移入温室管理,省去了冷藏的步骤,达到芍药促成栽培的目的,使得生产成本和劳动量降低,推动芍药市场推广。
发明内容
为了解决现有技术存在的问题,本发明的目的在于利用寒冷的气候特点,突破传统的栽培技术,在冬季露地起苗激素处理上盆之后直接移入温室管理,省去了冷藏的步骤,达到芍药促成栽培,使得生产成本和劳动量降低,推动芍药市场推广。
本发明是通过下述技术方案来实现的:一种芍药利用自然低温促成栽培方法,包括以下步骤:
(1)苗木准备:将4-5年生芍药苗9月到10月种植于地形平坦,排水良好的露地中,期间平均温度为20-8℃;
(2)起苗:11月中旬到12月中旬,平均温度-15℃到-25℃,冻土层厚度为5-15cm,将芍药苗于露地起苗,晾置5-7d;
(3)激素处理:使用生根粉和赤霉素处理组合溶液处理芍药根部,先使用生根粉溶液喷撒芍药根部至淋漓,待淋漓的根部稍干后往根部再喷撒赤霉素溶液亦至淋漓,其中所选用的生根粉浓度为0-150mg/L,赤霉素浓度为0-300mg/L;
(4)上盆:将激素处理后的芍药苗植入花盆中,将盆栽移入温室中置于温室庇荫处养护,两天后浇透水,待1-2周盆栽芍药缓苗后将盆栽芍药置于温室正常光照处管理;
(5)温室培养:将盆栽芍药苗在温室中培养,芍药萌发后辅以补光、温湿度调节措施。
优选的,芍药栽培地区为赤峰地区。
优选的,花盆底部放置粗粒基质和100g/盆的复合肥,花盆中栽培基质采用有机质∶园土∶沙土=1∶3∶2的比例配制,栽培基质放置于粗粒基质和复合肥之上。
优选的,温室内补光时的光照强度为100W白炽灯照射,当芍药苗萌发后每天补光至晚7点,每天光照不少于12h。
优选的,温室内温度控制在15-25℃,通过加温、通风透光控制温度。
优选的,温室内湿度控制在15%-30%,通过通风透光控制。
优选的,所述的芍药品种为‘大富贵’。
优选的,所选用的生根粉浓度为100mg/L,赤霉素浓度为200mg/L。
本发明的有益效果是:本发明利用自然低温克服了芍药需冷库冷藏及冷库冷藏规模受限、成本高、耗能多的问题,并且本发明操作简单,使用激素处理结合自然低温打破芍药休眠状态,能够促进芍药生长、开花,为芍药盆花促成栽培提供了新途径。且该方法对场地没有限制,可在任意空旷地实施,避免租用冷库,降低了成本,节能环保;本方法生产的‘大富贵’盆栽芍药,成活率均为100%,盆栽80-95d开花,株高30-50cm,花色和花型均正常。
附图说明
图1为芍药促成栽培过程株高变化图;
图2为芍药促成栽培过程叶幅变化图;
图3为芍药促成栽培过程茎粗变化图;
图4为芍药促成栽培过程花茎变化图。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案能予以实施,下面结合附图及具体实施例对本发明进一步说明,但所举实施例不作为对本发明的限定。
实施例
一种芍药利用自然低温促成栽培方法,包括以下步骤:
(1)苗木准备:将4-5年生芍药苗9月到10月种植于地形平坦,排水良好的露地中,期间平均温度为20-8℃;
(2)起苗:11月中旬到12月中旬,平均温度-15℃到-25℃,冻土层厚度为5-15cm,将芍药苗于露地起苗,晾置5-7d;
(3)激素处理:使用生根粉和赤霉素组合溶液处理芍药根部,先使用生根粉溶液喷撒芍药根部至淋漓,待淋漓的根部稍干后往根部再喷撒赤霉素溶液亦至淋漓,共设6个处理组,一个对照组,如表1所示,其中生根粉浓度为0-150mg/L,赤霉素浓度为0-300mg/L;
表1生根粉和赤霉素处理组合
(4)上盆:将激素处理后的芍药苗植入花盆中,盆底放置粗粒基质和100g/盆的复合肥,花盆中栽培基质采用有机质∶园土∶沙土=1∶3∶2的比例配制,栽培基质放置于粗粒基质和复合肥之上,将盆栽芍药移入温室中置于温室庇荫处养护,两天后浇透水,待1-2周盆栽芍药缓苗后将盆栽芍药置于温室正常光照处管理;
(5)温室培养:将植入花盆的芍药苗在温室中培养,辅以补光、温湿度调节措施。其中,控制温室内补光时的光照强度为100W白炽灯照射,当芍药苗萌发后每天补光至晚7点,每天光照不少于12h;温室内温度控制在15-25℃,通过加温、通风透光等措施控制温度;温室内湿度控制在15%-30%,通过通风透光等措施控制。
结合表1、附图1-4及实施例可看出,不同处理组芍药成活率均为100%,激素处理结合自然低温可打破芍药休眠,促成芍药栽培;处理组的芍药几乎同时萌动,与对照组相比提前了10-20d;处理组萌发期仅为2-3d,对照组萌发期则为5-7d;处理组总体物候期较对照组提前15d;其中S5、S6盆栽85d左右开花,S3在促成栽培90d左右开花,S5开花数较多,花朵品质最佳。
图1中可看出盆栽芍药株高范围为20-50cm,且对照组的株高大于大部分处理组,这是因为激素处理打破休眠后对植物本身的生长有抑制作用,处理组的株高更适宜盆栽观赏;图2中芍药叶幅增长整体趋势相同,处理组的总体株型较整齐;图3芍药植入盆中后60d中植株生长过程中茎粗增长较快,进入张叶期后增长减缓,整体范围茎粗为0.4-0.8cm;图4中S3、S5、S6处理组开花,S5、S6开花时间最早,其中S5开花数最多,花茎最大,花朵品质最好。
本发明操作简单,使用激素处理结合自然低温打破芍药休眠状态,能够促进芍药提前开花,为芍药盆花促成栽培提供了新途径,且该方法对场地没有限制,可在任意空旷地实施,避免租用冷库,降低了成本,节能环保。
以上所述,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制,本发明的保护范围不限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明披露的技术范围内,可显而易见地得到的技术方案的简单变化或等效替换,均属于本发明的保护范围。
Claims (5)
1.一种芍药利用自然低温促成栽培方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)苗木准备:将4-5年生芍药苗9月到10月种植于地形平坦,排水良好的露地中,期间平均温度为20-8℃;所述芍药的栽培地区为赤峰地区;
(2)起苗:11月中旬到12月中旬,平均温度-15℃到-25℃,冻土层厚度为5-15cm,将芍药苗于露地起苗,晾置5-7d;
(3)激素处理:使用生根粉和赤霉素组合溶液处理芍药根部,先使用生根粉溶液喷撒芍药根部至淋漓,待淋漓的根部稍干后往根部再喷撒赤霉素溶液亦至淋漓,其中所选用的生根粉浓度为100mg/L,赤霉素浓度为200mg/L;
(4)上盆:将激素处理后的芍药苗植入花盆中,将盆栽移入温室中置于温室庇荫处养护,两天后浇透水,待1-2周盆栽芍药缓苗后将盆栽芍药置于温室正常光照处管理;在所述花盆底部放置粗粒基质和100g/盆的复合肥,花盆中栽培基质采用有机质∶园土∶沙土=1∶3∶2的比例配制,栽培基质放置于粗粒基质和复合肥之上;
(5)温室培养:将盆栽芍药苗在温室中培养,芍药萌发后辅以补光、温湿度调节措施。
2.根据权利要求1所述的一种芍药利用自然低温促成栽培方法,其特征在于,所述温室内补光时的光照强度为100W白炽灯照射,当芍药苗萌发后每天补光至晚7点,每天光照不少于12h。
3.根据权利要求1所述的一种芍药利用自然低温促成栽培方法,其特征在于,所述温室内温度控制在15-25℃,通过加温、通风透光控制温度。
4.根据权利要求1所述的一种芍药利用自然低温促成栽培方法,其特征在于,所述温室内湿度控制在15%-30%,通过通风透光控制。
5.根据权利要求1所述的一种芍药利用自然低温促成栽培方法,其特征在于,所述的芍药品种为‘大富贵’。
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