CN113140689B

CN113140689B - 显示基板及其制备方法、显示装置

Info

Publication number: CN113140689B
Application number: CN202110413677.8A
Authority: CN
Inventors: 李金钰
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2021-04-16
Filing date: 2021-04-16
Publication date: 2023-05-12
Anticipated expiration: 2041-04-16
Also published as: CN113140689A

Abstract

本申请实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。该显示基板，包括：衬底基板；像素定义层，设于衬底基板的一侧，包括多个开口；像素间隔层，包括多个设于像素定义层远离衬底基板的一侧的像素支撑结构，像素支撑结构至少靠近开口的一侧为曲面。本申请实施例显示基板的像素支撑结构至少靠近开口的一侧为曲面，可以保证在蒸镀过程中有机材料不易附着在像素支撑结构上，降低PS暗点发生的概率，从而提高显示基板的产品性能和整体良率。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示面板技术领域，具体而言，本申请涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

目前，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示基板主要是利用共通层掩膜板Common Mask和FMM(Fine Metal Mask，高精度金属掩膜板)将有机材料以图案化的形式蒸镀到衬底基板上形成OLED器件。

但是，在蒸镀过程中，容易产生PS(Photo Spacer，间隔层)暗点，从而降低了OLED产品性能和整体良率。

发明内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示基板及其制备方法、显示装置，用以解决现有技术存在的容易产生PS暗点而带来的OLED产品性能和整体良率较低的技术问题。

第一方面，本申请实施例提供一种显示基板，包括：

衬底基板；

像素定义层，设于衬底基板的一侧，包括多个开口；

像素间隔层，包括多个设于像素定义层远离衬底基板的一侧的像素支撑结构，像素支撑结构至少靠近开口的一侧为曲面。

在一个可能的实现方式中，像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料按照设计比例混合制成的。

在一个可能的实现方式中，设计比例中，光刻胶溶液的份数不大于光致变形材料的份数。

在一个可能的实现方式中，像素间隔层是由光致变形材料制成的。

在一个可能的实现方式中，光致变形材料包括开环形材料。

在一个可能的实现方式中，开环形材料包括含有偶氮苯、螺吡喃或二苯基乙烯中的至少一种的官能团的材料。

在一个可能的实现方式中，像素支撑结构呈椭球形或圆形。

第二方面，本申请实施例提供一种显示装置，包括如第一方面的显示基板。

第三方面，本申请实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：

在衬底基板的一侧制备像素定义层；

对像素定义层进行刻蚀，使得像素定义层形成多个开口；

在像素定义层远离衬底基板的一侧制备像素间隔层；像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料按照设计比例混合制成的；

对像素间隔层进行曝光和显影，使得像素间隔层形成的多个像素支撑结构至少靠近开口的一侧形成曲面。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：

本申请实施例的像素间隔层包括多个设于像素定义层远离衬底基板的一侧的像素支撑结构，像素支撑结构至少靠近开口的一侧为曲面，可以保证在蒸镀过程中有机材料不易附着在像素支撑结构上，降低PS暗点发生的概率，从而提高OLED产品性能和整体良率。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为一种现有的显示基板准备蒸镀有机材料时的结构示意图；

图2为一种现有的显示基板蒸镀有机材料后的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的一种显示基板蒸镀有机材料的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的一种显示基板的制备方法的流程示意图；

图5为本申请实施例提供的一种曝光前的像素支撑结构经过UV曝光后形成曝光后的像素支撑结构的结构示意图。

附图标记：

100-衬底基板；

200-像素定义层、210-开口；

310-像素支撑结构、311-曝光前的像素支撑结构、312-光致变形材料、313-现有的像素支撑结构；

400-掩膜；

500-坩埚；

600-有机材料。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。

本申请的发明人进行研究发现，由于FMM和基板之间存在间隙，有机材料难免会积存在间隙中，掩膜板在移动或对位过程中易与堆积材料产生摩擦造成刮伤，容易产生PS暗点，而且存在被重复蒸镀到基板上导致像素混色的风险，降低了OLED产品性能和整体良率。

参见图1所示，示出了一种现有的显示基板准备蒸镀有机材料时的结构示意图，现有的像素支撑结构313一般为规则形状，例如梯形或方形，本实施例中以现有的像素支撑结构313为方形为例。显示基板的衬底基板100、像素定义层200和像素间隔层依次层叠设置，像素定义层200包括多个开口210，像素间隔层包括多个设于像素定义层200远离衬底基板100的一侧的现有的像素支撑结构313，图中的虚线为坩埚500蒸镀有机材料600的范围。

参见图2所示，采用掩膜400和坩埚500蒸镀有机材料600后，形成如图2所示的现有的显示基板蒸镀有机材料600后的结构示意图，图中的虚线为坩埚500蒸镀有机材料600的范围。由于现有的像素支撑结构313为方形，采用坩埚500蒸镀有机材料600后，有机材料600会至少附着在现有的像素支撑结构313靠近开口210的一侧，容易产生PS暗点，从而降低了OLED产品性能和整体良率。

本申请提供的显示基板及其制备方法、显示装置，旨在解决现有技术的如上技术问题。

下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。

本申请实施例提供一种显示基板，参见图3所示，该显示基板包括：衬底基板100、像素定义层200和像素间隔层。

像素定义层200设于衬底基板100的一侧，像素定义层200包括多个开口210。

像素间隔层包括多个设于像素定义层200远离衬底基板100的一侧的像素支撑结构310，像素支撑结构310至少靠近开口210的一侧为曲面。

可选地，衬底基板100为BP(Base plate，基板)，像素定义层200为PDL(pixeldefinition layer)，像素间隔层为PS。

可选地，显示基板为OLED显示基板。

参见图3所示，本申请实施例采用掩膜400和坩埚500进行蒸镀，掩膜400可选用FMM，图中的虚线为坩埚500蒸镀有机材料600的范围。

本申请实施例的像素间隔层包括多个设于像素定义层200远离衬底基板100的一侧的像素支撑结构310，像素支撑结构310至少靠近开口210的一侧为曲面，可以保证在蒸镀过程中有机材料600不易附着在像素支撑结构310上，降低PS暗点发生的概率，从而提高OLED产品性能和整体良率。

可选地，参见图3所示，像素支撑结构310的宽度为1微米-10微米，高度0.5微米-5微米，高度方向为垂直于衬底基板100的方向，宽度方向为平行于衬底基板100的方向。本申请实施例的像素支撑结构310高度和宽度可根据具体产品进行调整。

在一些实施例中，像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料312按照设计比例混合制成的。

在一些实施例中，设计比例中，光刻胶溶液的份数不大于光致变形材料312的份数。

在一些实施例中，像素间隔层是由光致变形材料312制成的。

可选地，像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料312按照1:1的比例混合制成，即设计比例为1:1。

可选地，光刻胶溶液和光致变形材料312按照0:1的比例时，即像素间隔层是由光致变形材料312制成。

在一些实施例中，光致变形材料312包括开环形材料。

在一些实施例中，开环形材料包括含有偶氮苯、螺吡喃或二苯基乙烯中的至少一种的官能团的材料。

结合图2和图3所示，本申请实施例选用掺有光致变形材料312的光刻胶制备PS，在不改变原有BP工艺的基础上，实现蒸镀过程中有机材料600不易附着在PS上。

在一些实施例中，像素支撑结构310呈椭球形或圆形。

可选地，像素支撑结构310仅需要至少靠近开口210的一侧为曲面，使得有机材料600不易附着即可，也可以是其他形状。

可选地，在实际应用中，即使椭球形或圆形的形状会有差异，但由于光致变形材料312的特殊性，只要存在一定的弧度，蒸镀过程中产生的有机材料600即使聚集也会由于重力原因而掉落。

本申请实施例是对现有显示基板进行了改造，使得PS在曝光、显影后的性状由规则梯形或者方形变为椭球形，这样可保证在蒸镀过程中有机材料600不易附着在PS上。

本申请实施例仅对PS光刻胶进行掺杂光致变形材料312，显示基板简单易行，不需要对设备进行特别改造即可降低PS暗点发生的概率，实用性强。

本申请实施例通过对现有显示基板进行了改造，解决了在蒸镀过程中有机材料600富集产生的PS异物和蒸镀材料被重复蒸镀导致像素混色的异常情况。

基于同一发明构思，本申请实施例提供一种显示装置，包括本申请任一实施例的显示基板。

基于同一发明构思，本申请实施例提供一种显示基板的制备方法，参见图4所示，该显示基板的制备方法包括：步骤S401至步骤S404。

S401、在衬底基板100的一侧制备像素定义层200。

S402、对像素定义层200进行刻蚀，使得像素定义层200形成多个开口210。

S403、在像素定义层200远离衬底基板100的一侧制备像素间隔层；像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料312按照设计比例混合制成的。

在一些实施例中，像素间隔层是由光致变形材料312制成的。

在一些实施例中，光致变形材料312包括开环形材料。

S404、对像素间隔层进行曝光和显影，使得像素间隔层形成的多个像素支撑结构310至少靠近开口210的一侧形成曲面。

可选地，步骤S404中，对像素间隔层进行曝光和显影，使得像素间隔层形成的多个像素支撑结构310至少靠近开口210的一侧形成曲面，包括：

对像素间隔层进行曝光和显影，使得像素间隔层形成的多个像素支撑结构310呈椭球形或圆形。

可选地，像素间隔层是将原有光刻胶溶液和光致变形材料1:1混合，然后按正常的BP工艺进行曝光显影操作。

可选地，参见图5所示，示出了曝光前的像素支撑结构311经过UV曝光后形成曝光后的像素支撑结构310，曝光前的像素支撑结构311呈方形，曝光后的像素支撑结构310呈圆形。

可选地，参见图5所示，光致变形材料312选用开环形材料，开环形材料吸收UV光能量转变为闭环形材料，体积减小。光致变形材料312在UV光照下可实现由规则方形变为圆形或椭球形，并且可控制该过程不可逆，即在可见光或者加热变化下圆形或椭球形不会再恢复到规则方形，状态稳定，进一步保证有机材料600不易附着在PS上。

可选地，本申请实施例的像素间隔层可以仅由光致变形材料312制成，将光致变形材料312的溶液按正常的BP工艺进行曝光显影操作。由于所用材料都是光致变形材料312，所以光致变形材料312的形状变化是更容易控制的。光致变形材料312会在UV曝光下自发由规则方形变为椭球形，以实现蒸镀过程中有机材料不易附着PS上的目的。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：

(1)本申请实施例的像素间隔层包括多个设于像素定义层200远离衬底基板100的一侧的像素支撑结构310，像素支撑结构310至少靠近开口210的一侧为曲面，可以保证在蒸镀过程中有机材料600不易附着在像素支撑结构310上，降低PS暗点发生的概率，从而提高OLED产品性能和整体良率。

(2)本申请实施例选用掺有光致变形材料312的光刻胶制备PS，在不改变原有BP工艺的基础上，实现蒸镀过程中有机材料600不易附着在PS上。

(3)本申请实施例是对现有显示基板进行了改造，使得PS在曝光、显影后的性状由规则梯形或者方形变为椭球形,这样可保证在蒸镀过程中有机材料600不易附着在PS上。

(4)本申请实施例仅对PS光刻胶进行掺杂光致变形材料312，制备显示基板简单易行，不需要对设备进行特别改造即可降低PS暗点发生的概率，实用性强。

(5)本申请实施例的光致变形材料312在UV光照下可实现由规则方形变为圆形或椭球形，并且可控制该过程不可逆，即在可见光或者加热变化下圆形或椭球形不会再恢复到规则方形，状态稳定，进一步保证有机材料600不易附着在PS上。

(6)本申请实施例通过对现有显示基板进行了改造，解决了在蒸镀过程中有机材料600富集产生的PS异物和蒸镀材料被重复蒸镀导致像素混色的异常情况。

本技术领域技术人员可以理解，本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地，具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地，现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

应该理解的是，虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，其可以以其他的顺序执行。而且，附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段，这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，其执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

像素定义层，设于所述衬底基板的一侧，包括多个开口；

像素间隔层，包括多个设于所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧的像素支撑结构，所述像素支撑结构至少靠近所述开口的一侧为曲面；所述像素支撑结构呈椭球形或圆形；

所述像素间隔层，是由光刻胶溶液和光致变形材料按照设计比例混合制成的或者是由光致变形材料制成的；所述光致变形材料在UV光照下可实现由规则方形变为圆形或椭球形，并且控制变形过程不可逆，即在可见光或者加热变化下圆形或椭球形不会再恢复到规则方形。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述设计比例中，所述光刻胶溶液的份数不大于所述光致变形材料的份数。

3.根据权利要求1至2中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述光致变形材料包括开环形材料。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述开环形材料包括含有偶氮苯、螺吡喃或二苯基乙烯中的至少一种的官能团的材料。

5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4中任一项所述的显示基板。

6.一种如权利要求1-4中任一所述的显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板的一侧制备像素定义层；

对所述像素定义层进行刻蚀，使得所述像素定义层形成多个开口；

在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧制备像素间隔层；所述像素间隔层是由光刻胶溶液和光致变形材料按照设计比例混合制成的；

对所述像素间隔层进行曝光和显影，使得所述像素间隔层形成的多个像素支撑结构至少靠近所述开口的一侧形成曲面。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述设计比例中，所述光刻胶溶液的份数不大于所述光致变形材料的份数。