CN112987359A - 显示模组及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示模组及显示装置，该显示模组包括设置于显示面板上且位于显示区内的吸光调节层，吸光调节层包括电极层和吸光层，电极层包括呈间隔设置的多个电极，并且吸光层位于任一相邻两电极之间的电场范围内，从而根据电场强度调节吸光层的吸光强度，对显示画面中出现亮度不均匀的区域进行亮度调节，以达到均匀的显示效果。

Description

显示模组及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示模组及显示装置。

背景技术

液晶显示器(LCD,Liquid Crystal Display)和有机发光二极管(OLED,OrganicLight Emitting Diode)已经被广泛用于显示器件领域。现有的LCD和OLED通常根据视频数据的灰度来控制像素的亮度，包括使用驱动薄膜晶体管(TFT,Thin Film Transistor)控制像素发光的驱动电流，像素的亮度与流经LCD或OLED的驱动电流的大小成比例。优选地，在所有像素中相同地设计驱动TFT的电特性(包括阈值电压、迁移率等)。

然而，实际上，由于制造工艺偏差等原因，各像素的驱动TFT的电特性通常是不同的，而驱动TFT的电特性之间的偏差造成像素之间的亮度偏差，导致了显示面板显示亮度不均的问题。

发明内容

本申请提供一种显示模组及显示装置，能够实现吸光强度的调节，解决现有技术的显示面板中亮度不均的技术问题。

为解决上述技术问题，第一方面，本发明实施例提供了一种显示模组，包括：

显示面板，包括显示区；

吸光调节层，设置于所述显示面板上且位于所述显示区内，所述吸光调节层包括电极层和吸光层，所述电极层包括呈间隔设置的多个电极，任一相邻两所述电极之间形成一电场，所述吸光层位于所述电场范围内，并根据所述电场强度调节吸光强度。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述电极包括至少一个金属网格，所述吸光层设置于所述金属网格上且覆盖所述金属网格。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述吸光层包括多个吸光单元，任一所述吸光单元对应一所述金属网格的开口区设置。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述显示区包括多个子像素区，任一所述金属网格至少围绕一所述子像素区设置。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述显示模组还包括驱动芯片，每一所述电极通过一金属走线与所述驱动芯片连接。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述显示模组还包括设置于所述金属网格与所述显示面板之间的绝缘层，各所述金属走线设置于所述绝缘层远离所述金属网格的一侧，所述绝缘层上设置有多个过孔，每一所述金属走线一端穿过一所述过孔与所述金属网格连接，另一端与所述驱动芯片连接。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述吸光层为掺杂Ag的BaO薄膜。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述吸光层的厚度为1-100纳米。

根据本发明实施例所提供的显示模组，所述电极层为触控层，所述电极为触控电极。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括第一方面所述的显示模组。

本申请的有益效果在于，本申请的显示模组及显示装置包括设置于显示面板上且位于显示区内的吸光调节层，该吸光调节层包括电极层和吸光层，该电极层包括呈间隔设置的多个电极，并且吸光层位于任一相邻两各电极之间的电场范围内，从而根据电场强度调节吸光强度，对显示画面中出现亮度不均匀的区域进行亮度调节，使得过暗的区域变亮，过亮的区域变暗，以达到均匀的显示效果。另外，本申请通过将电极层复用为触控层，简化了制作工艺。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本申请的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种吸光调节层的俯视示意图；

图2为本发明实施例提供的一种显示模组的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的另一种吸光调节层的俯视示意图；

图4是本发明实施例提供的一种黑色矩阵的俯视示意图；

图5是本发明实施例提供的另一种黑色矩阵的俯视示意图；

图6是本发明实施例提供的一种黑色矩阵与金属网格的俯视示意图；

图7是本发明实施例提供的一种显示模组的俯视示意图；

图8为本发明实施例提供的一种触控显示模组的俯视结构示意图。

具体实施方式

这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本申请的示例性实施例的目的。但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。

在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

为了方便对本发明技术方案的理解，下面结合附图及具体实施例对本发明的技术方案进行详细的说明。

本发明实施例提供了一种显示模组，包括：

显示面板，包括显示区；

吸光调节层，设置于所述显示面板上且位于所述显示区内，所述吸光调节层包括电极层和吸光层，所述电极层包括呈间隔设置的多个电极，任一相邻两所述电极之间形成一电场，所述吸光层位于所述电场范围内，并根据所述电场强度调节吸光强度。

一种具体的实施方式中，如图1所示，本发明实施例提供的显示模组包括设置于所述显示面板上且位于所述显示区内的吸光调节层50，所述吸光调节层50包括电极层(未图示)和吸光层(未图示)，所述电极层包括呈间隔设置的多个电极51，并且所述吸光层位于任一相邻两所述电极51之间的电场范围内。所述吸光调节层50位于所述显示区内，通过控制任一相邻两所述电极51之间的电场强度调节所述吸光层的吸光强度，对显示画面中出现亮度不均匀的区域进行亮度调节，使得过暗的区域变亮，过亮的区域变暗，以达到均匀的显示效果。

具体地，所述吸光层为金属超微粒子-半导体介质复合体系，将尺度为纳米量级的金属超微粒子埋藏于半导体基质中而形成的金属超微粒子-半导体介质复合体系具有不同于其块体材料的光学、电光及光电特性。由于金属超微粒子中类自由电子的带内跃迁吸收，在表面等离激元共振频率附近形成大的吸收峰，金属超微粒子-半导体介质复合薄膜在任一相邻两所述电极51之间的电场作用下，对可见光表现出光吸收的效果，从而通过控制所述吸光层对可见光的吸光强度，对显示画面中出现亮度不均匀的区域进行亮度调节。

进一步地，所述电极51可以为透明电极，减少对光线的遮挡。可选地，所述电极51的制备材料可以是透明金属氧化物，例如氧化铟锡或氧化铟锌等。

一种具体的实施方式中，如图2所示，图2为本发明实施例提供的一种显示模组的结构示意图。所述显示模组1包括：显示面板10；设置于所述显示面板10上且位于所述显示区内的吸光调节层50；设置在所述吸光调节层50上的偏光片60；设置在所述偏光片60上的盖板70；具体地，所述显示面板10包括朝向所述盖板70方向层叠设置的阵列基板20、液晶层30和彩膜基板40；所述吸光调节层50包括电极层和吸光层，所述电极层包括呈间隔设置的多个电极51。

需要说明的是，本实施例不限定所述吸光调节层50和所述显示面板10的结合方式。例如，所述吸光调节层50可以设置在盖板70上，所述盖板70用于盖合在所述显示面板10上对显示面板10进行保护，且所述盖板70的形成有所述吸光调节层50一侧朝向所述显示面板10。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的另一种吸光调节层50的俯视示意图如图3所示，所述电极51包括至少一个金属网格55，多个所述电极51呈多行和多列的阵列分布，所述吸光层设置于所述金属网格55上且覆盖所述金属网格55。具体地，所述电极层的每个所述电极51均由至少一个金属网格55组成，所述吸光层可以通过蒸镀，涂布，贴合等工艺均匀的附着于所述金属网格55上且覆盖所述金属网格55。

本发明实施例提供的显示模组，所述彩膜基板40包括黑色矩阵，以及位于所述黑色矩阵远离所述彩膜基板40的衬底基板一侧的彩膜层，所述彩膜层至少由三个子像素单元构成一个像素单元。所述黑色矩阵具有遮光性，其开口区域确定了子像素单元在所述彩膜基板40的衬底基板上的位置，且使着各子像素单元的尺寸均匀一致。所述彩膜层至少由红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素单元组成，红、绿、蓝三个子像素单元构成一个像素单元，相应的，所述黑色矩阵将所述红、绿、蓝三个子像素单元规律地分别隔开，目的是避免各子像素之间的混光，并且遮挡像素电极外部区域，以防止漏光。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的显示模组，透光方向上，所述金属网格55的投影落入所述黑色矩阵的投影内，即，所述黑色矩阵在遮光方向上对所述金属网格55进行了遮蔽，使得所述金属网格55构成的所述电极51不出现显示区域。因此，所述电极51可以使用金属，和透明金属氧化物相比，减小了电阻。

本发明实施例提供的显示模组，所述黑色矩阵的俯视图如图4所示，所述黑色矩阵42为纵横交叉的网格组成，所述黑色矩阵42的材料为常用的黑色矩阵材料铬。本领域技术人员可以知晓，图4只是所述黑色矩阵42的部分示意，不是全部，并且所述黑色矩阵42的形状可以做任何的变化。由纵横的网格定义出的空白部分420则为后续沉积色阻材料形成红、绿、蓝三个子像素组成的彩膜层之用。在透光方向上，所述金属网格55的投影落入所述黑色矩阵42的投影内，利用所述黑色矩阵42对所述电极层进行遮挡。

可选地，所述金属网格55的外形的形状为正方形、三角形、菱形或者其他形状。

可选地，所述金属网格55的线宽小于所述黑色矩阵42的网格的线宽。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的显示模组，所述吸光层包括多个吸光单元，任一所述吸光单元对应一所述金属网格55的开口区设置。具体地，所述吸光层由多个所述吸光单元组成，每个所述金属网格55的开口中设置所述吸光单元，从而减少了所述吸光层需要覆盖的面积，节约材料的同时避免了所述吸光层对所述电极51的遮盖。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的显示模组，所述显示区包括多个子像素区，任一所述金属网格55至少围绕一所述子像素区设置。具体地，每个所述金属网格55的开口中设置所述吸光单元，并且任一所述金属网格55至少围绕一所述子像素区设置，通过控制任一相邻两所述电极51之间的电场强度调节所述金属网格55的开口内所述吸光单元的吸光强度，对所述金属网格55围绕的所述子像素区进行亮度调节，以达到均匀显示的效果。

本发明实施例提供的显示模组，所述彩膜层由红、绿、蓝子像素单元组成，红、绿、蓝三个子像素单元构成一个像素单元。如图5所示，所述黑色矩阵42包括多组开口，所述多组开口依次排列，其中，每一组开口包括第一开口421、第二开口422以及第三开口423，每一组所述像素单元包括红色子像素单元411、蓝色子像素单元412以及绿色子像素单元413，所述红色子像素单元411、蓝色子像素单元412以及绿色子像素单元413分别与所述第一开口421、第二开口422以及第三开口423对应。

具体地，所述金属网格55的密度与所述彩膜层中的像素单元有关。如图6所示，所述金属网格55环绕所述子像素区，且在透光方向上，所述金属网格55的投影落入所述黑色矩阵42的投影内。所述金属网格55为金属线组成的菱形金属网格55，每个菱形金属网格55中至少设置有一个子像素，所述子像素的形状为菱形、矩形以及正方形的任意一种。所述金属网格55避开所述子像素，组成所述金属网格55的金属线在所述彩膜层的衬底基板上的正投影位于相邻两个所述子像素在所述彩膜层的衬底基板上正投影之间的位置，即组成所述金属网格55的金属线设置在相邻的每一所述子像素之间，以避免遮挡到所述子像素的发光光线与亮度。

本发明实施例提供的显示模组，所述金属网格55包括第一金属网格551和第二金属网格552，如图6所示，所述第一金属网格551中可以设置红、绿、蓝三个子像素其中的任意一个子像素，所述第二金属网格552中设置有红、绿、蓝三个子像素。在本实施例中，不对各所述金属网格55环绕所述子像素的具体数量做限定。

通常为了消除显示异常，可以单独提取各子像素的亮度，并对各子像素的亮度进行补偿，此时可以使得各子像素具有较好的显示效果。

可选地，本发明实施例提供的显示模组，所述金属网格55密度与子像素单元密度的比例为1:1，从而更好地实现对所述金属网格55围绕的所述子像素区进行亮度调节。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的显示模组，所述显示模组1还包括驱动芯片，每一所述电极51通过一金属走线与所述驱动芯片连接。图7是本实施例提供的一种显示模组的俯视图，所述显示模组1包括：显示区11和绑定区12，所述吸光调节层50设置在所述显示区11，所述吸光调节层50包括所述电极层和所述吸光层，所述电极层包括呈间隔设置的多个所述电极51，多根金属走线56连接所述电极51；其中每个所述电极51分别连接一根所述金属走线56；多个所述电极51呈多行和多列的矩阵分布。图7中黑色填充圆圈表示每个所述电极51与对应的所述金属走线56电连接。

进一步地，如图7所示，所述金属走线56包括第一金属走线561和第二金属走线562，所述第一金属走线561和所述第二金属走线562分别连接第一电极53和第二电极54；通过所述驱动芯片13对所述第一金属走线561和所述第二金属走线562写入不同的电压，从而在与所述第一金属走线561连接的所述第一电极53和与所述第二金属走线562连接的所述第二电极54之间形成电场，通过控制所述第一电极53和所述第二电极54之间的电场强度调节所述吸光层的吸光强度，对显示画面中出现亮度不均匀的区域进行亮度调节。

需要说明的是，在本实施例中，不对各所述电极51所连接的所述金属走线56的具体条数做限定。

如背景技术中所述的，在显示面板制作过程中由于工艺等因素，使得显示面板中器件特性不可避免存在差异，例如显示面板制作过程中的工艺等因素可能导致显示区域内像素电路中薄膜晶体管的阈值电压存在差异，导致显示面板的显示亮度不均现象，即Mura。而由于显示面板生产工艺的复杂性和困难性，Mura缺陷的出现是无法避免的，因而可以采用DeMura技术进行Mura缺陷修复。DeMura实际上是一个对Mura进行补偿的过程：从相机拍摄面板画面的亮度，获取面内Mura信息，然后经过一些算法对Mura进行提取、修正，最终得到一张补偿表(DeMura Table)供硬件(例如处理器)插值调用。

本发明实施例提供一种显示方法，该显示方法包括以下步骤：通过Demura相机采集单色画面时各子像素的亮度，获取所述显示面板10所对应的Demura数据，然后根据所述Demura数据进行补偿。具体的，通过所述Demura相机采集设定显示画面下的各子像素的亮度，并采用Demura设备识别显示区11的Mura区域和非Mura区域，根据面内Mura信息获取所述Demura数据；根据所述Demura数据采用不同电压驱动任一相邻两所述电极51，使相邻两所述电极51产生电场以调节所述吸光层的吸光强度。

在上述实施例中，所述Demura设备包括相机，该相机可以对显示面板10的显示画面进行采集，具体可以采集显示面板10各子像素的亮度。所述Demura设备识别显示区11域的Mura区域和非Mura区域时，可采用现有技术中已有的任一识别方法，例如图像特征提取等检测方法，本发明实施例在此不做具体限定。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的显示模组，所述显示模组1还包括设置于所述金属网格55与所述显示面板10之间的绝缘层，各所述金属走线56设置于所述绝缘层远离所述金属网格55的一侧，所述绝缘层上设置有多个过孔，每一所述金属走线56一端穿过一所述过孔与所述金属网格55连接，另一端与所述驱动芯片13连接。具体地，所述显示模组1还包括覆盖多个所述电极51的绝缘层(未图示)，所述绝缘层具有暴露多个所述电极51的过孔，所述绝缘层覆盖所述电极层，并且所述绝缘层使所述第一电极53和所述第一金属走线561彼此绝缘。所述第一金属走线561一端通过所述绝缘层上的过孔与第一电极53连接，所述第一金属走线561另一端与所述驱动芯片13连接，进而实现所述第一电极53与所述驱动芯片13的连接。

需要说明的是，因为各所述电极51所连接的所述金属走线56需要在所述绑定区12中和其他结构实现电连接(例如，和所述驱动芯片13电连接)，所以所述绝缘层不能覆盖处于所述绑定区12中的所述金属走线56。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的显示模组，所述吸光层为掺杂Ag的BaO薄膜。据报道，将尺度为纳米量级的金属超微粒子埋藏于半导体基质中而形成的金属超微粒子-半导体介质复合体系具有不同于其块体材料的光学、电光及光电特性。将Ag超微粒子埋藏在BaO半导体基质中构成的Ag-BaO薄膜是该种复合材料的典型代表，因其在超短激光脉冲驱动下所表现出较高光电量子产额和极快光学瞬态响应速度，在外加电场作用下可产生对可见-近红外波段的光吸收。

Ag-BaO薄膜的结构特点是直径为纳米量级的Ag超微粒子随机散落分布在BaO半导体基质中。Ag-BaO复合薄膜在可见-近红外波段的双吸收峰结构是Ag超微粒子表面等离激元共振吸收和BaO半导体基质中杂质能级电子跃迁吸收共同作用的结果，在电场作用下，杂质电离导致了杂质能级上束缚电子浓度的减小，掺杂Ag的BaO薄膜在与杂质吸收相对应的光子能量范围内的光吸收强度随之降低。本实施例中，将所述掺杂Ag的BaO薄膜制成所述吸光层，并且所述吸光层与电极层共同组成所述吸光调节层50，所述电极层包括呈间隔设置的多个电极51，并且所述吸光层位于任一相邻两所述电极51之间的电场范围内。所述吸光调节层50位于所述显示区11内，通过控制任一相邻两所述电极51之间的电场强度调节所述吸光层的吸光强度，对显示画面中出现亮度不均匀的区域进行亮度调节，使得过暗的区域变亮，过亮的区域变暗，以达到均匀的显示效果。

可选地，所述吸光层的厚度为1-100纳米。

需要说明的是，所述吸光层并不局限于由上述列举的Ag-BaO复合薄膜材料构成，其还可以由其他吸光材料制成，只要能够保证所述吸光层在不同大小的电场强度下而具备可变的光吸收强度即可。

本发明实施例提供的显示模组，所述显示模组1包括触控层，所述显示面板为触控显示面板，如图8所示，本发明实施例提供的所述显示模组1包括：显示区11和绑定区12。所述触控层设置在所述显示区11，所述触控层包括多个自容式触控电极52、多条触控位置走线57以及多个压感触控单元(未图示)。所述压感触控单元位于所述多条触控位置走线57所在膜层与衬底基板之间；所述多个自容式触控电极52位于所述多条触控位置走线57远离所述衬底基板的一侧，所述多个自容式触控电极52通过所述多条触控位置走线57与位于所述绑定区12的驱动芯片13电连接；每个自容式触控电极52与至少一条触控位置走线57电连接。其中，多个触控电极52一般与地形成电容，当有触控物体触摸任一触控电极52时，该触控电极52与地之间的电容会发生变化，所述显示模组1的处理器能够通过与该触控电极52电连接的触控位置走线57获取该触控电极52上的信号值，从而确定该触控电极52所在位置为触控物体的触摸位置。图8中黑色填充圆圈表示自容式触控电极52与对应的触控位置走线57电连接。图8中示例性的设置每个自容式触控电极52与一条触控位置走线57电连接，在其他实施方式中，还可以设置每个触控电极52与多条触控位置走线57电连接，从而避免一条触控位置走线57断线时导致触控位置检测失灵的问题。

一种具体的实施方式中，本发明实施例提供的显示模组，所述电极层为触控层，所述电极51为触控电极52。具体地，如图8所示，所述触控电极52为金属网格55状结构，多个金属网格55构成所述触控电极52。在上述实施例中，所述电极层的每个所述电极51均由至少一个金属网格55组成，因此，所述电极层可以复用为所述触控层，所述电极51可以复用为所述触控电极52，可以实现将所述吸光层集成在所述触控层，相比于同时设置有所述吸光调节层50和所述触控层的触控显示面板10，厚度显著减小，实现了触控显示面板10的轻薄化。

进一步地，如图8所示，本发明实施例提供的显示模组1可以将与所述第一电极53连接的所述第一金属走线561和与所述第二电极54连接的所述第二金属走线562复用为所述触控层的第一触控位置走线571和第二触控位置走线572，可以实现将所述电极层以及各所述金属走线56(第一金属走线561和第二金属走线562)集成在所述触控层内。为在图中清楚展示复用为所述触控位置走线57的所述金属走线56，如图8所示，将复用为所述触控位置走线57的所述金属走线56(第一金属走线561和第二金属走线562)进行加粗展示。

进一步地，所述触控层还包括设置于所述触控电极52与所述触控位置走线57之间的绝缘层，各所述触控位置走线57设置于所述绝缘层远离所述触控电极52的一侧，所述绝缘层上设置有多个过孔，每一所述触控走线一端穿过一所述过孔与所述触控电极52连接，另一端与所述驱动芯片13连接。相比于同时设置有所述吸光调节层50和所述触控层的触控显示面板10，厚度显著减小，实现了触控显示面板10的轻薄化。此外，由于本发明实施例提供的显示模组1可以将与所述第一电极53连接的所述第一金属走线561和与所述第二电极54连接的所述第二金属走线562复用为所述触控层的所述第一触控位置走线571和所述第二触控位置走线572，因此无需额外为所述触控层单独设置一层金属层布置所述触控位置走线57，因而进一步减小了触控显示面板10的厚度，减少了制备工艺制程数量，降低了成本。

此外，多条所述触控位置走线57连接所述驱动芯片13上的对应接口，本发明实施例由于将与所述第一电极53连接的所述第一金属走线561和与所述第二电极54连接的所述第二金属走线562复用为所述触控层的所述第一触控位置走线571和所述第二触控位置走线572，减少了触控显示面板10的走线数量，因此还可以减少所述驱动芯片13的接口数量，降低驱动芯片13的成本。

需要说明的是，在上述各技术方案的基础上，多条所述金属走线56的复用方式可以有多种，在实际应用中，可以根据需要选择所述金属走线56的复用方式和复用的走线的数量。

本发明还提供一种显示装置，所示显示装置包括上述实施例提供的显示模组。需要说明的是，本发明实施例提供显示装置还可以包括其他用于支持显示装置正常工作的电路及器件，上述的显示装置可以为手机、平板电脑、电子纸、电子相框中的一种。

综上，本申请提供一种显示模组及显示装置，包括设置于显示面板上且位于显示区内的吸光调节层，该吸光调节层包括电极层和吸光层，该电极层包括呈间隔设置的多个电极，并且吸光层位于任一相邻两各电极之间的电场范围内，从而根据电场强度调节吸光强度，对显示画面中出现亮度不均匀的区域进行亮度调节，使得过暗的区域变亮，过亮的区域变暗，以达到均匀的显示效果。另外，本申请通过将电极层复用为触控层，简化了制作工艺。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示模组，包括：

显示面板，包括显示区；

吸光调节层，设置于所述显示面板上且位于所述显示区内，所述吸光调节层包括电极层和吸光层，所述电极层包括呈间隔设置的多个电极，任一相邻两所述电极之间形成一电场，所述吸光层位于所述电场范围内，并根据所述电场强度调节吸光强度。

2.如权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述电极包括至少一个金属网格，所述吸光层设置于所述金属网格上且覆盖所述金属网格。

3.如权利要求2所述的显示模组，其特征在于，所述吸光层包括多个吸光单元，任一所述吸光单元对应一所述金属网格的开口区设置。

4.如权利要求3所述的显示模组，其特征在于，所述显示区包括多个子像素区，任一所述金属网格至少围绕一所述子像素区设置。

5.如权利要求3所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括驱动芯片，每一所述电极通过一金属走线与所述驱动芯片连接。

6.如权利要求5所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括设置于所述电极与所述显示面板之间的绝缘层，各所述金属走线设置于所述绝缘层远离所述电极的一侧，所述绝缘层上设置有多个过孔，每一所述金属走线一端穿过一所述过孔与所述电极连接，另一端与所述驱动芯片连接。

7.如权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述吸光层为掺杂Ag的BaO薄膜。

8.如权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述吸光层的厚度为1-100纳米。

9.如权利要求1至8任一项所述的显示模组，其特征在于，所述电极层为触控层，所述电极为触控电极。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的显示模组。

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