CN113031356B - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种显示面板及其制备方法。所述显示面板包括衬底基板，所述衬底基板上设置有层叠设置的减反层和金属层，所述减反层包括黑化层和过渡层；其中，所述过渡层包括位于所述衬底基板和所述黑化层之间的第一过渡层，所述第一过渡层用于提升所述黑化层与所述衬底基板之间的附着力。本申请通过在显示面板的衬底基板与金属层之间设置一减反层，所述减反层包括黑化层和过渡层，所述黑化层能有效降低显示面板反射率的效果，提升显示品质；所述第一过渡层能够改善所述黑化层和所述衬底基板的附着力不佳的问题，所述第二过渡层能够改善所述黑化层和所述金属层的附着力不佳的问题，从而避免发生所述金属层剥落等不良现象。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
随着市场对无边框产品的需求增长，薄膜晶体管(Thin Film Transistor)侧 朝外的方案有利于提升四边无边框产品的模组良率。但是由于薄膜晶体管的金 属材料一般为铝(Al)、银(Ag)等金属，而铝、银的反射率很高，因而射到金属 区域内的光大多数会被反射，在观看者观看时，反射光进入人眼，这样人眼就 能看到金属结构，从而影响观看效果，降低了显示面板的画质品质。
目前，为了降低显示面板金属区域的反射率，通过在金属表面增加一黑化 层，光射到黑化层后发生光学干涉，从而可以减少反射光，降低反射效率，但 在实际应用中黑化层与玻璃的附着力不佳，在显示面板的制程中可能导致金属 层剥落，从而降低产生良率。
发明内容
本申请提供了一种显示面板及其制备方法，用以提升所述黑化层与上层金 属的附着力，从而避免发生金属层剥落等不良现象。
为实现上述功能，本申请提供的技术方案如下：
一种显示面板，包括：
衬底基板，所述衬底基板上设置有层叠设置的减反层和金属层，所述减反 层包括黑化层和过渡层；
其中，所述过渡层包括位于所述衬底基板和所述黑化层之间的第一过渡层， 所述第一过渡层用于提升所述黑化层与所述衬底基板之间的附着力。
在本申请的显示面板中，所述黑化层的材料包括MoaXbOcNd、MoaXbWc、 MoaXbCc以及AlaObNc中的至少一种；
其中，a、c和d均为大于0的有理数、b为大于等于0的有理数，X为钽、 钒、镍、铌、锆、钨、钛、铼以及铪中的至少一种。
在本申请的显示面板中，所述第一过渡层的材料为金属材料或非金属材料。
在本申请的显示面板中，所述第一过渡层为金属材料，所述第一过渡层的 厚度范围为0～10纳米。
在本申请的显示面板中，所述第一过渡层为非金属材料，所述第一过渡层 的厚度范围为0～100纳米。
在本申请的显示面板中，所述过渡层还包括位于所述黑化层和所述金属层 之间的第二过渡层，所述第二过渡层用于提升所述黑化层与所述金属层之间的 附着力，其中，所述第二过渡层的材料为金属材料，所述第二过渡层的厚度范 围为10纳米～40纳米。
在本申请的显示面板中，所述金属层包括依次层叠设于所述衬底基板上的 第一子金属层和第二子金属层，所述减反层包括第一减反层和第二减反层，其 中，所述第一子金属层和所述第二子金属层之间设置一绝缘层，所述第一减反 层位于所述第一子金属层和所述衬底基板之间，所述第二减反层位于所述第二 子金属层和所述绝缘层之间。
在本申请的显示面板中，所述减反层在所述衬底基板上的投影覆盖所述第 一子金属层和所述第二子金属层在所述底基板上的投影。
本申请害提供一种显示面板的制备方法，包括以下步骤:
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上依次制备减反层、第一子金属层、栅极绝缘层、有源层 以及第二子金属层，所述减反层包括黑化层和过渡层；
其中，所述过渡层包括位于所述衬底基板和所述黑化层之间的第一过渡层， 所述第一过渡层用于提升所述黑化层与所述衬底基板之间的附着力。
在本申请的制备方法中，所述栅极绝缘层的制备步骤包括，在所述栅极上 沉积所述栅极绝缘层，所述沉积温度为300℃～400℃。
本申请的有益效果：本申请通过在显示面板的衬底基板与金属层之间设置 一减反层，所述减反层包括黑化层和过渡层，所述过渡层包括第一过渡层和第 二过渡层，所述第一过渡层位于所述衬底基板和所述黑化层之间，所述第二过 渡层位于所述黑化层和所述金属层之间，所述黑化层能有效降低显示面板反射 率的效果，提升显示品质，所述第一过渡层能够改善所述黑化层和所述衬底基 板的附着力不佳的问题，所述第二过渡层能够改善所述黑化层和所述金属层的 附着力不佳的问题，从而避免发生所述金属层剥落等不良现象。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所 需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请 的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还 可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有显示面板的结构示意图；
图2为本申请提供的显示面板的第一种结构示意图；
图3为本申请实施例所提供的显示面板的第一种结构示意图；
图4为本申请提供的显示面板的第二种结构示意图；
图5为本申请实施例所提供的显示面板的第二种结构示意图；
图6为本申请实施例所提供的显示面板的第三种结构示意图；
图7为本申请实施例所提供的显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清 楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是 全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳 动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理 解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制 本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下” 通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而 “内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
请参阅图1，现有显示面板的结构示意图。
在现有技术中，所述显示面板包括相对设置的阵列基板100和彩膜基板200， 所述阵列基板100包括依次层叠设置的衬底基板10和金属层30，其中，为了降低 所述显示面板金属区域的反射率，通常在金属层30出光面的一侧增加一黑化层 201，光射到所述黑化层201后发生光学干涉，从而可以减少反射光，降低反射 效率；然而，在实际应用中所述黑化层201与所述衬底基板10的附着力不佳，在 显示面板的制程中可能导致所述金属层30剥落，从而降低产生良率。基于此， 本申请提供了一种显示面板及其制备方法，用以解决上述问题。
请参阅图2，本申请提供的显示面板的结构示意图。
本申请提供一显示面板，所述显示面板包括衬底基板10，所述衬底基板10 上层叠设置减反层20和金属层30，所述减反层20包括黑化层201和过渡层；
其中，所述过渡层包括位于所述衬底基板10和所述黑化层201之间的第一过 渡层202，所述第一过渡层202用于提升所述黑化层201与所述衬底基板10之间的 附着力。
本申请通过在显示面板的衬底基板10与金属层30之间设置一减反层20，所 述减反层20包括黑化层201和过渡层，所述黑化层201能有效降低显示面板反射 率的效果，提升显示品质；同时，所述第一过渡层202能提升所述黑化层201与 所述衬底基板10之间的附着力，从而避免发生所述减反层20从所述衬底基板10 上剥落等不良现象。
现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
实施例一
请参阅图3，本申请实施例所提供的显示面板的第一种结构示意图。
本实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括相对设置的第一基板100 和第二基板200，设置于所述第一基板100和第二基板200之间的液晶层300。
在本实施例中，所述第一基板100包括衬底基板10；以及层叠设置于所述衬 底基板10上的减反层20和金属层30。
在本实施例中，所述第一基板100为阵列基板，所述衬底基板10的材料包 括但不限于石英或氧化铝，具体地，所述衬底基板10为石英玻璃基板，所述衬 底基板10可以对所述显示面板的其他膜层结构起到支撑和保护的作用。
在本实施例中，所述金属层30的材料包括但不限于Cu、Mo、Ti、Al、Ni、 Nb、Ta以及Cr中的至少一种。
进一步地，在本实施例中，所述金属层30包括依次层叠于所述衬底基板10 上的第一子金属层31和第二子金属层32，其中，所述减反层20在所述衬底基 板10上的投影覆盖所述第一子金属层31和所述第二子金属层32在所述底基板 上的投影。
在本实施例中，所述第一子金属层31在所述衬底基板10上的投影覆盖所 述第二子金属层32在所属衬底基板10上的投影，其中，所述第一子金属层31 包括栅极，所述第二子金属层32包括源漏极。
请结合图4，在本实施例中，所述减反层20包括黑化层201和过渡层，其 中，所述过渡层包括第一过渡层202和第二过渡层203，其中，所述第一过渡层 202位于所述衬底基板10和所述黑化层201之间，所述第一过渡层202用于提 升所述黑化层201与所述衬底基板10之间的附着力；所述第二过渡层203位于 所述黑化层201和所述金属层30之间，所述第二过渡层203用于提升所述黑化 层201与所述金属层30之间的附着力。
本实施例通过在所述衬底基板10与所述金属层30之间设置一减反层20，所 述减反层20包括黑化层201和过渡层，所述黑化层201能有效降低显示面板反射 率的效果，提升显示品质；同时，所述第一过渡层202能提升所述黑化层201与 所述衬底基板10之间的附着力，所述第二过渡层203能提升所述黑化层201与所 述金属层30之间的附着力，从而避免发生所述金属层30剥落等不良现象。
进一步地，在本实施例中，所述黑化层201的材料包括MoaXbOcNd、 MoaXbWc、MoaXbCc以及AlaObNc中的至少一种；a、c和d均为大于0的有理数、b 为大于等于0的有理数，X为钽、钒、镍、铌、锆、钨、钛、铼以及铪中的至少 一种；其中，所述黑化层201与所述金属层30的折射率不同，从而对反射光产生 干涉。
具体地，所述黑化层201的材料中X的质量百分比为5％～25％，本实施例通 过限制所述黑化层201的材料中X的质量百分比，从而增加所述黑化层201的附着 力，进而避免发生所述金属层30剥落等不良现象。
需要说明的是，所述黑化层201可以直接选择对应的基材通过沉积方式形 成，也可以直接选择金属或金属合金的基材，然后在沉积制程时通入氧气或氮 气或CO2制备而成；其中，沉积方式包括但不限于物理气相沉积(PVD，Physical Vapor Deposition)。
在本实施例中，所述黑化层201的厚度范围为30纳米～100纳米，进一步地， 所述黑化层201的厚度范围为40纳米～80纳米。
在本实施例中，所述第一过渡层202的材料为金属材料或非金属材料。
进一步地，在本实施例中，所述第一过渡层202的材料为金属材料，所述第 一过渡层202的材料包括但不限于Mo、Al以及MoTi中至少一种，所述第一过渡 层202的厚度范围为0～10纳米。
可选的，所述第一过渡层202的材料为非金属材，所述第一过渡层202的材 料包括但不限于SiNx、SiOx以及SiOxNy中至少一种，所述第一过渡层202的厚度 范围为0～100纳米。
需要说明的是，本实施例对所述第一过渡层202的材料和所述第一过渡层 202的厚度不做进一步限制。
在本实施例中，所述第二过渡层203的材料为金属材料，所述第二过渡层203 的材料包括Mo、Al以及MoTi中至少一种，所述第二过渡层203的厚度范围为10 纳米～40纳米。
需要说明的是，本实施例对所述第二过渡层203的材料和所述第二过渡层 203的厚度不做进一步限制。
可以理解的是，所述第一过渡层202和所述第二过渡层203的材料可以相同 也可以不同，在本实施例对此不做具体限制。
在本实施例中，限制所述第一过渡层202和所述第二过渡层203的厚度，优 选所述黑化层201的厚度范围为40纳米～80纳米，可以更好的降低显示面板反射 率的效果，提升显示品质。
在本实施例中，所述显示面板还包括位于所述第一子金属层31上的绝缘层 40、位于所述绝缘层40上的有源层50、位于所述第二子金属层32上的钝化层60、 位于所述钝化层60上的像素定义层70以及位于所述像素定义层70上的发光层 80；其中，所述第二子金属层32位于所述有源层50的源极接触区和漏极接触区 (图中未标出)。
进一步的，所述绝缘层40为栅极绝缘层，所述绝缘层40位于所述第一子金 属层31和所述第二子金属层32之间。
在本实施例中，所述发光层80包括阵列排布的多个子像素800，所述像素 定义层70具有多个开口700，所述子像素800填入所述像素定义层70的开口 700内；所述子像素800包括但不限于红色子像素(R)、绿色子像素(G)以及蓝 色子像素(B)，所述子像素800与所述像素定义层70的开口700一一对应，进 一步地，在本实施例中，所述显示面板的出光方向为第一预设方向，即此时所 述第一基板10朝向外侧，也即所述第一基板10靠近观察者，具体请参阅图3， 在图3中，所述第一预设方向用X表示。
可以理解的是，在本实施例中，所述减反层20与所述第一子金属层31可 以为一体成型结构，从而减少所述显示面板制备方法的工艺流程，提高制备效 率。当然，所述减反层20与所述第一子金属层31也可以单独成型。
具体地，所述减反层20与所述第一子金属层31为一体成型结构。需要说 明的是，在本实施例中，所述减反层20与所述第一子金属层31为一体成型结 构仅用作举例说明，本实施例对此不做进一步限制。
本实施例通过在显示面板的衬底基板10与金属层30之间设置一减反层20， 所述减反层20包括黑化层201和过渡层，所述黑化层201能有效降低显示面板 反射率的效果，提升显示品质；所述过渡层包括第一过渡层202和第二过渡层 203，所述第一过渡层202能够改善所述黑化层201和所述衬底基板10的附着 力不佳的问题，所述第二过渡层203能够改善所述黑化层201和所述金属层30 的附着力不佳的问题，从而避免发生所述金属层30剥落等不良现象。
请参阅图5，本申请实施例所提供的显示面板的第二种结构示意图。
在本实施例中，所述显示面板的结构与上述实施例所提供的显示面板的第 一种结构相似/相同，具体请参照上述实施例中的显示面板的描述，此处不再赘 述，两者的区别仅在于：
在本实施例中，所述减反层20包括层叠设置的第一减反层21和第二减反 层22，所述第一减反层21位于所述第一子金属层31和所述衬底基板10之间， 所述第二减反层22位于所述第二子金属层32和所述绝缘层40之间。
具体地，所述第一减反层21与所述第一子金属层31相接触，所述第二减 反层22与所述第二子金属层32相接触。
在本实施例中，所述第一减反层21在所述衬底基板10上的投影覆盖所述 第一子金属层31在所述衬底基板10上的投影，所述第二减反层22在所述衬底 基板10上的投影覆盖所述第二子金属层32在所述衬底基板10上的投影。
在本实施例中，所述第一减反层21包括层叠设置的第一子过渡层(图中未 标出)、第一子黑化层(图中未标出)以及第二子过渡层(图中未标出)，其 中，所述第一子过渡层位于所述衬底基板10和所述第一子黑化层之间，从而能 够改善所述第一子黑化层和所述衬底基板的附着力不佳的问题，进而避免发生 所述金属层30剥落等不良现象。
所述第二减反层22包括层叠设置的第二子黑化层(图中未标出)和第三子 过渡层(图中未标出)，其中，所述第三子过渡层位于所述第二子黑化层和所 述第二子金属层32之间，从而能够改善所述第二子黑化层和所述第二子金属层 32的附着力不佳的问题，进而避免发生所述金属层30剥落等不良现象。
可以理解的是，在本实施例中，所述第一减反层21与所述第一子金属层31 可以为一体成型结构，从而减少所述显示面板制备方法的工艺流程，提高制备 效率。当然，所述第一减反层21与所述第一子金属层31也可以单独成型。
具体地，所述第一减反层21与所述第一子金属层31为一体成型结构。需 要说明的是，在本实施例中，所述第一减反层21与所述第一子金属层31为一 体成型结构仅用作举例说明，本实施例对此不做进一步限制。
请参阅图6，本申请实施例所提供的显示面板的第三种结构示意图。
在本实施例中，所述显示面板的结构与上述实施例所提供的显示面板的第 一种结构相似/相同，具体请参照上述实施例中的显示面板的描述，此处不再赘 述，两者的区别仅在于：
在本实施例中，所述显示面板还包括位于所述减反层20和所述第一子金属 层31之间的第二金属层91和绝缘层92，所述绝缘层92位于所述第二金属层 91和所述第一子金属层31之间。
在本实施例中，所述第二金属层91所述衬底基板10上的投影覆盖所述第 一子金属层31和所述第二子金属层32在所述底基板10上的投影，所述减反层 20在所述衬底基板10上的投影覆盖所述第二金属层91所述衬底基板10上的投 影。
需要说明的是，在本实施例中，所述减反层20与所述第一子金属层31为 单独成型，因此所述减反层20所能起到的降低显示面板反射率的效果不佳，因 此在所述减反层20与所述第一子金属层31之间设置所述第二金属层91，从而 提升所述减反层20的能有效降低显示面板反射率的效果，进而提升显示面板的 显示品质。
实施例二
请参阅图7，本申请实施例所提供的显示面板的制备方法的流程图。
本实施例提供一种显示面板的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
S10：提供一衬底基板10，所述衬底基板10的材料包括但不限于石英或氧 化铝，具体地，所述衬底基板10为石英玻璃基板。
S20：在所述衬底基板10上依次制备减反层20、第一子金属层31、栅极绝 缘层40、有源层50以及第二子金属层32，所述减反层20包括黑化层201和过 渡层。
其中，所述过渡层包括位于所述衬底基板10和所述黑化层201之间的第一 过渡层202，所述第一过渡层202用于提升所述黑化层与所述衬底基板之间的附 着力。
进一步地，所述过渡层还包括位于所述黑化层201和所述金属层30之间的 第二过渡层203，具体地，所述第二过渡层203位于所述黑化层201和所述第一 子金属层31之间。
在所述步骤S20中，所述栅极绝缘层40的制备步骤包括，在所述第一子金 属层31上沉积所述栅极绝缘层40，所述沉积温度为300℃～400℃，优选的， 所述沉积温度为300℃～360℃，本实施例通过控制所述栅极绝缘层40的沉积温 度，可以提升所述黑化层201与所述衬底基板10之间的附着力，从而能够改善 所述第一子黑化层和所述衬底基板的附着力不佳的问题，进而避免发生所述金 属层30剥落等不良现象。
在本实施例中，所述黑化层201的材料包括MoaXbOcNd、MoaXbWc、MoaXbCc以及AlaObNc中的至少一种；a、c和d均为大于0的有理数、b为大于等于0的有理 数，X为钽、钒、镍、铌、锆、钨、钛、铼以及铪中的至少一种；其中，所述黑 化层201与所述金属层30的折射率不同，从而对反射光产生干涉。
具体地，所述黑化层201的材料中X的质量百分比为5％～25％，本实施例 通过限制所述黑化层201的材料中X的质量百分比，从而增加所述黑化层201 的附着力，进而避免发生所述金属层30剥落等不良现象。
需要说明的是，所述黑化层201可以直接选择对应的基材通过沉积方式形 成，也可以直接选择金属或金属合金的基材，然后在沉积制程时通入氧气或氮 气或CO2制备而成；其中，沉积方式包括但不限于物理气相沉积(PVD，Physical Vapor Deposition)，此外，其它各功能层的制作方式(如采用涂布、蚀刻、曝光 显影等工艺方式)均为现有技术，在此不再赘述。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详 述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介 绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施 例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的 技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处， 综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (6)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底基板，所述衬底基板上设置有层叠设置的减反层和金属层，所述减反层包括黑化层和过渡层；
其中，所述过渡层包括位于所述衬底基板和所述黑化层之间的第一过渡层，所述第一过渡层用于提升所述黑化层与所述衬底基板之间的附着力；所述金属层包括依次层叠设于所述衬底基板上的第一子金属层和第二子金属层，所述显示面板还包括位于所述减反层和所述第一子金属层之间的第二金属层和绝缘层，所述绝缘层位于所述第二金属层和所述第一子金属层之间；所述第二金属层在所述衬底基板上的投影覆盖所述第一子金属层和所述第二子金属层在所述衬底基板上的投影，所述减反层在所述衬底基板上的投影覆盖所述第二金属层在所述衬底基板上的投影，所述黑化层的材料包括MoaXbOcNd、MoaXbWc、MoaXbCc以及AlaObNc中的至少一种；其中，a、c和d均为大于0的有理数、b为大于等于0的有理数，X为钽、钒、镍、铌、锆、钨、钛、铼以及铪中的至少一种，所述黑化层的材料中X的质量百分比为5%~25%。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一过渡层的材料为金属材料或非金属材料。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一过渡层为金属材料，所述第一过渡层的厚度范围为0～10纳米。
4.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一过渡层为非金属材料，所述第一过渡层的厚度范围为0～100纳米。
5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上依次制备减反层、第一子金属层、栅极绝缘层、有源层以及第二子金属层，所述减反层包括黑化层和过渡层；
其中，所述过渡层包括位于所述衬底基板和所述黑化层之间的第一过渡层，所述第一过渡层用于提升所述黑化层与所述衬底基板之间的附着力；所述金属层包括依次层叠设于所述衬底基板上的第一子金属层和第二子金属层，所述显示面板还包括位于所述减反层和所述第一子金属层之间的第二金属层和绝缘层，所述绝缘层位于所述第二金属层和所述第一子金属层之间；所述第二金属层在所述衬底基板上的投影覆盖所述第一子金属层和所述第二子金属层在所述衬底基板上的投影，所述减反层在所述衬底基板上的投影覆盖所述第二金属层在所述衬底基板上的投影，所述黑化层的材料包括MoaXbOcNd、MoaXbWc、MoaXbCc以及AlaObNc中的至少一种；其中，a、c和d均为大于0的有理数、b为大于等于0的有理数，X为钽、钒、镍、铌、锆、钨、钛、铼以及铪中的至少一种，所述黑化层的材料中X的质量百分比为5%~25%。
6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述栅极绝缘层的制备步骤包括，在所述第一子金属层上沉积所述栅极绝缘层，所述沉积温度为300℃～400℃。
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