CN112997009A - 流体交换设备以及相关控制装置、系统和方法 - Google Patents

流体交换设备以及相关控制装置、系统和方法 Download PDF

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斯科特·贾奇
尼尔·哈夫里拉
内森·特威利格
克里斯托弗·沙格斯
A·K·内科格鲁
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Abstract

压力交换设备、系统和相关方法可以包括罐、活塞、阀设备以及用于监测活塞在罐中的位置的一个或更多个传感器。

Description

流体交换设备以及相关控制装置、系统和方法
优先权益
本申请要求于2018年11月9日提交的序列号为62/758,366的美国临时专利申请“Fluid Exchange Devices and Related Controls,Systems,and Methods(流体交换设备以及相关控制装置、系统和方法)”的权益，其公开内容通过引用全部并入本文。
技术领域
本公开内容大体涉及交换设备。更具体地，本公开内容的实施方式涉及流体交换设备以及系统和方法，该设备用于在流体之间交换特性(例如，压力)中的一种或更多种。
背景技术
工业过程往往涉及液压系统，其包括泵、阀、叶轮等。泵、阀和叶轮可以用于控制在液压过程中使用的流体的流。例如，一些泵可以用于增加(例如，增压)液压系统中的压力，其他泵可以用于将流体从一个位置移动到另一位置。一些液压系统包括阀，以控制流体的流向。阀可以包括控制阀、球阀、闸阀、截止阀、止回阀、隔离阀、它们的组合等。
一些工业过程涉及使用腐蚀性流体、磨蚀性流体和/或酸性流体。这些类型的流体可能会增加液压系统的部件上的磨损量。增加的磨损可能导致增加的维护和修理成本，或者需要提前更换器材。例如，磨蚀性、腐蚀性或酸性流体可能会增加泵的内部部件诸如叶轮、轴、叶片、喷嘴等上的磨损。一些泵是可修复的，并且操作可能会选择更换磨损零件来修复磨损泵，这可能会造成磨损泵的停机时间延长，从而造成需要冗余泵或造成生产力下降。其他操作可以更换磨损泵，费用较高但停机时间减少。
石油和天然气行业中的完井作业往往涉及液压压裂(往往被称为压裂或致裂)，以增加岩层中石油和天然气的释放。液压压裂涉及在高压下将含有水、化学物质和支撑剂(例如沙子、陶瓷)的组合的流体(例如致裂流体、压裂流体等)泵送到井中。流体的高压增加了裂缝的大小和裂缝在岩层中的传播，释放出更多的石油和天然气，而支撑剂则在流体减压后防止裂缝闭合。压裂作业使用高压泵来增加压裂流体的压力。然而，压裂流体中的支撑剂由于其磨蚀性增加了高压泵的磨损和维护，并基本上降低了高压泵的运行寿命。
发明内容
不同的实施方式可以包括用于在流体之间交换压力的设备。该设备可以包括至少一个罐、至少一个活塞、阀设备和至少一个传感器。罐可以包括：第一侧(例如，清洁侧)，用于接收处于较高压力的第一流体(例如，清洁流体)；和第二侧(例如，污浊侧)，用于接收处于较低压力的第二流体(例如，井下流体、压裂流体、钻探流体)。活塞可以在罐内。活塞可以被配置为将清洁流体与井下流体分离。阀设备可以被配置为通过活塞选择性地将处于较高压力的清洁流体与处于较低压力的井下流体连通，以将井下流体加压至第二较高压力。传感器可以被配置为检测活塞的存在。
另一实施方式可以包括用于在流体之间交换至少一种特性的设备。该设备可以包括至少一个罐、至少一个活塞、阀设备和至少一个传感器。罐可以包括用于接收具有第一特性的清洁流体的第一端部和用于接收具有第二特性的污浊流体的第二端部。活塞可以在罐内。活塞可以被配置为将清洁流体与污浊流体分离。阀设备可以被配置为通过活塞选择性地将清洁流体与污浊流体连通，以将清洁流体的第一特性转移到污浊流体，传感器可以被配置为检测活塞的位置。
另一实施方式可以包括用于在至少两个流体流之间交换压力的系统。该系统可以包括如上所述的压力交换设备和用于向压力交换设备供应清洁流体的至少一个泵。
另一实施方式可以包括控制压力交换设备的方法。该方法可以包括向阀的高压进口供应高压流体，该高压进口被配置为将高压流体的流引导至腔室。可以通过腔室中的活塞，将压力从高压流体转移到污浊流体。可以检测活塞的位置。阀的位置可以响应于活塞的位置而改变。通过改变阀的位置，可以重新引导高压流体的流。
附图说明
尽管本说明书随附有特别地指出且明确要求保护被视为本公开内容的实施方式的权利要求书，但根据结合附图阅读时本公开内容的实施方式的下列描述，可以更容易地确定本公开内容的实施方式的不同特征和优点，在附图中：
图1是根据本公开内容的一实施方式的液压压裂系统的示意图；
图2是根据本公开内容的一实施方式的流体交换器设备的截面图；
图3A是根据本公开内容的一实施方式的、处于第一位置的控制阀的截面图；
图3B是根据本公开内容的一实施方式的、处于第二位置的控制阀的截面图；
图4A是根据本公开内容的一实施方式的、处于第一位置的腔室的截面图；
图4B是根据本公开内容的一实施方式的、处于第二位置的腔室的截面图；
图4C是根据本公开内容的一实施方式的、处于第三位置的腔室的截面图；
图4D是根据本公开内容的一实施方式的、处于第四位置的腔室的截面图；以及
图5是用于根据本公开内容的流体交换器的一实施方式的控制过程的流程图。
具体实施方式
本文呈现的图示并不意指是任何特定流体交换器或其部件的实际视图，而仅是被采用以描述例示性实施方式的理想化表述。附图不一定是按比例绘制的。附图之间共有的元件可以保留相同的附图标记。
如本文所使用的，关系术语诸如“第一”、“第二”、“顶部”、“底部”等通常是为了清楚且方便地理解本公开内容和附图，并不意指或取决于任何特定的偏好、定向或顺序，除非上下文另有明确指出。
如本文所使用的，术语“和/或”意指并包括一个或更多个相关联的所列项目的任何和所有组合。
如本文所使用的，术语“竖向”和“侧向”是指附图中所描述的定向。
如本文所使用的，涉及给定参数的术语“基本上”或“约”意指并包括在一定程度上本领域技术人员将理解的给定的参数、特性或状况符合较小变化程度，诸如在可接受的制造公差内。例如，基本上符合的参数可以是至少90％符合、至少95％符合、至少99％符合、或者甚至100％符合。
如本文所使用的，术语“流体”可以意指并包括任何类型和成分的流体。流体可以采取液体形式、气体形式或它们的组合，并且在一些情况下可以包括一些固体材料。在一些实施方式中，流体可以在如本文所述的冷却或加热过程期间在液体形式和气体形式之间转换。在一些实施方式中，术语流体包括气体、液体和/或液体与固体的可泵送混合物。
本公开内容的实施方式可以涉及能够用于在流体之间交换一个或更多种特性的交换设备(例如，压力交换器)。这样的交换器(例如，压力交换器)有时被称为“流动功交换器”或“等压设备”，并且是用于将压力能量从相对高压流动的流体系统交换到相对低压流动的流体系统的机器。
在一些工业过程中，在操作的某些部分中需要升高压力以达到预期的结果，之后经加压的流体被减压。在其他过程中，在过程中使用的一些流体在高压下可用，而其他流体在低压下可用，并且期望在这两个流体之间交换压力能量。因此，在一些应用中，如果可以在两个流体之间有效地转移压力，就可以实现经济上的极大改善。
在一些实施方式中，本文公开的交换器可能类似于并包括在1998年8月25日颁发的Shumway的美国专利5,797,429中公开的压力交换器的不同部件和配置，该专利的公开内容通过引用全部并入本文。
尽管本公开内容的一些实施方式被描述为作为两个或更多个流体之间的压力交换器被使用和被采用，但本领域技术人员将理解的是，本公开内容的实施方式可以用于其他实现方式，诸如例如，在一个或更多个流体和/或两个或更多个流体的混合物之间交换其他特性(例如，温度、密度等)和/或成分。
在一些实施方式中，压力交换器可以用于在流体——该流体有可能损坏移动部件(例如，磨蚀性流体、腐蚀性流体、酸性流体等)——需要高压的过程中保护移动部件(例如，泵、阀、叶轮等)。
例如，根据本公开内容的实施方式的压力交换设备可以在与烃有关的过程诸如液压压裂或其他钻探作业(例如，地下井下钻探作业)中实施。
如上所述，石油和天然气行业中的完井作业往往涉及液压压裂、钻探作业、或使用高压泵来增加井下流体(例如，意在被引导到地下地层或井眼中的流体，诸如压裂流体、钻探流体、钻探泥浆)的压力的其他井下作业。这些流体中产生泥浆的支撑剂、化学物质、添加剂等往往会增加高压泵的磨损和维护。
在一些实施方式中，液压压裂系统可以包括液压能量转移系统，该液压能量转移系统在第一流体(例如，清洁流体，诸如部分(例如，大部分)或基本上不含支撑剂的流体或压力交换流体)和第二流体(例如，压裂流体，诸如含支撑剂的流体、磨蚀性流体或污浊流体)之间转移压力。这样的系统可以至少部分地(例如，基本上、主要地、完全地)将高压第一流体与第二污浊流体隔离，同时仍然能够用高压第一流体对第二污浊流体进行加压，而不必使第二污浊流体直接经过泵或其他加压设备。
尽管本文讨论的一些实施方式可能针对压裂作业，但在另外的实施方式中，本文所公开的交换器系统和设备可以用于其他作业。例如，本文所公开的设备、系统和/或方法可以用于其他井下作业，诸如例如，井下钻探作业。
图1例示了液压压裂系统100的一实施方式的系统图，该液压压裂系统利用了在第一流体流(例如，清洁流体流)和第二流体流(例如，压裂流体流)之间的压力交换器。尽管没有明确描述，但应该理解的是，系统100的每个部件可以直接连接到或通过流体导管(例如，管道)耦接到相邻的(例如，上游或下游)部件。液压压裂系统100可以包括用于对第一流体流加压的一个或更多个设备，诸如例如，压裂泵102(例如，往复泵、离心泵、涡旋泵等)。系统100可以包括多个压裂泵102，诸如至少两个压裂泵102、至少四个压裂泵102、至少十个压裂泵102、至少十六个压裂泵、或至少二十个压裂泵102。在一些实施方式中，压裂泵102可以在高压下向压力交换器104提供来自流体源101的相对且基本上清洁的流体。在一些实施方式中，流体可以分别提供给每个泵102(例如，处于并行配置)。在泵102中加压后，高压清洁流体110可以被合并，并被传输到压力交换器104(例如，处于串行配置)。
如本文所使用的，“清洁”流体可以描述至少部分地或基本上没有(例如，基本上完全没有或完全没有)通常在井下流体中发现的化学物质和/或支撑剂的流体，以及“污浊”流体可以描述至少部分地含有通常在井下流体中发现的化学物质、其他添加剂和/或支撑剂的流体。
压力交换器104可以将压力从高压清洁流体110传输到低压压裂流体(例如，压裂流体112)，以提供高压压裂流体116。清洁流体在将压力传输给低压压裂流体112之后可以作为低压流体114从压力交换器104排出。在一些实施方式中，低压流体114可以是除了少量可能在压力交换器104中从压裂流体112传到低压流体114的化学物质和/或支撑剂之外，基本上没有化学物质和/或支撑剂的至少部分地或基本上清洁的流体。
在一些实施方式中，压力交换器104可以包括一个或更多个压力交换器设备(例如，并行运行)。在这样的配置中，高压输入可以被分离并提供给压力交换器设备中每一者的输入端。当高压压裂流体离开压力交换器104时，压力交换器设备中的每一者的输出可以被合并。例如，且如下面参考图4所讨论的，压力交换器104可以包括并行运行的两个或更多个(例如，三个)压力交换器设备。如所示的，压力交换器104可以设置在可以相对容易地安装于压裂井现场和从压裂井现场移除的移动平台(例如，卡车拖车)上。
低压清洁流体114在从压力交换器104排出后可以行进至混合腔室106(例如，掺合器单元、混合单元等)并被收集在其中。在一些实施方式中，低压流体114可以在混合腔室106中被转换(例如，修改、转变等)为低压压裂流体112。例如，可以在混合腔室106中向低压清洁流体114添加支撑剂，以形成低压压裂流体112。在一些实施方式中，低压清洁流体114可以作为废弃物排出。
在许多液压压裂作业中，在压裂流体112被排放到井下之前，可以使用单独的过程来加热压裂流体112(例如，以确保压裂流体中支撑剂的适当混配)。在一些实施方式中，使用低压清洁流体114来生产压裂流体112可以省去加热压裂流体的步骤。例如，由于压裂泵102对高压清洁流体110进行加压，低压清洁流体114可能已经处于升高的温度。在将已经被泵102加热的高压清洁流体110中的压力转移后，现在的低压清洁流体114在从压力交换器104传到混合腔室106时保留了至少一部分热能。在一些实施方式中，使用已经处于升高的温度的低压清洁流体114来产生压裂流体可以省去对压裂流体加热的步骤。在其他实施方式中，低压清洁流体114的升高的温度可能会造成压裂流体所需加热量的减少。
在支撑剂被添加到低压流体114，现在是压裂流体之后，低压压裂流体112可以从混合腔室106中被排出。然后，低压压裂流体112可以通过连接(例如，耦接)在混合腔室106和压力交换器104之间的流体导管108在压裂流体端部上进入压力交换器104。进入压力交换器104后，低压压裂流体112可以被通过压力交换器104从高压清洁流体110传输的压力加压。然后，高压压裂流体116可以离开压力交换器104并被传输到井下。
液压压裂系统通常需要用于高压压裂流体116的高操作压力。在一些实施方式中，高压压裂流体116的期望压力可以在约8,000PSI(55,158kPa)至约12,000PSI(82,737kPa)之间，诸如在约9,000PSI(62,052kPa)至约11,000PSI(75,842kPa)之间，或者为约10,000PSI(68,947kPa)。
在一些实施方式中，高压清洁流体110可以被加压到的压力至少基本上相同或略大于高压压裂流体116的期望压力。例如，高压清洁流体110可以被加压到比高压压裂流体116的期望压力高约0PSI(0kPa)至约1000PSI(6,894kPa)之间，诸如比期望压力高约200PSI(1,379kPa)至约700PSI(4,826kPa)之间，或者比期望压力高约400PSI(2,758kPa)至约600PSI(4,137kPa)之间，以考虑到压力和交换过程期间的任何压力损失。
图2例示了压力交换器200的一实施方式。压力交换器200可以是线性压力交换器，就其是通过使致动组件基本上沿着线性路径移动或平移来操作的意义而言。例如，致动组件可以线性移动，以选择性地使低压和高压流体至少部分地连通(例如，间接连通，其中高压流体的压力可以转移到低压流体)，如下文详细讨论的。
线性压力交换器200可以包括一个或更多个(例如，两个)腔室202a、202b(例如，罐、收集器、缸、管、管道等)。腔室202a、202b(例如，并行腔室202a、202b)可以包括活塞204a、204b，活塞被配置为基本上维持高压清洁流体210和低压清洁流体214(例如，清洁侧)与高压污浊流体216和低压污浊流体212(例如，污浊侧)分离，同时使相应的流体210、212、214和216之间的压力能够转移。活塞204a、204b的大小(例如，活塞204a、204b的外部直径相对于腔室202a、202b的内部直径)可以被设置成使活塞204a、204b能够行进通过腔室202a、202b，同时使活塞204a、204b周围的流体流最小化。
线性压力交换器200可以包括清洁控制阀206，该清洁控制阀被配置为控制高压清洁流体210和低压清洁流体214的流。腔室202a、202b中的每一者可以包括一个或更多个污浊控制阀207a、207b、208a和208b，污浊控制阀被配置为控制低压污浊流体212和高压污浊流体216的流。
尽管图2的实施方式设想了线性压力交换器200，但其他实施方式可以包括涉及其他机制的其他类型压力交换器，以用于选择性地使低压和高压流体至少部分地连通(例如，转动致动器，如2016年9月6日颁发的美国专利9,435,354中公开的那些，该美国专利的公开内容通过引用全部并入本文等)。
在一些实施方式中，清洁控制阀206可以选择性地允许(例如，输入、放置等)从高压进口端口302提供的高压清洁流体210进入活塞204a的清洁侧220a上的第一腔室202a，该清洁控制阀包括使一个或更多个阻挡件308沿(例如，线性地沿)阀206的本体205移动的致动杆203。高压清洁流体210可以作用在活塞204a上，使活塞204a在朝向活塞204a的污浊侧221a的方向上移动，并压缩第一腔室202a中的污浊流体，以产生高压污浊流体216。高压污浊流体216可以通过污浊排放控制阀208a(例如，出口阀，高压出口)离开第一腔室202a。在基本上相同的时间，低压污浊流体212可以通过污浊填充控制阀207b(例如，进口阀、低压进口)进入第二腔室202b。低压污浊流体212可以作用在活塞204b的污浊侧221b上，使活塞204b在第二腔室202b中在朝向活塞204b的清洁侧220b的方向上移动。当活塞204b在朝向活塞204b的清洁侧220b的方向上移动时，低压清洁流体214可以通过清洁控制阀206排放(例如，排空、排出等)，从而减少第二腔室202b内活塞204b的清洁侧220b上的空间。每个活塞204a、204b移动了相应腔室202a、202b的基本长度(例如，大部分长度)后，压力交换器的一循环(cycle，周期)就完成了(该“循环”可以是活塞204a、204b沿腔室202a、202b的长度在一个方向上移动的半个循环，而完整的循环包括活塞204a、204b沿腔室202a、202b的长度在一个方向上移动，然后在另一方向上移动以返回基本上原来的位置)。在一些实施方式中，只有部分长度可以被利用(例如，在容量减少的情况下)。在一循环完成后，清洁控制阀206的致动杆203可以改变位置，使高压清洁流体210能够进入第二腔室202b，从而将第二腔室202b变为高压腔室且将第一腔室202a变为低压腔室，并重复该过程。
在一些实施方式中，每个腔室202a、202b可以在活塞204a、204b的一侧上具有较高的压力，使活塞在远离较高压力的方向上移动。例如，高压腔室可能经历约8,000PSI(55,158kPa)至约13,000PSI(89,632kPa)之间的压力，其中最高压力在高压清洁流体210中，以使活塞204a、204b移动远离高压清洁流体210，压缩和排放污浊流体，从而产生高压污浊流体216。相对地，低压腔室202a、202b可能经历低得多的压力，其中当前低压腔室202a、202b中的在低压污浊流体212中相对较高的压力仍足以使活塞204a、204b在远离低压污浊流体212的方向上移动，从而排放低压污浊流体214。在一些实施方式中，低压污浊流体212的压力可以在约100PSI(689kPa)至约700PSI(4,826k Pa)之间，例如在约200PSI(1,379kPa)至约500PSI(3,447kPa)之间，或者在约300PSI(2,068kPa)至约400PSI(2,758kPa)之间。
再次参考图1，在一些实施方式中，系统100可以包括可选的设备(例如，泵)，以便在低压污浊流体212被提供到腔室202a、202b中时对其进行加压(例如，加压到适合使活塞204a、204b朝向清洁侧移动的压力水平)。
再次参考图2，如果任何流体从活塞204a、204b旁挤过去(例如，泄漏、漏出等)，一般将倾向于从较高压的流体流向较低压的流体。高压清洁流体210可以被维持处于系统中的最高压力，使得高压清洁流体210一般可以基本上不被污染。低压清洁流体214可以被维持处于系统中的最低压力。因此，低压清洁流体214有可能被低压污浊流体212污染。在一些实施方式中，低压清洁流体214可以用于生产低压污浊流体212，基本上抵消了污染造成的任何损害。同样地，高压清洁流体210对高压污浊流体216的任何污染对高压污浊流体216的影响也将是最小的。
在一些实施方式中，污浊控制阀207a、207b、208a、208b可以是止回阀(例如，瓣阀、逆止阀、回流阀、保持阀或单向阀)。例如，一个或更多个污浊控制阀207a、207b、208a、208b可以是球式止回阀、隔膜式止回阀、摆动式止回阀、倾斜盘式止回阀、拍板阀、截止式止回阀、升降式止回阀、直列式止回阀、鸭嘴阀等。在另外的实施方式中，一个或更多个污浊控制阀207a、207b、208a、208b可以是致动阀(例如，电磁阀、气动阀、液压阀、电子阀等)，其被配置为接收来自控制器的信号并响应于该信号来打开或关闭。
污浊控制阀207a、207b、208a、208b可以被布置为相对的配置，使得当腔室202a、202b处于高压配置时，高压污浊流体打开污浊排放控制阀208a、208b，而腔室202a、202b中的压力使污浊填充控制阀207a、207b保持关闭。例如，污浊排放控制阀208a、208b包括在离开腔室202a、202b的第一方向上打开的止回阀，而污浊填充控制阀207a、207b包括在进入腔室202a、202b的第二相反方向上打开的止回阀。
污浊排放控制阀208a、208b可以连接到下游元件(例如，流体导管、单独或共用的歧管)，使得下游元件中的高压使污浊排放阀208a、208b在处于低压配置的腔室202a、202b中保持关闭。这样的配置使低压污浊流体能够打开污浊填充控制阀207a、207b并进入腔室202a、202b。
图3A和图3B例示了处于两个不同位置的清洁控制阀300的一实施方式的截面图。在一些实施方式中，清洁控制阀300可以类似于上面讨论的控制阀206。清洁控制阀300可以是多端口阀(例如，4通阀、5通阀、
Figure BDA0003056440690000121
阀等)。清洁控制阀300可以具有一个或更多个高压进口端口(例如，一个端口302)、一个或更多个低压出口端口(例如，两个端口304a、304b)和一个或更多个腔室连接端口(例如，两个端口306a、306b)。清洁控制阀300可以包括至少两个阻挡件308(例如，插塞、活塞、盘、阀构件等)。在一些实施方式中，清洁控制阀300可以是线性致动阀。例如，阻挡件308可以被线性致动，使得阻挡件308沿基本上直线(例如，沿清洁控制阀300的纵向轴线L300)移动。
清洁控制阀300可以包括被配置为致动清洁控制阀300的致动器303(例如，与清洁控制阀300的阀杆301耦接的致动器)。在一些实施方式中，致动器303可以是电子的(例如，电磁线圈、齿条和齿轮、滚珠丝杠、分段式主轴、移动式线圈等)、气动的(例如，拉杆式缸，隔膜式致动器等)或液压的。在一些实施方式中，致动器303可以使清洁控制阀300能够以可变速率(例如，改变速度、可调节速度等)移动阀杆301和阻挡件308。
图3A例示了处于第一位置的清洁控制阀300。在第一位置，阻挡件308可以被定位为使得高压清洁流体可以通过高压进口端口302进入清洁控制阀300，并通过腔室连接端口306a离开以进入第一腔室。在第一位置，低压清洁流体可以在腔室连接端口306b和低压出口端口304b之间行进通过清洁控制阀300(例如，可以通过低压出口端口304b离开)。
图3B例示了处于第二位置的清洁控制阀300。在第二位置，阻挡件308可以被定位为使得高压清洁流体可以通过高压进口端口302进入清洁控制阀300，并通过腔室连接端口306b离开以进入第二腔室。低压清洁流体可以在腔室连接端口306a和低压出口端口304a之间行进通过清洁控制阀300(例如，可以通过低压出口端口304a离开)。
现在参考图2、图3A和图3B，清洁控制阀206被例示为处于第一位置，其中高压进口端口302连接至腔室连接端口306a，从而向第一腔室202a提供高压清洁流体。在循环完成后，清洁控制阀206可以将阻挡件308移动到第二位置，从而通过腔室连接端口306b将高压进口端口302连接至第二腔室202b。
在一些实施方式中，清洁控制阀206可以在第一位置和第二位置之间的行程的中间部分处经过基本上完全关闭的位置。例如，在第一位置，阻挡件308可以维持高压进口端口302与腔室连接端口306a之间的流体通路以及腔室连接端口306b与低压出口端口304b之间的流体通路。在第二位置，阻挡件308可以维持高压进口端口302与腔室连接端口306b之间的流体通路以及腔室连接端口306a与低压出口端口304a之间的流体通路。在第一位置和第二位置之间的过渡可能涉及至少基本上关闭两个流体通路，以将腔室连接端口306a的连接从高压进口端口302改变到低压出口端口304a，并将腔室连接端口306b的连接从低压出口端口304b改变到高压进口端口302。流体通路至少可以在行程的中间部分处基本上关闭，以实现连接的改变。
当流体在高压下操作时，打开和关闭阀可能会造成压力脉动(例如，水锤)，该压力脉动在高压突然被引入系统或从系统中移除时可以造成系统中的部件损坏。因此，当流体通路分别关闭和打开时，压力脉动可能发生在行程的中间部分。
在一些实施方式中，致动器303可以被配置为使阻挡件308以可变的速度沿清洁控制阀206的行程移动。当阻挡件308从第一位置移动到第二位置时，阻挡件308可以在穿越行程的第一部分时以高速率移动，该第一部分不涉及将流从高压进口端口302新引入到腔室连接端口306a、306b中。当阻挡件308在行程的中间部分处接近关闭位置时(例如，当阻挡件308在高压进口端口302连接和低压出口端口304a、304b连接之间的过渡期间遮挡腔室连接端口306a、306b时)，阻挡件308可以减速到低速率。在高压进口端口302与腔室连接端口306a、306b之一连通时，阻挡件308可以继续处于较低的速率。在穿越腔室连接端口306a、306b之后，随着阻挡件308接近第二位置，阻挡件308可以加速到另一高速率。行程中间部分处的低速率可以降低清洁控制阀206打开和关闭的速度，使清洁控制阀能够将高压逐渐引入腔室202a、202b中和/或从腔室中逐渐移除高压。
在一些实施方式中，活塞204a、204b的运动可以通过调节以下来控制：流体流的速率(例如，流入流体的速率)，和/或至少部分地随着清洁控制阀206的移动而造成的活塞204a、204b的清洁侧220a、220b与活塞204a、204b的污浊侧221a、221b之间的压力差。在一些实施方式中，可能期望通过操纵低压腔室202a、202b和高压腔室202a、202b的每个腔室中的压力差和/或通过控制流体进出腔室202a、202b的流速，来使低压腔室中的活塞204a、204b与高压腔室中的活塞204a、204b以基本上相同的速度移动。然而，低压腔室202a、202b中的活塞204a、204b可能倾向于以比高压腔室202a、202b中的活塞204a、204b大的速度移动。
在一些实施方式中，可以改变流体流的速率和/或压力差，以控制活塞204a、204b的加速和减速(例如，通过操纵和/或改变清洁控制阀206的行程，和/或通过用一个或更多个泵来操纵流体流中的压力)。例如，当活塞204a、204b在高压行程开始处位于腔室202a、202b的清洁端部224附近时，增加高压清洁流体210的流速和/或压力可以增加腔室202a、202b中的流体流的速率和/或压力差。增加流体流的速率和/或压力差可以使得活塞204a、204b加速到较快的速率或以较快的速率移动。在另一示例中，当活塞204a、204b在高压行程结束处接近腔室202a、202b的污浊端部226时，高压清洁流体210的流速和/或压力可以降低。降低流体流的速率和/或压力差可以使活塞204a、204b在到达相应腔室202a、202b的污浊端部之前减速和/或停止。
可以利用对清洁控制阀206的行程进行类似控制来防止活塞204a、204b行进至腔室202a、202b的清洁端部的最远范围。例如，清洁控制阀206可以在活塞204a、204b接触腔室202a、202b的清洁端部的最远范围之前关闭腔室连接端口306a、306b中的一个，从而防止任何其他流体流并减缓和/或停止活塞204a、204b。在一些实施方式中，清洁控制阀206可以在活塞204a、204b接触腔室202a、202b的清洁端部的最远范围之前打开一个腔室连接端口306a、306b，以与高压进口端口302连通，从而减缓、停止和/或逆转活塞204a、204b的运动。
如果活塞204a、204b到达相应腔室202a、202b的清洁端部224或污浊端部226，高压流体可以绕过活塞204a、204b并与低压流体混合。在一些实施方式中，将流体混合可能是期望的。例如，如果活塞204a、204b在高压行程期间到达相应腔室202a、202b的污浊端部226，高压清洁流体210可以绕过活塞204a、204b(例如，通过在活塞204a、204b周围行进或穿过活塞204a、204b中的阀)，从活塞204a、204b的表面冲洗掉任何残留的污染物。在一些实施方式中，将流体混合可能是不期望的。例如，如果活塞204a、204b在低压行程期间到达相应腔室202a、202b的清洁端部224，低压污浊流体212可以绕过活塞204a、204b并与低压清洁流体混合，使清洁控制阀206中的清洁区域被污浊流体污染。
在一些实施方式中，系统100可以防止活塞204a、204b到达相应腔室202a、202b的清洁端部224。例如，清洁控制阀206可以包括控制设备207(例如，传感器、安全装置、开关等)，以在检测到活塞204a、204b接近相应腔室202a、202b的清洁端部224时触发清洁控制阀206的位置变化，使得系统100可以利用清洁控制阀206来在活塞204a、204b到达腔室202a、202b的清洁端部224之前改变流动路径位置。
在一些实施方式中，系统100可以被配置为使活塞204a、204b能够在高压行程期间到达相应腔室202a、202b的污浊端部226。在一些实施方式中，清洁控制阀206可以包括控制设备207，以在检测到活塞204a、204b接近相应腔室202a、202b的污浊端部226时触发清洁控制阀206的位置变化。在一些实施方式中，控制设备可以被配置为使得直到活塞204a、204b已经到达相应腔室202a、202b的污浊端部226的最远范围时，控制阀206才完成活塞204a、204b的方向改变。在一些实施方式中，控制设备可以包括通过编程延迟或机械延迟的时间延迟，使活塞204a、204b能够到达腔室202a、202b的污浊端部226的最远范围。
在一些实施方式中，系统100可以被配置为使活塞204a、204b能够在高压行程期间到达相应腔室202a、202b的污浊端部226，并防止活塞204a、204b在低压行程期间到达相应腔室202a、202b的清洁端部224。例如，系统100可以驱动活塞204a、204b两者通过相应的腔室202a、202b一选定距离，其中活塞204a、204b与清洁端部224维持一选定距离，该系统同时使活塞204a、204b能够行进以相对地较接近或接触到污浊端部226。在一些实施方式中，系统100可以被配置为使得在低压腔室202a、202b中的流体流速率和/或跨活塞204a、204b的压力差可以小于在高压腔室202a、202b中的流体流速率和/或跨活塞204a、204b的压力差，从而使活塞204a、204b在低压循环期间比在高压循环期间行进得慢。
在一些实施方式中，控制设备207可以被配置为在检测到活塞204a、204b接近相应腔室202a、202b的清洁端部224时触发清洁控制阀206的位置变化，从而使清洁控制阀206可以在活塞204a、204b到达腔室202a、202b的清洁端部224之前改变位置。在一些实施方式中，控制设备207可以被配置为在检测到活塞204a、204b接近相应腔室202a、202b的污浊端部226时触发清洁控制阀206的位置变化。在一些实施方式中，控制设备可以被配置为通过在活塞204a、204b分别接近腔室202a、202b的清洁端部224和污浊端部226时评估这两个活塞，来触发清洁控制阀206的位置变化。例如，控制设备207可以检测到活塞204a、204b接近腔室202a、202b的污浊端部226，并启动计时器(例如，机械计时器、电子计时器、编程时间延迟等)。如果控制设备207在时间触发清洁控制阀206的位置变化之前检测到活塞204a、204b接近腔室202a、202b的清洁端部224，则控制设备207可以取代(override，超越控制、超调、不顾、凌驾、覆盖)计时器并改变清洁控制阀206的位置，以防止活塞204a、204b到达腔室202a、202b的清洁端部224。
在一些实施方式中，自动控制器可以产生信号，该信号可以被传输到清洁控制阀206，引导清洁控制阀206从第一位置移动到第二位置或者从第二位置移动到第一位置(例如，以恒定和/或可变的速率)。
图4A至图4D例示了压力交换器的一部分的一实施方式，该压力交换器包括用于压力交换器的一部分的控制系统400。控制系统400可以包括：腔室402；活塞404；一个或更多个传感器，例如，第一传感器406(例如，传感器、或传感器组件的一部分或元件等)和第二传感器408(例如，传感器、或传感器组件的一部分或元件等)。在一些实施方式中，第一传感器406和第二传感器408可以被配置为通过非接触式传感器(例如，磁传感器、光学传感器、电感式接近传感器、霍尔效应传感器、超声传感器、电容式接近传感器等)来检测活塞404的存在。
在一些实施方式中，一个或更多个传感器406、408可以各自包括多个部件(例如，移动部件，诸如活塞404；以及固定部件，诸如被定位为靠近腔室402或在该腔室上的部件)上的传感器或传感器的一部分。在另外的实施方式中，控制系统400可以包括能够被定位在可移动部件或固定部件(例如，在活塞404的待确定位置的每个位置处)上的唯一一个传感器。例如，传感器可以被定位在可移动活塞404上或在固定部件上(例如，靠近腔室402或在该腔室上)，并且能够检测活塞404的位置(例如，通过感测对应的可移动部件或固定部件的特性)。作为另外的示例，靠近腔室402或在该腔室上的传感器可以基于活塞404的特征或特性(例如，检测活塞404的材料、活塞404的声音、活塞404的流特征、活塞404上的标记等)来检测活塞404的经过。也可以实施相反的配置。
在另外的实施方式中，控制系统400可以包括多个传感器或唯一一个传感器(例如，针对每个腔室402或活塞)。
在另外的实施方式中，第一传感器406和第二传感器408可以使用需要直接接触的传感器(例如，接触件、按钮、开关等)来检测活塞404的存在。在一些实施方式中，第一传感器406和第二传感器408中的一个或更多个可以是包括附加传感器——例如温度传感器、压力传感器、应变传感器、电导传感器等——的组合传感器。
图5例示了图4A至图4D中例示的控制过程500的流程图。在图4A中，控制阀401(例如，控制阀206(图2))可以处于第一位置，见动作502。当控制阀401处于第一位置时，活塞404可以在第一方向上移动，如动作504所示。当活塞接近第二传感器408时，活塞404可以基本上以活塞404的最大速度移动。
在一些实施方式中，活塞404的最大速度可以在约2ft/s(0.609m/s)至约50ft/s(15.24m/s)之间，诸如在约20ft/s(6.096m/s)至约30ft/s(9.144m/s)之间，或者在约25ft/s(7.62m/s)至约35ft/s(10.668m/s)之间。
在图4B中，控制阀401可以维持在第一位置。活塞404可以通过经过(例如，通过、在其前面或接触)第二传感器408来触发第二传感器408(例如，闭合触点、引起电流、产生电压等)，如动作506所示。活塞404的存在可以被传输到控制阀401，如动作508所示。在一些实施方式中，触发可以以电压、触点闭合或电流的形式如线414所示的被直接传输到控制阀401。在一些实施方式中，触发可以由控制器412(例如，主控制器、计算机、监测系统、记录系统等)解译。控制器412可以与控制阀401并联(例如，触发从第二传感器408起在单独的线414、415上被发送至控制器和清洁控制阀206(图2)两者)，或者控制器412和控制阀401可以串联(例如，触发可以在共用线415、416上在到达控制阀401之前经过控制器，或者触发可以在共用线上在到达控制器之前经过控制阀401)。在一些实施方式中，控制器412可以将触发以电压、触点闭合或电流的形式中继至控制阀401。在一些实施方式中，控制阀401可以包括能够接收和转换来自第二传感器408的触发的电路(例如，控制板、计算机、微控制器等)。在一些实施方式中，控制器412可以解译触发，并响应于该触发来向控制阀401提供单独的控制信号。
控制阀401可以响应于触发和/或控制信号而移动到第二位置，如动作510所示。当控制阀401移动到第二位置时，活塞404可以在经过第二传感器408后减慢至停止，如图4C和动作512所示。在一些实施方式中，控制阀401可以在一时间段内从第一位置改变到第二位置。在一些实施方式中，该时间段可以小于5秒、小于3秒诸如约2.5秒、或小于1秒诸如小于约0.5秒、或小于约0.1秒。在控制阀401改变位置所需的时间期间，活塞404可以从最大速度减慢至零速，并在减速的同时行进一距离420(图4B)。距离420可以在约0.5ft(0.1524m)或以下至约12ft(3.6576m)之间，或者在约0.1ft(0.03048m)或以下至约2ft(6.096m)之间。距离420可以由数个因素中的一个或更多个决定，该数个因素包括例如：控制器和/或控制阀401的处理时间，控制阀401改变位置所需的时间，活塞404的最大速度，活塞404的重量，腔室402中流体的可压缩性，活塞404的重量，腔室402中的流速等。
在一些实施方式中，第二传感器408的位置可以通过考虑活塞404减速至停止所需的距离来确定，使得第二传感器408的位置限定了足以使活塞404将不与腔室402的端部壁410接触的距离。在一些实施方式中，第二传感器408的位置可以被确定为使得活塞404可以接触腔室402的端部壁410，并允许来自活塞404的高压侧的流体与活塞404的低压侧上的流体混合。在一些实施方式中，活塞404减速所需的距离可以基于对上述一个或更多个因素的估计来计算。在一些实施方式中，活塞404减速所需的距离可以基于实验(例如，实验室实验、数据记录、试错等)来确定。在一些实施方式中，第二传感器408的位置可以是可调整的，使得第二传感器408的位置可以现场调整以考虑变化中的状况。例如，第二传感器408可以使用可移动配件诸如夹持配件(例如，带夹、耳夹、弹簧夹等)或开槽配件来安装在腔室402的外部。
在一些实施方式中，触发可以控制压力交换系统的其他相关部分的动作。例如，在一些实施方式中，触发可以释放活塞404中的止回阀，从而允许高压清洁流体210(图2)冲刷活塞404的污浊侧221a、b(图2)。
在图4D中，控制阀401可以处于第二位置，如动作514所示。活塞404可以开始在第二方向上加速，如动作516所示。在一些实施方式中，活塞404可以加速到与活塞404之前在第一方向上行进时相同的最大速度。活塞404可以继续以最大速度行进，直到活塞经过第一传感器406。当活塞404经过第一传感器406时，活塞404可以触发第一传感器406，如动作518所示。在一些实施方式中，第一传感器406可以是与第二传感器408相同类型的传感器。在一些实施方式中，第一传感器406可以是与第二传感器408不同类型的传感器。在一些实施方式中，第一传感器406可以将触发传输至控制阀401，如动作520所示。
在一些实施方式中，如上关于第二传感器408所述的，触发可以在线418上被直接传输至控制阀401。在一些实施方式中，控制器412可以在线417上接收触发，并解译该触发和/或将该触发和/或控制信号传输至控制阀401，如上关于第二传感器408所述的。在接收到控制信号或触发后，控制阀401可以开始移动回到第一位置，如动作522所示。当控制阀401从第二位置移动到第一位置时，活塞404可以再次减速至停止，如动作524所示。在控制阀401处于第一位置后，可以从动作502开始新循环。
现在参考图2、图4A至图4D、和图5。在一些实施方式中，清洁控制阀206可以控制一个或更多个活塞404在一个或更多个相应腔室(例如，两个腔室202a、202b)中的移动。在一些实施方式中，一个腔室202a、202b可以被配置为是主腔室。例如，主腔室可以包括第一传感器406和第二传感器408，并控制清洁控制阀206的运动。在一些实施方式中，腔室202a、202b中的每一者可以包括第一传感器406和第二传感器408，例如，其中，每个腔室202a、202b中的传感器406、408被用于不同的或相同的功能。
在一些实施方式中，腔室202a、202b中的每一者中的第一传感器406和第二传感器408中的每一者的状态可以由控制器(例如，控制器412)监测。控制器412可以控制清洁控制阀206。在一些实施方式中，控制器412可以被配置为解译来自传感器406、408中的一些的信号以对清洁控制阀206进行控制确定(例如，指示速度或方向变化)，并解译来自其他传感器406、408的信号以创建活塞204a、204b位置的记录(例如，日志、模型、报告等)。
在一些实施方式中，控制器412可以被配置为在相对腔室202a、202b中的第一传感器406和第二传感器408两者都触发后改变清洁控制阀206的位置。在一些实施方式中，控制器412可以被配置为在腔室202a、202b中的任一者中的活动的第一传感器406或第二传感器408触发后立即改变清洁控制阀206的位置。
在一些实施方式中，每个循环的持续时间可以与系统100的产量相互关联。例如，在每个循环中，压力交换器200可以移动由腔室202a、202b的组合容量限定的特定量的污浊流体。在一些实施方式中，压力交换器200可以移动约40加仑(75.7升)至约90加仑(340.7升)之间，诸如约60加仑(227.1升)至约80加仑(302.8升)之间，或者约65加仑(246.1升)至约75加仑(283.9升)之间。例如，在具有一个或更多个罐(例如两个罐)的系统中，压力交换器200中的每个罐可以移动约40加仑(75.7升)至约90加仑(340.7升)之间(例如，两个约60加仑(227.1升)的罐，每个循环移动约120加仑(454.2升))。
在一些实施方式中，可以通过使用清洁控制阀206改变流体流的速率和/或跨活塞204a、204b的压力差来控制循环的持续时间。例如，可以控制高压清洁流体210的流速和/或压力，使得循环与污浊流体212的期望流速相对应。在一些实施方式中，可以通过控制压裂泵102(图1)的速度(例如，通过变频驱动器(VFD)、节流控制装置等)、通过机械压力控制装置(例如，可变叶片、泄压系统、放气阀等)或者通过改变清洁控制阀206的位置以限制进出腔室202a、202b的流来控制流速和/或压力。例如，控制器412可以改变至清洁控制阀206的控制信号，以维持期望的压力。
在一些实施方式中，最大产量可能是期望的状况，该期望的状况可以使用尽可能最短的循环持续时间。在一些实施方式中，最短的循环持续时间可以由清洁控制阀206、300上的致动器303的速度来限定。在一些实施方式中，循环的最短持续时间可以由高压清洁流体210的最大压力来限定。在一些实施方式中，最短的持续时间可以由清洁控制阀206、300的响应时间来限定。
现在再参考图1和图2。在一些实施方式中，压力交换器104可以由并行操作的多个线性压力交换器200来形成。例如，压力交换器104可以由至少3个线性压力交换器，诸如至少5个线性压力交换器，或至少7个线性压力交换器形成。在一些实施方式中，压力交换器104可以是模块化的，使得可以通过基于流量需求，添加或移除线性压力交换器的部分来改变线性压力交换器200的数量。在一些实施方式中，操作可以包括在区域内操作的多个系统，并且每个相应系统100的压力交换器104可以根据需要通过添加或移除来自相同区域内的其他系统的线性压力交换器来进行调整。
压力交换器可以减少在具有磨蚀性、腐蚀性或酸性流体的系统中高压泵、涡轮机和阀所经历的磨损量。减少的磨损可以允许系统以较少的停机时间运行较长的时间段，从而增加系统的收益或生产力。另外地，由于较少的零件可能被磨损，可以降低维修成本。在高温下使用磨蚀性流体的作业诸如压裂作业中，维修和停机时间可以在一次作业中造成数百万美元的损失。本公开内容的实施方式可以使得在高温下使用磨蚀性、腐蚀性或酸性流体的系统的部件所经历的磨损减少。磨损的减少将使得成本降低且收益产量增加。
尽管本公开内容在本文中已经关于某些例示的实施方式进行了描述，但本领域技术人员将认识到并理解本公开内容并不限于此。而是在不背离权利要求书中所要求保护的包括其法定等同物的公开内容的范围的情况下，可以对例示的实施方式进行许多添加、删除和修改。另外地，来自一个实施方式的特征可以与另一实施方式的特征相结合，同时仍然被包含在本发明人所设想的公开内容的范围内。

Claims (20)

1.一种用于在流体之间交换压力的设备，所述设备包括：
至少一个罐，所述至少一个罐包括：
第一侧，所述第一侧用于接收处于较高压力的第一流体；以及
第二侧，所述第二侧用于接收处于较低压力的第二流体；
在所述至少一个罐中的至少一个活塞，所述至少一个活塞被配置为将所述第一流体与所述第二流体分离；
阀设备，所述阀设备被配置为通过所述至少一个活塞选择性地使处于所述较高压力的所述第一流体与处于所述较低压力的所述第二流体连通，以便将所述第二流体加压到第二较高压力；以及
至少一个传感器，所述至少一个传感器被配置为检测所述至少一个活塞的存在。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一个罐还包括：
至少一个高压出口，所述至少一个高压出口用于从所述至少一个罐输出处于所述第二较高压力的所述第二流体；以及
至少一个低压出口，所述至少一个低压出口用于从所述至少一个罐移除处于第二较低压力的所述第一流体。
3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述阀设备被配置为通过至少一个低压出口来选择性地从所述至少一个罐输出处于第二较低压力的所述第一流体。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其中，所述至少一个传感器被配置为将与所述至少一个活塞的存在有关的信号传输至所述设备的控制系统。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其中，所述阀设备被配置为响应于由所述至少一个传感器检测到所述至少一个活塞的存在，从第一位置改变到第二位置。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，还包括控制器，所述控制器被配置为从所述至少一个传感器接收信号。
7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述控制器被配置为：
从所述至少一个传感器接收所述至少一个活塞的存在；以及
响应于所述至少一个活塞的存在，将控制信号传输至所述阀设备。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其中，所述至少一个传感器包括两个传感器，所述两个传感器中的一个传感器被定位在所述至少一个罐的所述第二侧的端部，所述两个传感器中的另一个传感器被定位在所述至少一个罐的所述第一侧的端部。
9.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其中，所述至少一个罐和所述至少一个活塞包括至少两个罐，每个罐具有定位在其中的相应的活塞。
10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述至少一个传感器包括至少四个传感器，所述至少两个罐中的每个罐包括所述至少四个传感器中的两个传感器，第一传感器被定位在相应罐的第二侧的端部，传感器中的另一传感器被定位在相应罐的第一侧的端部。
11.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其中，所述至少一个罐的所述第一侧被配置为接收包括清洁流体的所述第一流体，所述至少一个罐的所述第二侧被配置为接收包括污浊流体的所述第二流体。
12.一种用于在至少两个流体流之间交换压力的系统，所述系统包括：
用于在流体之间交换至少一种特性的压力交换设备，所述压力交换设备包括：
至少一个罐，所述至少一个罐包括：
第一端部，所述第一端部用于接收具有第一特性的清洁流体；以及
第二端部，所述第二端部用于接收具有第二特性的污浊流体；
在所述至少一个罐中的至少一个活塞，所述至少一个活塞被配置为将所述清洁流体与所述污浊流体分离；
阀设备，所述阀设备被配置为通过所述至少一个活塞选择性地使所述清洁流体与所述污浊流体连通，以便将所述清洁流体的所述第一特性至少部分地转移至所述污浊流体；以及
至少一个传感器，所述至少一个传感器被配置为检测所述至少一个活塞的位置；以及
至少一个泵，所述至少一个泵用于向所述压力交换设备供应所述清洁流体。
13.根据权利要求12所述的系统，还包括至少两个传感器，所述至少两个传感器被配置为检测所述至少一个活塞的存在，其中，第一传感器被定位在所述至少一个罐的所述第一端部附近，第二传感器被定位在所述至少一个罐的所述第二端部附近。
14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述至少两个传感器被配置为各自响应于所述至少一个活塞的位置而向所述阀设备传输信号，所述阀设备被配置为响应于来自所述第一传感器的信号而从第一位置改变至第二位置以及响应于来自所述第二传感器的信号而从所述第二位置改变至所述第一位置。
15.根据权利要求14所述的系统，其中，所述第一传感器被定位成距所述罐的所述第一端部一距离，并且其中，所述距离足以使所述至少一个活塞在到达所述罐的所述第一端部之前响应于所述阀设备从所述第一位置改变至所述第二位置而改变方向。
16.根据权利要求14或权利要求15所述的系统，其中，所述至少一个罐和所述至少一个活塞包括至少两个罐，每个罐具有被定位在相应罐内的相应活塞，并且其中，所述至少两个罐中的每个罐与所述阀设备流体连通。
17.一种控制压力交换设备的方法，所述方法包括：
向阀的高压进口供应高压流体，所述高压进口被配置为将所述高压流体的流引导至腔室；
通过所述腔室中的活塞，将压力从所述高压流体转移到污浊流体；
监测所述活塞的位置；
响应于所述活塞的位置而改变所述阀的位置；以及
通过改变所述阀的位置来重新引导所述高压流体的流。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，监测所述活塞的位置包括：使用至少一个传感器来感测所述活塞在所述腔室内的位置。
19.根据权利要求17或权利要求18所述的方法，还包括：通过重新引导所述高压流体的流来使所述位置的行进方向反向。
20.根据权利要求19所述的方法，还包括：通过改变所述阀的位置来使所述高压流体流入第二腔室。
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