CN113140413A - 一种中高压阳极箔的生产设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种中高压阳极箔的生产设备，包括进料装置、电解发孔装置、化学腐蚀装置、化学清洗装置、烘干装置和收卷装置；所述电解发孔装置的数量为多个；所述化学腐蚀装置的数量为多个；最后一个所述电解发孔装置与第一个所述化学腐蚀装置之间还设有清洗结构；所述进料装置和第一个所述电解发孔装置之间也设有清洗结构；所述化学清洗装置的数量为多个；本发明设有多个电解发孔装置，采用多级发孔，循序渐进，确保对光箔有较好的电解腐蚀效果，还能较好的提高电解腐蚀的速度；设有多个化学腐蚀装置，对发孔后的光箔进行多次腐蚀，在保证具有较好的腐蚀效果的前提下确保腐蚀速度可以跟上发孔速度，提高中高压阳极箔的生产效率。
Description
技术领域
本发明中高压铝箔生产领域，具体涉及一种中高压阳极箔的生产设备。
背景技术
阳极箔是铝电解电容器的关键材料，对电容器的容量指标起决定作用。随着信息产业的高速发展和电器产品的集成化、小型化，带动了小体积、大容量铝电解电容器的需求，因而迫切需要提高阳极箔的静电容量。
根据阳极箔电容量C＝ε0εrS/d可知，可通过增大阳极箔表面积提高阳极箔容量。中高压用阳极箔一般通过电化学腐蚀形成隧道型蚀孔，增大比表面积，然后化成形成具有介电性能的氧化膜层。常规的中高压用腐蚀工艺为前处理、一级发孔、二级扩孔、后处理，首先经过前处理去除光箔表面的油污及氧化膜层等；一级发孔进行电化学腐蚀，形成一定孔密度及孔深的隧道孔；二级扩孔进一步扩大蚀孔孔径，增加腐蚀箔的容量；最后后处理去除残留的氯离子等杂质。其中，一级发孔腐蚀是腐蚀工艺的关键，决定了腐蚀箔的容量性能，通过调节腐蚀槽液温度、成分、电流、电量等参数，生成具有一定孔密度、均匀分布、孔长一致的隧道孔，从而实现提高比容及机械性能的目的。蚀孔均匀性的控制是腐蚀箔性能的关键，也是腐蚀箔工艺技术的瓶颈。
由于一级发孔和二级扩孔的过程缓慢，现有生产线的生产速度被限制，生产效率低；而且国内目前采用恒定电流腐蚀发孔最为常见，腐蚀工艺采用的恒流加电曲线，在发孔腐蚀过程中，由于施加的电流值较大，在加电的整个期间，铝箔一直处于孔洞引发和孔洞生长的过程，得到的腐蚀箔隧道孔长度均匀性差。并且，由于采用恒定电流发孔腐蚀时铝箔一直处于发孔状态，后续萌生的无效短孔增多，铝箔表面形成大量并孔，导致铝箔减薄，使得电极箔的机械强度下降；目前采用的化学腐蚀装置中的腐蚀液是静止的，在对光箔进行腐蚀时，腐蚀液内的成分会随着腐蚀的进行而逐渐分布不均匀，就会导致光箔的腐蚀效果逐渐变差，整体腐蚀效果不均匀；目前采用的化学清洗装置中的清洗液时静止的，对光箔的清洗也只是从清洗液中过一遍，相当于浸泡；这就会导致光箔表面还会有残留，而且无法对光箔上的隧道型蚀孔进行清理。
基于上述情况，本发明提出了一种中高压阳极箔的生产设备，可有效解决以上问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种中高压阳极箔的生产设备。本发明的中高压阳极箔的生产设备，结构简单，使用方便，设有多个电解发孔装置，采用多级发孔，循序渐进，确保对光箔有较好的电解腐蚀效果，还能较好的提高电解腐蚀的速度；设有多个化学腐蚀装置，对发孔后的光箔进行多次腐蚀，在保证具有较好的腐蚀效果的前提下确保腐蚀速度可以跟上发孔速度，提高中高压阳极箔的生产效率。
本发明通过下述技术方案实现：
一种中高压阳极箔的生产设备，包括进料装置、电解发孔装置、化学腐蚀装置、化学清洗装置、烘干装置和收卷装置；所述电解发孔装置的数量为多个；所述化学腐蚀装置的数量为多个；最后一个所述电解发孔装置与第一个所述化学腐蚀装置之间还设有清洗结构；所述进料装置和第一个所述电解发孔装置之间也设有清洗结构；所述化学清洗装置的数量为多个；还包括纠偏装置；每两个所述电解发孔装置之间均设有所述纠偏装置；每两个所述化学腐蚀装置中均设有所述纠偏装置。
本发明设有多个所述电解发孔装置，采用多级发孔，循序渐进，确保对光箔有较好的电解腐蚀效果，还能较好的提高电解腐蚀的速度；设有多个所述化学腐蚀装置，对发孔后的光箔进行多次腐蚀，在保证具有较好的腐蚀效果的前提下确保腐蚀速度可以跟上发孔速度，提高中高压阳极箔的生产效率。
优选的，所述电解发孔装置包括电解池，所述电解池内设有导向结构和电解结构；所述导向结构包括设置在所述电解结构上方的上导向组件和设置在所述电解结构下方的下导向组件；所述上导向组件的上方均设有电解进料辊；所述下导向组件的下方均设有电解转向组件；在光箔经过最后一个所述电解转向组件后还有一个用于出料的电解出料辊；所述下导向组件的两侧还均设有出水管；所述出水管靠近所述下导向组件一侧的上端设有多个等距设置的出水孔；所述电解进料辊的材质为铝，且在其表面设有网状槽；所述电解出料辊的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述电解转向组件包括设置在所述下导向组件下方的第一转向辊和设置在所述第一转向辊一侧的第二转向辊；所述电解池一侧的顶部设有电解溢流口；所述电解池另一侧的底部设有电解出液口。
优选的，所述电解结构包括两个相互对称的石墨基板，所述石墨基板包括梯形部和矩形部；所述梯形部在所述矩形部的上方，所述梯形部的截面为直角边在外侧的直角梯形，且直角梯形的上底大于下底；所述矩形部的底边宽度与所述梯形部的下底宽度相等；所述矩形部的内侧还设有屏蔽板，所述屏蔽板的材质为HTPVC；所述屏蔽板自上而下设有第一孔区、第二孔区、第三孔区和无孔区；所述第一孔区的孔排布比所述第二孔区的孔排布更密；所述第二孔区的孔排布比所述第三孔区的孔排布更密；且所述第一孔区、第二孔区和第三孔区中的孔的孔径大小均相等。
优选的，所述上导向组件包括两个相互对称的导向架；每个所述导向架上均设有润滑件；两个所述润滑件之间的空隙对应所述电解结构的进料缝隙；所述导向架由一块竖板和一块向内倾斜的斜板构成；所述斜板固定在所述竖板的底端；所述润滑件为PEEK膜；且所述润滑件的顶端固定在所述斜板上，所述润滑件的末端从所述斜板的末端自然下垂；所述下导向组件包括两个并列设置的导向辊；所述导向辊的材质为陶瓷；两个所述导向辊之间的空隙对应所述电解结构的出料口的中央；所述导向辊通过氮化硅轴承连接在所述电解池中。
优选的，所述化学腐蚀装置包括腐蚀池，所述腐蚀池内设有腐蚀转向辊；所述腐蚀池的上方还并列设有腐蚀进料辊和腐蚀出料辊；所述腐蚀池内还设有螺旋桨；所述腐蚀池的一侧的顶部设有腐蚀进液口，所述腐蚀池的另一侧的底部设有腐蚀出液口；所述腐蚀池设有腐蚀进液口的一侧设有所述螺旋桨；所述腐蚀池设有腐蚀出液口的一侧设有所述螺旋桨。
优选的，所述腐蚀池设有腐蚀进液口的一侧的所述螺旋桨设置在所述腐蚀进液口的下方；所述腐蚀池设有腐蚀出液口的一侧的所述螺旋桨的数量为两个，且两个所述螺旋桨分别设置在所述腐蚀出液口的两侧。
优选的，所述腐蚀转向辊的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述腐蚀进料辊的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述腐蚀出料辊的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽。
优选的，所述化学化学清洗装置包括清洗池，所述清洗池内设有清洗转向辊；所述清洗池的上方还并列设有清洗进料辊和清洗出料辊；所述清洗转向辊上方的两侧均设有出气管；所述出气管的上方设有喷水管；所述出气管设置在所述清洗池内清洗液的液面下方；所述喷水管设置在所述清洗池内清洗液的液面上方；所述清洗池一侧的底部设有清洗进液口；所述清洗池的另一侧的底部设有清洗出液口；所述清洗池设有所述清洗出液口一侧的中部还设有清洗溢流口；所述清洗池的顶部还设有清洗盖，所述清洗盖上设有用于通过光箔的清洗口。
优选的，所述喷水管设置在所述清洗溢流口的上方；所述喷水管的一端贯穿所述清洗池向外延伸；所述喷水管的数量为多个，每两个所述喷水管之间的距离相等，且每两个所述喷水管之间均通过有光箔；所述喷水管上还设有喷水孔；两侧的两个所述喷水管均在内侧的下方设有一排等距排列的喷水孔；中间的所述喷水管在底部的两侧均设有一排等距排列的喷水孔；所述出气管设置在所述清洗溢流口的下方；所述出气管的一端贯穿所述清洗池向外延伸所述清洗转向辊的两侧均分别设有两个所述出气管，且同一侧的两个所述出气管之间通过有光箔；每个所述出气管上均设有等距环设有多排出气孔。
优选的，所述清洗转向辊的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述清洗进料辊的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述清洗出料辊的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽。
本发明与现有技术相比，具有以下优点及有益效果：
本发明的中高压阳极箔的生产设备，结构简单，使用方便，设有多个电解发孔装置，采用多级发孔，循序渐进，确保对光箔有较好的电解腐蚀效果，还能较好的提高电解腐蚀的速度；设有多个化学腐蚀装置，对发孔后的光箔进行多次腐蚀，在保证具有较好的腐蚀效果的前提下确保腐蚀速度可以跟上发孔速度，提高中高压阳极箔的生产效率。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明的结构示意图；
图3为本发明的侧视结构示意图；
图4为本发明的剖视结构示意图；
图5为图4中A处的局部结构示意图；
图6为本发明所述下导向组件和出水管的结构示意图；
图7为本发明的结构示意图；
图8为本发明的剖视结构示意图；
图9为本发明的侧视结构示意图；
图10为本发明的结构示意图；
图11为本发明的剖视结构示意图；
图12为本发明的侧视结构示意图；
图13为本发明去除所述清洗池的结构示意图；
图14为图13中B处的局部结构示意图；
图15为图13中C处的局部结构示意图。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合具体实施例对本发明的优选实施方案进行描述，但是应当理解，附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制；为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。附图中描述位置关系仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制。
实施例1：
如图1至15所示，一种中高压阳极箔的生产设备，包括进料装置1、电解发孔装置2、化学腐蚀装置3、化学清洗装置4、烘干装置5和收卷装置6；所述电解发孔装置2的数量为多个；所述化学腐蚀装置3的数量为多个；最后一个所述电解发孔装置2与第一个所述化学腐蚀装置3之间还设有清洗结构7；所述进料装置1和第一个所述电解发孔装置2之间也设有清洗结构7；所述化学清洗装置4的数量为多个；还包括纠偏装置8；每两个所述电解发孔装置2之间均设有所述纠偏装置8；每两个所述化学腐蚀装置3中均设有所述纠偏装置8。
本发明设有多个所述电解发孔装置2，采用多级发孔，循序渐进，确保对光箔有较好的电解腐蚀效果，还能较好的提高电解腐蚀的速度；设有多个所述化学腐蚀装置3，对发孔后的光箔进行多次腐蚀，在保证具有较好的腐蚀效果的前提下确保腐蚀速度可以跟上发孔速度，提高中高压阳极箔的生产效率。
所述电解发孔装置2的数量为五个；所述化学腐蚀装置3的数量为三个；所述化学清洗装置4的数量为三个；采用五级发孔、三级腐蚀和三级清洗保证较好的发孔质量的前提下，较好的提高生产效率。
进一步地，在另一个实施例中，所述电解发孔装置2包括电解池21，所述电解池21内设有导向结构22和电解结构23；所述导向结构21包括设置在所述电解结构23上方的上导向组件221和设置在所述电解结构23下方的下导向组件222；所述上导向组件221的上方均设有电解进料辊24；所述下导向组件222的下方均设有电解转向组件27；在光箔经过最后一个所述电解转向组件27后还有一个用于出料的电解出料辊25；所述下导向组件222的两侧还均设有出水管26；所述出水管26靠近所述下导向组件222一侧的上端设有多个等距设置的出水孔261；所述电解进料辊24的材质为铝，且在其表面设有网状槽；所述电解出料辊25的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述电解转向组件27包括设置在所述下导向组件222下方的第一转向辊271和设置在所述第一转向辊271一侧的第二转向辊272；所述电解池21一侧的顶部设有电解溢流口211；所述电解池21另一侧的底部设有电解出液口212。
通过所述电解结构23和导向结构22，确保光箔在所述电解池21中具有较好的电解效果；通过所述出水管26不断往电解池注入电解液，确保所述电解池21内的电解液不断流动，保证具有较好的发孔效果。
通过所述上导向组件221对进入所述电解结构的光箔进行导向，确保所述光箔在进入所述电解结构时，处于所述电解结构的中央；通过所述上导向组件221和下导向组件222的配合，确保光箔一直处于所述电解结构的中央，保证光箔的电解腐蚀具有较好的效果。
所述电解池21内的电解液为硫酸和盐酸的混合液；在本发明中，可通过控制接入电流的大小和电解液的酸度来控制光箔上电解腐蚀产生的隧道孔的孔径大小和数量；当电解液酸度不变时，接入电流越大，光箔上电解腐蚀产生的隧道孔的孔径就越小，但是隧道孔的数量就越多，最终生产可得高压腐蚀箔；当电解液酸度不变时，接入电流越小，光箔上电解腐蚀产生的隧道孔的孔径就越大，但是隧道孔的数量就越少，最终生产可得低压腐蚀箔；电解液的酸度也不能过大，电解液过酸会导致光箔变薄，且强度下降；电解液的酸度需通过流量计来控制。
通过所述出水孔261，引导电解液流向所述电解结构23，保证较好的电解发孔效果。
所述电解进料辊24为电解的阳极，在所述电解进料辊24的表面设有网状槽，增大所述电解进料辊24与光箔之间的摩擦，且网状槽可以对光箔表面吸附的液体进行导流，降低所述电解进料辊24与光箔之间的接触电阻，提高电解效果；所述电解出料辊25的表面等距环设有多个弧形槽，增大所述电解出料辊25与光箔之间的摩擦，保证较好的传送效果。
所述电解进料辊24和电解出料辊25可转动连接在机架上。
通过所述电解溢流口211，确保在所述出水管26不断出液的同时，所述电解池21内还能保持在一定的液面，避免电解液溢出。
进一步地，在另一个实施例中，所述电解结构23包括两个相互对称的石墨基板231，所述石墨基板231包括梯形部2311和矩形部2312；所述梯形部2311在所述矩形部2312的上方，所述梯形部2311的截面为直角边在外侧的直角梯形，且直角梯形的上底大于下底；所述矩形部2312的底边宽度与所述梯形部2311的下底宽度相等；所述矩形部2312的内侧还设有屏蔽板232，所述屏蔽板232的材质为HTPVC；所述屏蔽板232自上而下设有第一孔区、第二孔区、第三孔区和无孔区；所述第一孔区的孔排布比所述第二孔区的孔排布更密；所述第二孔区的孔排布比所述第三孔区的孔排布更密；且所述第一孔区、第二孔区和第三孔区中的孔的孔径大小均相等。
通过所述梯形部2311将通入所述石墨基板231的恒定电流转换为逐渐衰减的电流，使光箔上通过电解腐蚀产生的隧道孔的深度更均匀，并且可以抑制无效隧道孔的产生，避免光箔减薄，保证光箔电解腐蚀后具有足够的机械强度；所述矩形部2312的底边宽度与所述梯形部2311的下底宽度相等，确保所述石墨基板231上过渡自然，避免出现尖端放电等可能影响到光箔腐蚀质量的现象。
通过孔排布依次变稀直至无孔的所述屏蔽板232，为所述矩形部2312延续所述梯形部将通入所述石墨基板231的恒定电流转换为逐渐衰减的电流的效果，确保所述石墨基板231整体电流呈衰减状态，使光箔上通过电解腐蚀产生的隧道孔的深度更均匀，并且可以抑制无效隧道孔的产生，避免光箔减薄，保证光箔电解腐蚀后具有足够的机械强度；所述第一孔区、第二孔区和第三孔区中的孔的孔径大小均相等，更好的保证所述第一孔区、第二孔区和第三孔区通过孔排布使所述矩形部2312的电流呈衰减状态。
HTPVC为耐高温聚氯乙烯，聚氯乙烯具有优异的介电性能，保证所述屏蔽板232对所述矩形部2312电流的屏蔽作用；且聚氯乙烯具有较好的耐候性、稳定性和电性能的同时，还具有较好的耐高温性能。
进一步地，在另一个实施例中，所述上导向组件221包括两个相互对称的导向架2211；每个所述导向架2211上均设有润滑件2212；两个所述润滑件2212之间的空隙对应所述电解结构23的进料缝隙；所述导向架2211由一块竖板22111和一块向内倾斜的斜板22112构成；所述斜板22112固定在所述竖板22111的底端；所述润滑件2212为PEEK膜；且所述润滑件2212的顶端固定在所述斜板22112上，所述润滑件2212的末端从所述斜板22112的末端自然下垂；所述下导向组件222包括两个并列设置的导向辊；所述导向辊的材质为陶瓷；两个所述导向辊之间的空隙对应所述电解结构23的出料口的中央；所述导向辊通过氮化硅轴承连接在所述电解池21中。
通过所述竖板22111和斜板22112，两个所述导向架2211构成漏斗形，更好的保证对光箔的导向作用；所述润滑件2212降低光箔与所述上导向结构221的摩擦，确保光箔在通过所述上导向结构221时不会出现磨损，保证后续电解腐蚀具有较好的效果。
PEEK膜是采用聚醚醚酮构成的膜，聚醚醚酮是一种具有耐高温、自润滑、易加工和高机械强度等优异性能的特种工程塑料，聚醚醚酮的自润滑性极大的降低了所述上导向结构221与光箔之间的摩擦，更好的保证光箔在通过所述上导向结构221时不会出现磨损。
进一步地，在另一个实施例中，所述化学腐蚀装置3包括腐蚀池31，所述腐蚀池31内设有腐蚀转向辊32；所述腐蚀池31的上方还并列设有腐蚀进料辊33和腐蚀出料辊34；所述腐蚀池31内还设有螺旋桨35；所述腐蚀池31的一侧的顶部设有腐蚀进液口311，所述腐蚀池31的另一侧的底部设有腐蚀出液口312；所述腐蚀池31设有腐蚀进液口311的一侧设有所述螺旋桨35；所述腐蚀池31设有腐蚀出液口312的一侧设有所述螺旋桨35。
增加所述螺旋桨35，通过所述螺旋桨35的转动，使所述腐蚀池31内的腐蚀液流动起来，使腐蚀液内的成分分布更均匀，确保腐蚀液对光箔的腐蚀效果更好更均匀；通过所述腐蚀转向辊32、腐蚀进料辊33和腐蚀出料辊34使光箔可以较好的进入所述腐蚀池31完成腐蚀。
所述螺旋桨35通过对应设置在所述腐蚀池31外侧的电机驱动。
在所述腐蚀池31上两个相对的侧面上均设有所述螺旋桨35，使腐蚀液在所述腐蚀池31内更好的形成对流，更好的确保腐蚀液内的成分分布更均匀，确保腐蚀液对光箔的腐蚀效果更好更均匀。
进一步地，在另一个实施例中，所述腐蚀池31设有腐蚀进液口311的一侧的所述螺旋桨35设置在所述腐蚀进液口311的下方；所述腐蚀池31设有腐蚀出液口312的一侧的所述螺旋桨35的数量为两个，且两个所述螺旋桨35分别设置在所述腐蚀出液口312的两侧。
将所述螺旋桨35设置在所述腐蚀进液口311的下方和所述腐蚀出液口312的两侧可以使腐蚀液更好的形成循环，确保腐蚀液内的成分分布均匀。
进一步地，在另一个实施例中，所述腐蚀转向辊32的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述腐蚀进料辊33的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述腐蚀出料辊34的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽。
HTPVC即耐高温聚氯乙烯，是聚氯乙烯的一种，在具有聚氯乙烯较好的耐候性、稳定性和电性能的同时，还具有较好的耐高温性能；所述弧形槽，可以增大光箔与各个辊之间的摩擦，保证较好的传送效果。
进一步地，在另一个实施例中，所述化学化学清洗装置4包括清洗池41，所述清洗池41内设有清洗转向辊42；所述清洗池41的上方还并列设有清洗进料辊43和清洗出料辊44；所述清洗转向辊42上方的两侧均设有出气管45；所述出气管45的上方设有喷水管46；所述出气管45设置在所述清洗池41内清洗液的液面下方；所述喷水管46设置在所述清洗池41内清洗液的液面上方；所述清洗池41一侧的底部设有清洗进液口411；所述清洗池41的另一侧的底部设有清洗出液口412；所述清洗池41设有所述清洗出液口412一侧的中部还设有清洗溢流口413；所述清洗池41的顶部还设有清洗盖47，所述清洗盖47上设有用于通过光箔的清洗口471。
通过所述喷水管46对快要进入清洗液的光箔进行冲洗，提高清洗效果，还能对光箔上的隧道型蚀孔进行清理；通过所述出气管45，不断向所述注入空气，在清洗液中不断形成气泡，通过气泡的上浮对光箔表面进行清理，气泡不会对光箔造成损坏，还能保证较好的清理效果。
通过所述清洗溢流口413，控制所述清洗池41内的液面高度不会高于所述清洗溢流口413，给所述喷水管46留有足够的清洗空间。
通过所述清洗盖47防止清洗过程中清洗液溅出；而且可在所述清洗口471出设有刷毛，对光箔进行清理。
进一步地，在另一个实施例中，所述喷水管46设置在所述清洗溢流口413的上方；所述喷水管46的一端贯穿所述清洗池41向外延伸；所述喷水管46的数量为多个，每两个所述喷水管46之间的距离相等，且每两个所述喷水管46之间均通过有光箔；所述喷水管46上还设有喷水孔461；两侧的两个所述喷水管46均在内侧的下方设有一排等距排列的喷水孔461；中间的所述喷水管46在底部的两侧均设有一排等距排列的喷水孔461；所述出气管45设置在所述清洗溢流口413的下方；所述出气管45的一端贯穿所述清洗池41向外延伸所述清洗转向辊42的两侧均分别设有两个所述出气管45，且同一侧的两个所述出气管45之间通过有光箔；每个所述出气管45上均设有等距环设有多排出气孔451。
三个所述喷水管46与光箔的位置设置，确保能更好的对光箔进行冲洗；所述排水孔461的位置设置，确保能更好的对光箔进行冲洗；通过所述出气孔451，使气泡可以更好的对光箔表面进行清理。
进一步地，在另一个实施例中，所述清洗转向辊42的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述清洗进料辊43的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述清洗出料辊44的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽。
HTPVC即耐高温聚氯乙烯，是聚氯乙烯的一种，在具有聚氯乙烯较好的耐候性、稳定性和电性能的同时，还具有较好的耐高温性能；所述弧形槽，可以增大光箔与各个辊之间的摩擦，保证较好的传送效果。
依据本发明的描述及附图，本领域技术人员很容易制造或使用本发明的中高压阳极箔的生产设备，并且能够产生本发明所记载的积极效果。
如无特殊说明，本发明中，若有术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系是基于附图所示
的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此本发明中描述方位或位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以结合附图，并根据具体情况理解上述术语的具体含义。
除非另有明确的规定和限定，本发明中，若有术语“设置”、“相连”及“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非对本发明做任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化，均落入本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：包括进料装置(1)、电解发孔装置(2)、化学腐蚀装置(3)、化学清洗装置(4)、烘干装置(5)和收卷装置(6)；所述电解发孔装置(2)的数量为多个；所述化学腐蚀装置(3)的数量为多个；最后一个所述电解发孔装置(2)与第一个所述化学腐蚀装置(3)之间还设有清洗结构(7)；所述进料装置(1)和第一个所述电解发孔装置(2)之间也设有清洗结构(7)；所述化学清洗装置(4)的数量为多个；还包括纠偏装置(8)；每两个所述电解发孔装置(2)之间均设有所述纠偏装置(8)；每两个所述化学腐蚀装置(3)中均设有所述纠偏装置(8)。
2.根据权利要求1所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述电解发孔装置(2)包括电解池(21)，所述电解池(21)内设有导向结构(22)和电解结构(23)；所述导向结构(21)包括设置在所述电解结构(23)上方的上导向组件(221)和设置在所述电解结构(23)下方的下导向组件(222)；所述上导向组件(221)的上方均设有电解进料辊(24)；所述下导向组件(222)的下方均设有电解转向组件(27)；在光箔经过最后一个所述电解转向组件(27)后还有一个用于出料的电解出料辊(25)；所述下导向组件(222)的两侧还均设有出水管(26)；所述出水管(26)靠近所述下导向组件(222)一侧的上端设有多个等距设置的出水孔(261)；所述电解进料辊(24)的材质为铝，且在其表面设有网状槽；所述电解出料辊(25)的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述电解转向组件(27)包括设置在所述下导向组件(222)下方的第一转向辊(271)和设置在所述第一转向辊(271)一侧的第二转向辊(272)；所述电解池(21)一侧的顶部设有电解溢流口(211)；所述电解池(21)另一侧的底部设有电解出液口(212)。
3.根据权利要求2所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述电解结构(23)包括两个相互对称的石墨基板(231)，所述石墨基板(231)包括梯形部(2311)和矩形部(2312)；所述梯形部(2311)在所述矩形部(2312)的上方，所述梯形部(2311)的截面为直角边在外侧的直角梯形，且直角梯形的上底大于下底；所述矩形部(2312)的底边宽度与所述梯形部(2311)的下底宽度相等；所述矩形部(2312)的内侧还设有屏蔽板(232)，所述屏蔽板(232)的材质为HTPVC；所述屏蔽板(232)自上而下设有第一孔区、第二孔区、第三孔区和无孔区；所述第一孔区的孔排布比所述第二孔区的孔排布更密；所述第二孔区的孔排布比所述第三孔区的孔排布更密；且所述第一孔区、第二孔区和第三孔区中的孔的孔径大小均相等。
4.根据权利要求2所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述上导向组件(221)包括两个相互对称的导向架(2211)；每个所述导向架(2211)上均设有润滑件(2212)；两个所述润滑件(2212)之间的空隙对应所述电解结构(23)的进料缝隙；所述导向架(2211)由一块竖板(22111)和一块向内倾斜的斜板(22112)构成；所述斜板(22112)固定在所述竖板(22111)的底端；所述润滑件(2212)为PEEK膜；且所述润滑件(2212)的顶端固定在所述斜板(22112)上，所述润滑件(2212)的末端从所述斜板(22112)的末端自然下垂；所述下导向组件(222)包括两个并列设置的导向辊；所述导向辊的材质为陶瓷；两个所述导向辊之间的空隙对应所述电解结构(23)的出料口的中央；所述导向辊通过氮化硅轴承连接在所述电解池(21)中。
5.根据权利要求1所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述化学腐蚀装置(3)包括腐蚀池(31)，所述腐蚀池(31)内设有腐蚀转向辊(32)；所述腐蚀池(31)的上方还并列设有腐蚀进料辊(33)和腐蚀出料辊(34)；所述腐蚀池(31)内还设有螺旋桨(35)；所述腐蚀池(31)的一侧的顶部设有腐蚀进液口(311)，所述腐蚀池(31)的另一侧的底部设有腐蚀出液口(312)；所述腐蚀池(31)设有腐蚀进液口(311)的一侧设有所述螺旋桨(35)；所述腐蚀池(31)设有腐蚀出液口(312)的一侧设有所述螺旋桨(35)。
6.根据权利要求5所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述腐蚀池(31)设有腐蚀进液口(311)的一侧的所述螺旋桨(35)设置在所述腐蚀进液口(311)的下方；所述腐蚀池(31)设有腐蚀出液口(312)的一侧的所述螺旋桨(35)的数量为两个，且两个所述螺旋桨(35)分别设置在所述腐蚀出液口(312)的两侧。
7.根据权利要求5所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述腐蚀转向辊(32)的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述腐蚀进料辊(33)的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述腐蚀出料辊(34)的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽。
8.根据权利要求1所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述化学化学清洗装置(4)包括清洗池(41)，所述清洗池(41)内设有清洗转向辊(42)；所述清洗池(41)的上方还并列设有清洗进料辊(43)和清洗出料辊(44)；所述清洗转向辊(42)上方的两侧均设有出气管(45)；所述出气管(45)的上方设有喷水管(46)；所述出气管(45)设置在所述清洗池(41)内清洗液的液面下方；所述喷水管(46)设置在所述清洗池(41)内清洗液的液面上方；所述清洗池(41)一侧的底部设有清洗进液口(411)；所述清洗池(41)的另一侧的底部设有清洗出液口(412)；所述清洗池(41)设有所述清洗出液口(412)一侧的中部还设有清洗溢流口(413)；所述清洗池(41)的顶部还设有清洗盖(47)，所述清洗盖(47)上设有用于通过光箔的清洗口(471)。
9.根据权利要求8所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述喷水管(46)设置在所述清洗溢流口(413)的上方；所述喷水管(46)的一端贯穿所述清洗池(41)向外延伸；所述喷水管(46)的数量为多个，每两个所述喷水管(46)之间的距离相等，且每两个所述喷水管(46)之间均通过有光箔；所述喷水管(46)上还设有喷水孔(461)；两侧的两个所述喷水管(46)均在内侧的下方设有一排等距排列的喷水孔(461)；中间的所述喷水管(46)在底部的两侧均设有一排等距排列的喷水孔(461)；所述出气管(45)设置在所述清洗溢流口(413)的下方；所述出气管(45)的一端贯穿所述清洗池(41)向外延伸所述清洗转向辊(42)的两侧均分别设有两个所述出气管(45)，且同一侧的两个所述出气管(45)之间通过有光箔；每个所述出气管(45)上均设有等距环设有多排出气孔(451)。
10.根据权利要求8所述的一种中高压阳极箔的生产设备，其特征在于：所述清洗转向辊(42)的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述清洗进料辊(43)的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽；所述清洗出料辊(44)的材质为HTPVC，且在其表面等距环设有多个弧形槽。
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| CN202110479003.8A CN113140413A (zh) | 2021-04-30 | 2021-04-30 | 一种中高压阳极箔的生产设备 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114023565A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-02-08 | 扬州宏远电子股份有限公司 | 马达启动用高致密的交流箔腐蚀方法及系统 |
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2021
- 2021-04-30 CN CN202110479003.8A patent/CN113140413A/zh active Pending
Cited By (2)
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| CN114023565A (zh) * | 2021-11-25 | 2022-02-08 | 扬州宏远电子股份有限公司 | 马达启动用高致密的交流箔腐蚀方法及系统 |
| CN114023565B (zh) * | 2021-11-25 | 2024-01-30 | 扬州宏远电子股份有限公司 | 马达启动用高致密的交流箔腐蚀方法及系统 |
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