CN113035915A - 3d显示组件及其显示面板、显示面板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种3D显示组件及其显示面板、显示面板的制作方法，显示面板包括：背板、位于背板上的多个子像素结构以及多个隔断结构；在第一方向上，子像素结构包括交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构，第一亚子像素结构与第二亚子像素结构的发光颜色相同，第一亚子像素结构包括第一阳极，第二亚子像素结构包括第二阳极，第二阳极设置在隔断结构远离背板的一侧，相邻第一阳极被隔断结构断开，第一阳极在背板上的正投影与第二阳极在背板上的正投影相互连接，或第一阳极在背板上的正投影与第二阳极在背板上的正投影交叠。根据本发明的实施例，亚子像素结构之间无不发光区域，因而3D显示时不会在人眼观测区形成暗区，解决了摩尔纹问题。

Description

3D显示组件及其显示面板、显示面板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示设备技术领域，尤其涉及一种3D显示组件及其显示面板、显示面板的制作方法。
背景技术
近年来，立体显示即3D(three-dimensional-三维)显示，已经成为显示领域的一大趋势。与普通二维显示相比，3D技术可以使画面变得立体逼真，图像不再局限于屏幕平面，仿佛能够走出屏幕外面，让观众有身临其境的感觉。
然而，相关技术中的显示面板的子像素在不连续发光时，人眼观测区会出现有亮有暗现象，并且所有暗区会连接在一起形成3D莫尔纹(mura)。因此，如何提升3D显示效果，实现无莫尔纹显示是本领域技术人员面临的一大难题。
发明内容
本发明提供一种3D显示组件及其显示面板、显示面板的制作方法，以解决相关技术中的不足。
为实现上述目的，本发明实施例的第一方面提供一种显示面板，包括：背板、位于所述背板上的多个子像素结构以及多个隔断结构；在第一方向上，所述子像素结构包括交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构，所述第一亚子像素结构与所述第二亚子像素结构的发光颜色相同，所述第一亚子像素结构包括第一阳极，所述第二亚子像素结构包括第二阳极，所述第二阳极设置在所述隔断结构远离所述背板的一侧，相邻所述第一阳极被所述隔断结构断开，所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影相互连接，或所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影交叠。
可选地，所述隔断结构呈T字形，所述T字形隔断结构包括支撑部与隔断部，所述第二阳极位于所述隔断部远离所述背板的一侧，所述第一阳极位于所述支撑部的两侧。
可选地，所述支撑部的高度大于所述第一阳极的厚度。
可选地，所述隔断部包括悬空区段；在所述第一方向上，所述隔断部的尺寸范围为：40μm～50μm，和/或所述悬空区段的尺寸范围为：1μm～2μm。
可选地，所述第一方向为列方向，所述子像素结构包括至少一列交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构；或所述第一方向为行方向，所述子像素结构包括至少一行交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构。
可选地，所述第一方向为列方向，所述子像素结构包括至少两列交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构。
可选地，所述子像素结构包括：至少两行至少两列交替排布的第一亚子像素结构，与至少一行至少两列交替排布的第二亚子像素结构；位于同一行的相邻所述第一亚子像素结构之间与位于同一行的相邻所述第二亚子像素结构之间都具有间隙。
可选地，所述第一方向为行方向，所述子像素结构包括至少两行交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构。
可选地，所述子像素结构包括：至少两行至少两列交替排布的第一亚子像素结构，与至少两行至少一列交替排布的第二亚子像素结构；位于同一列的相邻所述第一亚子像素结构之间与位于同一列的相邻所述第二亚子像素结构之间都具有间隙。
可选地，在所述第一方向上，所述第二阳极的宽度与所述第一阳极的宽度相同。
可选地，第二方向垂直于所述第一方向，在所述第二方向上，所述第二阳极的长度范围为：40μm～50μm，在所述第一方向上，所述第二阳极的宽度范围为：10μm～20μm；和/或在所述第二方向上，所述第一阳极的长度范围为：40μm～50μm，在所述第一方向上，所述第一阳极的宽度范围为：10μm～20μm。
可选地，在第一方向上，各个所述第一阳极连接各自的像素驱动电路，用于提供一个物体的不同视角信息；一个所述第二阳极与相邻的所述第一阳极连接到同一像素驱动电路，用于提供一个物体的相同视角信息；或一个所述第二阳极与相邻的所述第一阳极连接到不同像素驱动电路，用于提供一个物体的不同视角信息。
可选地，所述背板上具有像素定义层，所述像素定义层具有多个开口，一个所述开口内具有一个所述子像素结构。
可选地，同一所述子像素结构内的所述第一亚子像素结构之间的距离小于不同所述子像素结构的所述第一亚子像素结构之间的距离。
可选地，所述第一亚子像素结构包括第一阴极，所述第二亚子像素结构包括第二阴极；
在所述第一方向上，所述第一阴极与所述第二阴极连接在一起；或在所述第一方向上，所述第一阴极与所述第二阴极断开，在第二方向上，所述第一阴极与所述第二阴极连接在一起，所述第二方向垂直于所述第一方向。
本发明实施例的第二方面提供一种显示面板的制作方法，包括：
提供背板，所述背板包括交替排布的子像素结构区与非像素结构区；在第一方向上，所述子像素结构区包括交替排布的第一亚子像素结构区与第二亚子像素结构区；
在所述第二亚子像素结构区上形成隔断结构；
在所述第一亚子像素结构区上形成第一亚子像素结构，在所述隔断结构远离所述背板的一侧形成第二亚子像素结构，所述第一亚子像素结构与所述第二亚子像素结构的发光颜色相同，所述第一亚子像素结构包括第一阳极，所述第二亚子像素结构包括第二阳极；所述第一阳极与所述第二阳极在同一工序中形成，所述第二阳极位于所述隔断结构远离所述背板的一侧，相邻所述第一阳极被所述隔断结构断开，所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影相互连接，或所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影交叠。
可选地，在所述第一亚子像素结构区形成第一亚子像素结构，与在所述隔断结构远离所述背板的一侧形成第二亚子像素结构包括：
沉积阳极材料层，所述阳极材料层被所述隔断结构隔断，位于所述隔断结构两侧的所述阳极材料层形成第一阳极，位于所述隔断结构上的所述阳极材料层形成第二阳极；
在所述第一阳极、所述第二阳极以及所述非像素结构区上形成像素定义层；在所述像素定义层内形成开口，所述开口暴露所述第一阳极与所述第二阳极；在所述开口内对应形成第一发光块与第二发光块；蒸镀阴极材料层，位于所述第一发光块上的所述阴极材料层形成第一阴极，位于所述第二发光块上的所述阴极材料层形成第二阴极。
可选地，所述背板包括基底以及覆盖于所述基底的平坦化层，所述基底与所述平坦化层之间具有阵列式排布的像素驱动电路，所述像素驱动电路包括晶体管；所述沉积阳极材料层前，在所述平坦化层内形成第一过孔与第二过孔，所述第一过孔暴露待与所述第一阳极连接的所述晶体管的源极或漏极，所述第二过孔暴露待与所述第二阳极连接的所述晶体管的源极或漏极；所述沉积阳极材料层时，所述第一阳极填充所述第一过孔，所述沉积阳极材料层时还形成搭接电极，所述搭接电极填充所述第二过孔，所述搭接电极与所述第二阳极搭接在一起。
可选地，所述形成隔断结构包括：
在所述背板上依次整面形成第一材料层、第二材料层与掩膜层；图形化所述掩膜层形成开口，所述开口暴露所述第一亚子像素结构区与所述非像素结构区；
以所述图形化的掩膜层为掩膜，刻蚀所述第二材料层与所述第一材料层，所述第一材料层的刻蚀速率大于所述第二材料层的刻蚀速率，所述第二亚子像素结构区保留的所述第二材料层与所述第一材料层形成隔断结构。
可选地，所述形成第一材料层前，在所述背板上形成第一透明电极与第二透明电极，所述第一透明电极用于与第一阳极连接，所述第二透明电极用于与第二阳极连接；所述第一透明电极与所述第二透明电极为刻蚀所述第二材料层与所述第一材料层时的刻蚀终止层。
本发明实施例的第三方面提供一种3D显示组件，包括：
上述任一项所述的显示面板；
设置在所述显示面板的出光侧的柱透镜阵列；所述柱透镜阵列的焦平面位于所述多个子像素结构上；所述柱透镜阵列包括多条柱透镜，所述柱透镜的延伸方向垂直所述第一方向。
可选地，一组发光颜色不同的所述子像素结构形成像素结构单元，所述柱透镜阵列中的每条柱透镜沿列方向延伸，一条所述柱透镜对应一列所述像素结构单元，每一所述子像素结构包括多列所述第一亚子像素结构与多列所述第二亚子像素结构；或所述柱透镜阵列中的每条柱透镜沿行方向延伸，一条所述柱透镜对应一行所述像素结构单元，每一所述子像素结构包括多行所述第一亚子像素结构与多行所述第二亚子像素结构。
图1是相关技术中的3D显示组件产生摩尔纹的原理图。对于相关技术中的摩尔纹问题，发明人进行了分析，发现产生的原因在于：参照图1所示，由于光刻中的衍射问题以及刻蚀工艺存在极限，刻蚀阳极材料层形成阳极10a时，相邻阳极10a之间具有至少3.5μm的间距L，该间距L内无法发光。由于人眼距离3D显示组件具有距离H，该距离H会放大不发光区域的尺寸，在人眼观测区形成暗区，即摩尔纹。基于上述分析，本发明的实施例通过隔断结构形成彼此之间几乎无间隙的第一阳极与第二阳极，第一阳极对应第一亚子像素结构，第二阳极对应第二亚子像素结构，亚子像素结构之间无不发光区域，因而不会在人眼观测区形成暗区，即解决了摩尔纹问题。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
图1是相关技术中的3D显示组件产生摩尔纹的原理图；
图2是本发明第一实施例的显示面板的俯视图；
图3是沿着图2中的AA线的剖视图；
图4是沿着图2中的BB线的剖视图；
图5是图3中的显示面板去除阴极、像素定义层、第一发光块以及第二发光块后的俯视图；
图6是本发明第一实施例的3D显示组件的立体结构示意图；
图7是本发明第一实施例的3D显示组件的显示原理图；
图8是本发明第一实施例的显示面板的制作方法的流程图；
图9至图12是图8中的流程对应的中间结构示意图；
图13是本发明第二实施例的显示面板的截面结构示意图；
图14是本发明第三实施例的显示面板沿第一方向的截面结构示意图；
图15是本发明第三实施例的显示面板沿第二方向的截面结构示意图，第二方向垂直于第一方向；
图16是本发明第四实施例的显示面板的截面结构示意图；
图17是本发明第五实施例的3D显示组件的立体结构示意图；
图18是图17中的显示面板的俯视图。
附图标记列表：
显示面板11-1、11-2、11-3、11-4、11-5 背板10
像素结构单元111 子像素结构112
第一亚子像素结构1121 第一阳极1121a
第一阴极1121b 第一发光块1121c
第二亚子像素结构1122 第二阳极1122a
第二阴极1122b 第二发光块1122c
隔断结构113 支撑部113a
隔断部113b 基底110
栅极114 栅极绝缘层115
有源层116 源极117a
漏极117b 层间介质层ILD
钝化层PVX 平坦化层PLN
晶体管T 像素定义层PDL
子像素结构区101 非像素结构区102
第一亚子像素结构区101a 第二亚子像素结构区101b
第一材料层1131 第二材料层1132
掩膜层30 开口30a
第一过孔118a 第二过孔118b
搭接电极119 第一透明电极1121d
3D显示组件1、2 柱透镜阵列12
柱透镜121 隔断部的尺寸L1
悬空区段的尺寸L2 阳极10a
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。
图2是本发明第一实施例的显示面板的俯视图，图3是沿着图2中的AA线的剖视图。
参照图2与图3所示，显示面板11-1包括：
背板10、位于背板10上的多个子像素结构112以及多个隔断结构113；在第一方向上，子像素结构112包括交替排布的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122，第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122的发光颜色相同，第一亚子像素结构1121包括第一阳极1121a，第二亚子像素结构1122包括第二阳极1122a，第二阳极1122a设置在隔断结构113远离背板10的一侧，相邻第一阳极1121a被隔断结构113断开，第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影相互连接，或第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影交叠。
参照图3所示，背板10包括基底110。基底110可以为柔性基底，也可以为硬质基底。柔性基底的材料可以为聚酰亚胺，硬质基底的材料可以为玻璃。
聚酰亚胺和玻璃上可以设置有缓冲层、水汽隔离层等。
参照图2与图3所示，发光颜色不同的多个子像素结构112交替排布。一组发光颜色不同的子像素结构112形成一个像素结构单元111。多个像素结构单元111按阵列式排布。
本实施例中，每一子像素结构112包括一列多行第一亚子像素结构1121与一列多行第二亚子像素结构1122。第一亚子像素结构1121至少为两行，第二亚子像素结构1122至少为一行。第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122的发光颜色相同。每一第一亚子像素结构1121包括：第一阳极1121a、第一阴极1121b以及设置于第一阳极1121a和第一阴极1121b之间的第一发光块1121c。每一第二亚子像素结构1122包括：第二阳极1122a、第二阴极1122b以及设置于第二阳极1122a和第二阴极1122b之间的第二发光块1122c。第一发光块1121c与第二发光块1122c的材料可以为OLED。第一发光块1121c与第二发光块1122c可以为红、绿或蓝，也可以为红、绿、蓝或黄。本实施例中，各个第一亚子像素结构1121的第一阴极1121b与各个第二亚子像素结构1122的第二阴极1122b连接在一起，形成一面电极。
一个子像素结构112的所有第一发光块1121c与所有第二发光块1122c的区域可由像素定义层PDL的一个开口限定。
一个子像素结构112内，相邻第一亚子像素结构1121之间的距离可以小于不同子像素结构112的第一亚子像素结构1121之间的距离。
本实施例中，像素结构单元111与基底110之间设置有阵列式排布的像素驱动电路，像素驱动电路包括若干晶体管T。参照图3所示，第一阳极1121a与一晶体管T的漏极117b电连接。此外，第二阳极1122a也可以与一晶体管T的漏极117b电连接。换言之，第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122都为主动驱动发光方式OLED(Active Matrix OLED，AMOLED)。
主动驱动发光方式OLED，也称有源驱动发光方式OLED，是采用晶体管阵列控制每个像素发光，且每个像素可以连续发光。
晶体管T可以包括：栅极114、栅极绝缘层115、有源层116、源极117a以及漏极117b。
本实施例中，栅极114靠近基底110，有源层116远离基底110，因而，晶体管T为底栅结构。有源层116在远离基底110的一侧设置有层间介质层ILD。源极117a与漏极117b设置在层间介质层ILD远离基底110的一侧，源极117a可通过填充穿过层间介质层ILD的过孔连接于有源层116的源区，漏极117b可通过填充穿过层间介质层ILD的过孔连接于有源层116的漏区。源区与漏区之间的有源层116为沟道区。
其它实施例中，晶体管T也可以为顶栅结构。本发明的实施例不限定像素驱动电路的具体结构。
继续参照图3所示，源极117a、漏极117b以及未设置源极117a与漏极117b的层间介质层ILD在远离基底110的一侧可以设置有钝化层PVX。钝化层PVX在远离基底110的一侧设置有平坦化层PLN。
平坦化层PLN在远离基底110的一侧设置有隔断结构113。本实施例中，隔断结构113呈T字形，T字形隔断结构113包括支撑部113a与隔断部113b。第二阳极1122a位于隔断部113b远离基底110的一侧，第一阳极1121a位于支撑部113a的两侧。
支撑部113a的高度大于第一阳极1121a的厚度。
在第一方向上，隔断部113b的尺寸L1的范围可以为：40μm～50μm。
隔断部113b包括悬空区段，在第一方向上，悬空区段的尺寸L2的范围可以为：1μm～2μm，以有效断开第一阳极1121a与第二阳极1122a。
本实施例中，第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影相互连接包括由于蒸镀阳极材料层以及隔断结构113的制作工艺导致的第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影之间具有极小间隙。
其它实施例中，隔断结构113也可以呈倒梯形。
图4是沿着图2中的BB线的剖视图。图5是图3中的显示面板去除阴极、像素定义层、第一发光块以及第二发光块后的俯视图。参照图3、图4与图5所示，本实施例中，第一阳极1121a通过填充穿过平坦化层PLN与钝化层PVX的第一过孔118a连接于晶体管T的漏极117b，第二阳极1122a连接于搭接电极119，搭接电极119通过填充穿过平坦化层PLN与钝化层PVX的第二过孔118b连接于晶体管T的漏极117b。其它实施例中，第一阳极1121a也可以连接于搭接电极119，搭接电极119通过填充穿过平坦化层PLN与钝化层PVX的第一过孔118a连接于晶体管T的漏极117b，或第二阳极1122a通过填充穿过隔断结构113、平坦化层PLN以及钝化层PVX的第二过孔118b连接于晶体管T的漏极117b。
其它实施例中，第一阳极1121a与第二阳极1122a也可以连接于晶体管T的源极117a。
本发明第一实施例还提供一种3D显示组件。图6是3D显示组件的立体结构示意图。参照图6所示，3D显示组件1，包括：
上述显示面板11-1；
设置在显示面板11-1的出光侧的柱透镜阵列12；柱透镜阵列12的焦平面位于多个子像素结构112上；柱透镜阵列12包括多条柱透镜121，柱透镜121的延伸方向垂直第一方向。
本实施例中，参照图6所示，柱透镜阵列12中的每条柱透镜121沿行方向延伸，一条柱透镜121对应一行像素结构单元111。每一子像素结构112包括一列多行第一亚子像素结构1121与一列多行第二亚子像素结构1122。
其它实施例中，柱透镜阵列12中的每条柱透镜121也可以沿列方向延伸，一条柱透镜121对应一列像素结构单元111。每一子像素结构112包括一行多列第一亚子像素结构1121与一行多列第二亚子像素结构1122。
其它实施例中，除了柱透镜阵列12，也可以采用其它实现3D显示的分光元件。
本实施例中，位于同一列的各个第一阳极1121a连接各自的像素驱动电路，用于提供一个物体的不同视角信息。一个第二阳极1122a与相邻的第一阳极1121a可以连接到同一像素驱动电路。如此，该连接到同一像素驱动电路的第二阳极1122a与第一阳极1121a提供一个物体的相同视角信息。换言之，同一列的该个第一亚子像素结构1121与相邻的第二亚子像素结构1122同步驱动发光。
图7是本实施例的3D显示组件的显示原理图。参照图6与图7所示，第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122由于位于柱透镜121的焦平面上，因而位于同一列的相邻两行第一亚子像素结构1121经柱透镜121折射后，分为上下两束光，分别到达人的左眼与右眼。位于同一列的相邻两行第一亚子像素结构1121分别携带一个物体的不同视角信息，经人脑合成后形成物体的立体像。由于位于同一列的相邻两行第一亚子像素结构1121之间的第二亚子像素结构1122也发光，因而相邻第一亚子像素结构1121之间无不发光区域，即使经人眼距离3D显示组件1之间的距离H的放大，也不会在人眼观测区形成暗区，即解决了摩尔纹问题。
其它实施例中，位于同一列的一个第二阳极1122a与相邻的第一阳极1121a可以连接到不同像素驱动电路，用于提供一个物体的不同视角信息。换言之，位于同一列的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122分别驱动发光。位于同一列的相邻两行第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122可以分别携带一个物体的不同视角信息，到达人眼后经人脑合成形成物体的立体像。本实施例不但解决了摩尔纹，还可以增加人眼最佳观察点的位置的数量，从而提高同一物体的立体感。
一些实施例中，阴极面电极远离基底110的一侧可以整面覆盖封装层。封装层可以为薄膜封装层，包括若干无机、有机、无机多层交叠结构。柱透镜阵列12设置在封装层远离基底110的一侧。
对于图2至图5中的显示面板11-1，本发明实施例一还提供一种制作方法。图8是制作方法的流程图。图9至图12是图8中的流程对应的中间结构示意图。
首先，参照图8中的步骤S1、图9与图10所示，图10是沿着图9中的CC线的剖视图，提供背板10，背板10包括交替排布的子像素结构区101与非像素结构区102；在第一方向上，子像素结构区101包括交替排布的第一亚子像素结构区101a与第二亚子像素结构区101b。
本实施例中，背板10包括基底110以及覆盖于基底110上的平坦化层PLN。
基底110可以为柔性基底，也可以为硬质基底。柔性基底的材料可以为聚酰亚胺，硬质基底的材料可以为玻璃。
聚酰亚胺和玻璃上可以设置有缓冲层、水汽隔离层等。
本实施例中，可以先在基底110上形成阵列式排布的像素驱动电路。步骤S1具体可以包括步骤S11～S17。
步骤S11：在基底110上整面形成栅极材料层；图形化栅极材料层，形成栅极114。
步骤S12：在栅极114以及未覆盖栅极114的基底110上整面形成栅极绝缘层115。
步骤S13：在栅极绝缘层115上整面形成有源材料层；图形化有源材料层，形成有源层116。
步骤S14：在有源层116以及未覆盖有源层116的栅极绝缘层115上整面形成层间介质层ILD。
步骤S15：在层间介质层ILD内形成过孔，分别暴露有源层116的源区与漏区；填充过孔并在层间介质层ILD上形成源极117a与漏极117b。
步骤S16：在源极117a、漏极117b以及未覆盖源极117a与漏极117b的层间介质层ILD上形成钝化层PVX。
步骤S17：在钝化层PVX上整面形成平坦化层PLN。
栅极114、栅极绝缘层115、有源层116、源极117a以及漏极117b形成晶体管T。其它实施例中，晶体管T也可以为顶栅结构。本发明的实施例不限定像素驱动电路的具体结构。
接着，参照图8中的步骤S2与图12所示，在第二亚子像素结构区101b上形成隔断结构113。
本实施例中，步骤S2具体可以包括步骤S21～S23。
步骤S21：参照图11所示，在平坦化层PLN上依次整面形成第一材料层1131、第二材料层1132与掩膜层30；图形化掩膜层30形成开口30a，开口30a暴露第一亚子像素结构区101a与非像素结构区102。
第一材料层1131与第二材料层1132可以都为无机材料，例如第一材料层1131的材料为二氧化硅，第二材料层1132的材料为氮化硅。掩膜层30的材料可以为光刻胶。
步骤S22：以图形化的掩膜层30为掩膜，刻蚀第二材料层1132与第一材料层1131，第一材料层1131的刻蚀速率大于第二材料层1132的刻蚀速率，第二亚子像素结构区101b保留的第二材料层1132与第一材料层1131形成隔断结构113。
刻蚀第二材料层1132与第一材料层1131可以为干法刻蚀或湿法刻蚀。可以通过调整干法刻蚀的气体种类及配比，以及湿法刻蚀的刻蚀剂的种类及配比使得干法刻蚀气体或湿法刻蚀剂对第一材料层1131的刻蚀选择比大于对第二材料层1132的刻蚀选择比。
一些实施例中，第一材料层1131与第二材料层1132也可以都为有机材料，通过曝光强度以及第一材料层1131、第二材料层1132的光敏类型，实现第一材料层1131的去除量大于第二材料层1132的去除量。
在版图设计上，第一材料层1131的厚度可以大于阳极材料层的厚度，以确保阳极材料层被隔断形成的第一阳极1121a、第二阳极1122a互不连接。一些实施例中，第一材料层1131的厚度可以大于阳极材料层与第一发光块1121c的厚度之和。
在第一方向上，隔断部113b的尺寸L1的范围可以为：40μm～50μm。
隔断部113b包括悬空区段，在第一方向上，悬空区段的尺寸L2的范围可以为：1μm～2μm，不但有效断开第一阳极1121a与第二阳极1122a，还可以节省刻蚀时间，提高工艺效率。
步骤S23：参照图12、图3、图4与图5所示，在第一亚子像素结构区101a的平坦化层PLN以及钝化层PVX内形成第一过孔118a，第二亚子像素结构区101b附近的平坦化层PLN以及钝化层PVX内形成第二过孔118b，第一过孔118a暴露待与第一阳极1121a电连接的晶体管T的源极117a或漏极117b，第二过孔118b暴露待与第二阳极1121b电连接的晶体管T的源极117a或漏极117b。
一些实施例中，步骤S23也可以在步骤S1与步骤S21之间进行。
其它实施例中，也可以在第一亚子像素结构区101a附近的平坦化层PLN以及钝化层PVX内形成第一过孔118a；或在隔断结构113、平坦化层PLN以及钝化层PVX内形成第二过孔118b。
之后，参照图8中的步骤S3、图12与图3所示，在第一亚子像素结构区101a上形成第一亚子像素结构1121，在隔断结构113远离背板10的一侧形成第二亚子像素结构1122，第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122的发光颜色相同，第一亚子像素结构1121包括第一阳极1121a，第二亚子像素结构1122包括第二阳极1122a；第一阳极1121a与第二阳极1122a在同一工序中形成，第二阳极1122a位于隔断结构113远离背板10的一侧，相邻第一阳极1121a被隔断结构113断开，第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影相互连接，或第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影交叠。
本实施例中，步骤S3具体可以包括步骤S31～S32。
步骤S31：参照图12与图3所示，沉积阳极材料层，阳极材料层被隔断结构113隔断，位于隔断结构113两侧的阳极材料层形成第一阳极1121a，位于隔断结构113上的阳极材料层形成第二阳极1122a。
阳极材料层可以整面沉积，非像素结构区102的阳极材料层可通过干法刻蚀去除。阳极材料层可以为第一透明导电层、金属银层、以及第二透明导电层的叠层结构。
本实施例中，第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影相互连接包括由于蒸镀阳极材料层以及隔断结构113的制作工艺导致的第一阳极1121a在背板10上的正投影与第二阳极1122a在背板10上的正投影之间具有极小间隙。
参照图4与图5所示，沉积阳极材料层时，第一阳极1121a填充第一过孔118a。沉积阳极材料层时还形成搭接电极119，搭接电极119填充第二过孔118b，搭接电极119与第二阳极1122a搭接在一起。
当在第一亚子像素结构区101a附近的平坦化层PLN以及钝化层PVX内形成第一过孔118a时，沉积阳极材料层时还形成搭接电极119，搭接电极119填充第一过孔118a，搭接电极119与第一阳极1121a搭接在一起。当在隔断结构113、平坦化层PLN以及钝化层PVX内形成第二过孔118b时，沉积阳极材料层时，第二阳极1122a填充第二过孔118b。
步骤S32：仍参照图12、图3与图4所示，在第一阳极1121a、第二阳极1122a以及非像素结构区102上形成像素定义层PDL；在像素定义层PDL内形成开口，开口暴露第一阳极1121a与第二阳极1122a；在开口内对应形成第一发光块1121c与第二发光块1122c；蒸镀阴极材料层。位于第一发光块1121c上的阴极材料层形成第一阴极1121b。位于第二发光块1122c上的阴极材料层形成第二阴极1122b。
像素定义层PDL为整面形成。像素定义层PDL的一个开口暴露一个子像素结构112的所有第一阳极1121a与所有第二阳极1122a。第一发光块1121c与第二发光块1122c为OLED层，可以采用蒸镀法形成。同一子像素结构112内的第一发光块1121c与第二发光块1122c的颜色相同。阴极材料层为整面蒸镀。
3D显示组件1中，柱透镜阵列12可以粘接在阴极面电极远离基底110的一侧。
一些实施例中，阴极面电极在远离基底110的一侧可以整面覆盖封装层。封装层可以为薄膜封装层，包括若干无机、有机、无机多层交叠结构。柱透镜阵列12设置在封装层远离基底110的一侧。
图13是本发明第二实施例的显示面板的截面结构示意图。参照图13所示，本实施例的3D显示组件及其显示面板11-2、显示面板11-2的制作方法与实施例一中的3D显示组件1及其显示面板11-1、显示面板11-1的制作方法大致相同，区别仅在于：显示面板11-2中，在第一方向，也即垂直柱透镜121的延伸方向上，第二阳极1122a的宽度与第一阳极1121a的宽度相同。
第二阳极1122a的宽度与第一阳极1121a的宽度相同可使得第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122大小相等，提高3D显示效果，尤其是提高第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122分别驱动发光时的3D显示效果。
图14是本发明第三实施例的显示面板的沿第一方向的截面结构示意图。图15是本发明第三实施例的显示面板沿第二方向的截面结构示意图，第二方向垂直于第一方向。参照图14与图15所示，本实施例的3D显示组件及其显示面板11-3、显示面板11-3的制作方法与实施例一、二的3D显示组件1及其显示面板11-1、11-2、显示面板11-1、11-2的制作方法大致相同，区别仅在于：参照图14所示，在第一方向上，第一阴极1121b与第二阴极1122b断开，参照图15所示，在第二方向上，第一阴极1121b与第二阴极1122b连接在一起。
在第一方向上，第一阴极1121b与第二阴极1122b断开可以是由于隔断部113b的厚度较大，和/或支撑部113a的高度较高，和/或阴极材料层的厚度较薄造成的。
在第二方向上，第一阴极1121b与第二阴极1122b连接在一起可通过非像素结构区102上的阴极材料层实现。
图16是本发明第四实施例的显示面板的截面结构示意图。参照图16所示，本实施例的3D显示组件及其显示面板11-4、显示面板11-4的制作方法与实施例一、二、三的3D显示组件1及其显示面板11-1、11-2、11-3、显示面板11-1、11-2、11-3的制作方法大致相同，区别仅在于：显示面板11-4中，步骤S21形成第一材料层1131前，在平坦化层PLN上形成第一透明电极1121d与第二透明电极(未图示)，第一透明电极1121d用于与第一阳极1121a连接，第二透明电极用于与第二阳极1122a连接；第一透明电极1121d与第二透明电极可以作为刻蚀第二材料层1132与第一材料层1131时的刻蚀终止层。
第二透明电极可以位于搭接电极119处。
参照图16所示，本实施例中，第一透明电极1121d在基底110上的正投影与隔断结构113在基底110上的正投影两者部分区域重叠，具体地，与支撑部113a与隔断部113b的正投影都重叠。其它实施例中，第一透明电极1121d在基底110上的正投影也可仅与隔断部113b在基底110上的正投影部分区域重叠。
第一透明电极1121d与第二透明电极的材料可以为氧化铟锡(ITO)。本实施例中，第一透明电极1121d填充第一过孔118a，第二透明电极填充第二过孔118b；第一阳极1121a与第二阳极1122a可以为金属银层与第二透明导电层的叠层结构。
图17是本发明第五实施例的3D显示组件的立体结构示意图。图18是图17中的显示面板的俯视图。参照图17与图18所示，本实施例的3D显示组件2及其显示面板11-5、显示面板11-5的制作方法与实施例一至四的3D显示组件1及其显示面板11-1、11-2、11-3、11-4、显示面板11-1、11-2、11-3、11-4的制作方法大致相同，区别仅在于：显示面板11-5中，第一方向为列方向，子像素结构112包括两列交替排布的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122。
具体地，子像素结构112包括：两列至少两行交替排布的第一亚子像素结构1121，与两列至少一行交替排布的第二亚子像素结构1122。位于同一行的相邻第一亚子像素结构1121之间具有间隙，位于同一行的相邻第二亚子像素结构1122之间也具有间隙。上述间隙可以对应不发光区域。即使人眼距离3D显示组件2之间的距离H很大，由于柱透镜121在第二方向(本实施例对应行方向)上并无放大作用，因而人眼在观测区并无法分辨上述间隙，即上述间隙不会在人眼观测区形成暗区。
位于同一行的相邻第一亚子像素结构1121的第一阳极1121a可以采用刻蚀法断开。位于同一行的相邻第二亚子像素结构1122的第二阳极1122a也可以采用刻蚀法断开。
一个子像素结构112内的各个第一亚子像素结构1121可以分别携带一个物体的不同视角信息。因而，两列第一亚子像素结构1121相对于一列第一亚子像素结构1121可以携带一个物体的更多角度信息。
当第二亚子像素结构1122与第一亚子像素结构1121分别驱动发光时，一个子像素结构112内的各个第一亚子像素结构1121、与各个第二亚子像素结构1122可以分别携带一个物体的不同视角信息。因而，两列第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122相对于一列第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122可以携带一个物体的更多角度信息。
其它实施例中，两列交替排布的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122中，第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122也可以不呈行排布，在上下方向上错开。
其它实施例中，一个子像素结构112内的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122还可以为三列及其以上。
一个子像素结构112内，位于同一行的相邻第一亚子像素结构1121之间的间隙小于不同子像素结构112的第一亚子像素结构1121之间的距离。一个子像素结构112内，位于同一行的相邻第二亚子像素结构1122之间的间隙小于不同子像素结构112的第二亚子像素结构1122之间的距离。
其它实施例中，第一方向为行方向，子像素结构112包括至少一行交替排布的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122。具体地，子像素结构112可以包括两行或以上数目的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122。
位于同一列的相邻第一亚子像素结构1121之间具有间隙，位于同一列的相邻第二亚子像素结构1122之间也具有间隙。上述间隙可以对应不发光区域。即使人眼距离3D显示组件2之间的距离H很大，由于柱透镜121在第二方向(本实施例对应列方向)上并无放大作用，因而人眼在观测区并无法分辨上述间隙，即上述间隙不会在人眼观测区形成暗区。
位于同一列的相邻第一亚子像素结构1121的第一阳极1121a可以采用刻蚀法断开。位于同一列的相邻第二亚子像素结构1122的第二阳极1122a也可以采用刻蚀法断开。
一个子像素结构112内的各个第一亚子像素结构1121可以分别携带一个物体的不同视角信息。因而，多行第一亚子像素结构1121相对于一行第一亚子像素结构1121可以携带一个物体的更多角度信息。
当第二亚子像素结构1122与第一亚子像素结构1121分别驱动发光时，一个子像素结构112内的各个第一亚子像素结构1121、与各个第二亚子像素结构1122可以分别携带一个物体的不同视角信息。因而，多行第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122相对于一行第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122可以携带一个物体的更多角度信息。
其它实施例中，两行交替排布的第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122中，第一亚子像素结构1121与第二亚子像素结构1122也可以不呈列排布，在左右方向上错开。
需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
在本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本发明的其它实施方案。本发明旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (20)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：背板、位于所述背板上的多个子像素结构以及多个隔断结构；在第一方向上，所述子像素结构包括交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构，所述第一亚子像素结构与所述第二亚子像素结构的发光颜色相同，所述第一亚子像素结构包括第一阳极，所述第二亚子像素结构包括第二阳极，所述第二阳极设置在所述隔断结构远离所述背板的一侧，相邻所述第一阳极被所述隔断结构断开，所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影相互连接，或所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影交叠。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔断结构呈T字形，所述T字形隔断结构包括支撑部与隔断部，所述第二阳极位于所述隔断部远离所述背板的一侧，所述第一阳极位于所述支撑部的两侧。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述支撑部的高度大于所述第一阳极的厚度；和/或
所述隔断部包括悬空区段；在所述第一方向上，所述隔断部的尺寸范围为：40μm～50μm，和/或所述悬空区段的尺寸范围为：1μm～2μm。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一方向为列方向，所述子像素结构包括至少一列交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构；或所述第一方向为行方向，所述子像素结构包括至少一行交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一方向为列方向，所述子像素结构包括至少两列交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述子像素结构包括：至少两行至少两列交替排布的第一亚子像素结构，与至少一行至少两列交替排布的第二亚子像素结构；位于同一行的相邻所述第一亚子像素结构之间与位于同一行的相邻所述第二亚子像素结构之间都具有间隙。
7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一方向为行方向，所述子像素结构包括至少两行交替排布的第一亚子像素结构与第二亚子像素结构。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述子像素结构包括：至少两行至少两列交替排布的第一亚子像素结构，与至少两行至少一列交替排布的第二亚子像素结构；位于同一列的相邻所述第一亚子像素结构之间与位于同一列的相邻所述第二亚子像素结构之间都具有间隙。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述第一方向上，所述第二阳极的宽度与所述第一阳极的宽度相同。
10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，第二方向垂直于所述第一方向，在所述第二方向上，所述第二阳极的长度范围为：40μm～50μm，在所述第一方向上，所述第二阳极的宽度范围为：10μm～20μm；和/或在所述第二方向上，所述第一阳极的长度范围为：40μm～50μm，在所述第一方向上，所述第一阳极的宽度范围为：10μm～20μm。
11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在第一方向上，各个所述第一阳极连接各自的像素驱动电路，用于提供一个物体的不同视角信息；一个所述第二阳极与相邻的所述第一阳极连接到同一像素驱动电路，用于提供一个物体的相同视角信息；或一个所述第二阳极与相邻的所述第一阳极连接到不同像素驱动电路，用于提供一个物体的不同视角信息。
12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述背板上具有像素定义层，所述像素定义层具有多个开口，一个所述开口内具有一个所述子像素结构。
13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，同一所述子像素结构内的所述第一亚子像素结构之间的距离小于不同所述子像素结构的所述第一亚子像素结构之间的距离。
14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一亚子像素结构包括第一阴极，所述第二亚子像素结构包括第二阴极；
在所述第一方向上，所述第一阴极与所述第二阴极连接在一起；或在所述第一方向上，所述第一阴极与所述第二阴极断开，在第二方向上，所述第一阴极与所述第二阴极连接在一起，所述第二方向垂直于所述第一方向。
15.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供背板，所述背板包括交替排布的子像素结构区与非像素结构区；在第一方向上，所述子像素结构区包括交替排布的第一亚子像素结构区与第二亚子像素结构区；
在所述第二亚子像素结构区上形成隔断结构；
在所述第一亚子像素结构区上形成第一亚子像素结构，在所述隔断结构远离所述背板的一侧形成第二亚子像素结构，所述第一亚子像素结构与所述第二亚子像素结构的发光颜色相同，所述第一亚子像素结构包括第一阳极，所述第二亚子像素结构包括第二阳极；所述第一阳极与所述第二阳极在同一工序中形成，所述第二阳极位于所述隔断结构远离所述背板的一侧，相邻所述第一阳极被所述隔断结构断开，所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影相互连接，或所述第一阳极在所述背板上的正投影与所述第二阳极在所述背板上的正投影交叠。
16.根据权利要求15所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述第一亚子像素结构区上形成第一亚子像素结构，与在所述隔断结构远离所述背板的一侧形成第二亚子像素结构包括：
沉积阳极材料层，所述阳极材料层被所述隔断结构隔断，位于所述隔断结构两侧的所述阳极材料层形成第一阳极，位于所述隔断结构上的所述阳极材料层形成第二阳极；
在所述第一阳极、所述第二阳极以及所述非像素结构区上形成像素定义层；在所述像素定义层内形成开口，所述开口暴露所述第一阳极与所述第二阳极；在所述开口内对应形成第一发光块与第二发光块；蒸镀阴极材料层，位于所述第一发光块上的所述阴极材料层形成第一阴极，位于所述第二发光块上的所述阴极材料层形成第二阴极。
17.根据权利要求16所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述背板包括基底以及覆盖于所述基底的平坦化层，所述基底与所述平坦化层之间具有阵列式排布的像素驱动电路，所述像素驱动电路包括晶体管；所述沉积阳极材料层前，在所述平坦化层内形成第一过孔与第二过孔，所述第一过孔暴露待与所述第一阳极连接的所述晶体管的源极或漏极，所述第二过孔暴露待与所述第二阳极连接的所述晶体管的源极或漏极；所述沉积阳极材料层时，所述第一阳极填充所述第一过孔，所述沉积阳极材料层时还形成搭接电极，所述搭接电极填充所述第二过孔，所述搭接电极与所述第二阳极搭接在一起。
18.根据权利要求15所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述形成隔断结构包括：
在所述背板上依次整面形成第一材料层、第二材料层与掩膜层；图形化所述掩膜层形成开口，所述开口暴露所述第一亚子像素结构区与所述非像素结构区；
以所述图形化的掩膜层为掩膜，刻蚀所述第二材料层与所述第一材料层，所述第一材料层的刻蚀速率大于所述第二材料层的刻蚀速率，所述第二亚子像素结构区保留的所述第二材料层与所述第一材料层形成隔断结构。
19.一种3D显示组件，其特征在于，包括：
上述权利要求1至14任一项所述的显示面板；
设置在所述显示面板的出光侧的柱透镜阵列；所述柱透镜阵列的焦平面位于所述多个子像素结构上；所述柱透镜阵列包括多条柱透镜，所述柱透镜的延伸方向垂直所述第一方向。
20.根据权利要求19所述的3D显示组件，其特征在于，一组发光颜色不同的所述子像素结构形成像素结构单元，所述柱透镜阵列中的每条柱透镜沿列方向延伸，一条所述柱透镜对应一列所述像素结构单元，每一所述子像素结构包括多列所述第一亚子像素结构与多列所述第二亚子像素结构；或所述柱透镜阵列中的每条柱透镜沿行方向延伸，一条所述柱透镜对应一行所述像素结构单元，每一所述子像素结构包括多行所述第一亚子像素结构与多行所述第二亚子像素结构。
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