CN112978844A - 一种半导体废水脱氟处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及半导体技术领域，且公开了一种半导体废水脱氟处理装置，包括外壳，所述外壳外侧设有处理室；齿轮转动，转动组件同步转动，使转板进行间歇往复转动，引起卡框进行间歇上下移动，下插头远离下插座，上插头与上插座卡接，控制加两个加热器错开运行，有利于活性氧化铝层的重复使用，加热器运行，对活性氧化铝层进行烘干处理，使活性氧化铝层可得到循环利用，避免由于其吸附量过多影响其后续的吸附效果，有效提高废水脱氟处理效果，转板间歇往复转动带动两个卡杆进行间歇上下移动，引起两个限流杆错开挤压处理室分流管，自动控制废水的流向，使其能够不间断的进行脱氟处理操作，从而提高废水处理效率。

Description

一种半导体废水脱氟处理装置

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，具体为一种半导体废水脱氟处理装置。

背景技术

半导体工业是一个十分依赖水资源的行业，也是高耗水的行业。因此，节约用水和废水回收利用已成为半导体业者应对缺水危机的重要措施，特别是废水的回收利用，既能减少对水资源的需求，又能降低生产成本，同时也减少对环境的污染。由于半导体废水中含有氟，若是长期饮用不符合要求含氟量的水，会对人体健康产生较大的危害。目前对废水脱氟时，需要每隔一段时间对脱氟机构进行处理，避免脱氟机构长时间的使用，降低其对废水中氟的吸附能力，但是在操作时，需要暂停脱氟过程，操作不是很便捷，并且严重降低工作效率，不能满足实际加工需求。

针对现有技术的不足，本发明提供了一种半导体废水脱氟处理装置，具备无需暂停脱氟操作和工作效率更高的优点。

发明内容

(一)技术方案

为实现上述无需暂停脱氟操作和工作效率更高的目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体废水脱氟处理装置，包括外壳，所述外壳外侧设有处理室，处理室的内部设有活性氧化铝层，处理室的表面设有加热器，外壳的内部转动连接有转盘，转盘的两侧均滑动连接有限流杆，限流杆的底部固定连接有连接杆，连接杆的内部卡接有卡杆，转盘的下方设有插座，插座的下方转动连接有转板，转板的表面固定连接有连板，连板的表面滑动连接有卡框，卡框的上下两侧均设有插头，转板的两侧均转动连接有齿轮，齿轮的表面固定连接有转动组件。

优选的，所述处理室由进水管、出水管和分流管构成，分流管有两个并且规格相同，两个分流管以出水管的中轴线为参考呈现对称分布，其内部均设有活性氧化铝层，处理室分流管的部管体为软质材料，加热器有两个并且规格相同，两个加热器分别设置于处理室分流管内活性氧化铝层的外侧。

优选的，所述转盘的外侧固定连接有卡板，卡板与处理室固定连接，转盘的外侧活动连接有第一拉绳，第一拉绳远离转盘的一侧与转板活动连接，限流杆有两个并且规格相同，限流杆的外侧固定连接有槽板，槽板与处理室固定连接，槽板的表面开设有斜槽，限流杆卡在其斜槽内，限流杆位于处理室分流管软质管体的底部。

优选的，所述连接杆呈现倒置T状，其横块的内部开设有通口，卡杆有两个并且规格相同，卡杆呈现倒置工字状，两个卡杆相互靠近一侧块体的外侧活动连接有弹簧，弹簧远离卡杆的一侧与其同侧连接杆的横块活动连接，卡杆的横杆卡在连接杆横块的通口内，卡杆的下方活动连接有弹簧，弹簧远离卡杆的一侧与处理室活动连接，卡杆两侧块体的外侧均设有凸柱，卡杆的外侧且位于外壳内壁的表面开设有卡槽，卡杆的凸柱卡在其卡槽内，两个卡杆之间活动连接有第二拉绳，第二拉绳活动连接在转盘的外侧。

优选的，所述插座有两个并且规格相同，上插座与转盘外侧的卡板固定连接，下插座与处理室固定连接，转板的表面开设有两个规格相同的通槽，相邻两个通槽之间的区域呈现人字状，其弧面与转动组件弧板的尺寸相适配。

优选的，所述连板的表面开设有凸柱，卡框的内部开设有通槽，其尺寸与连板凸柱的尺寸相适配，卡框的两端均固定连接有凸柱，凸柱的外侧且位于外壳内壁的表面开设有卡槽，卡框的凸柱卡在其卡槽内，插头有两个并且规格相同，分别设置于卡框的上下两侧，上插头与上插座、右侧加热器电连接，下插头与下插座、左侧加热器电连接。

优选的，所述齿轮有两个并且规格相同，两个齿轮相啮合，转动组件由支杆和弧板构成，支杆的表面开设有凸柱，其尺寸与转板通槽的尺寸相适配。

(二)有益效果

与现有技术相比，本发明提供了一种半导体废水脱氟处理装置，具备以下有益效果：

1、该半导体废水脱氟处理装置，通过齿轮、转动组件、转板、卡框、下插头、下插座、加热器和活性氧化铝层的共同作用，齿轮转动，转动组件同步转动，使转板进行间歇往复转动，引起卡框进行间歇上下移动，下插头远离下插座，上插头与上插座卡接，控制加两个加热器错开运行，有利于活性氧化铝层的重复使用。

2、该半导体废水脱氟处理装置，通过加热器和活性氧化铝层的共同作用，加热器运行，对活性氧化铝层进行烘干处理，使活性氧化铝层可得到循环利用，避免由于其吸附量过多影响其后续的吸附效果，有效提高废水脱氟处理效果。

3、该半导体废水脱氟处理装置，通过转板、卡杆、限流杆和处理室的共同作用，转板间歇往复转动带动两个卡杆进行间歇上下移动，引起两个限流杆错开挤压处理室分流管，自动控制废水的流向，使其能够不间断的进行脱氟处理操作，从而提高废水处理效率。

附图说明

图1为本发明结构示意图；

图2为本发明图1剖视图；

图3为本发明结构限流杆和卡杆连接关系示意图。

图中：1、外壳；2、处理室；3、活性氧化铝层；4、加热器；5、转盘；6、限流杆；7、连接杆；8、卡杆；9、插座；10、转板；11、连板；12、卡框；13、插头；14、齿轮；15、转动组件。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-3，一种半导体废水脱氟处理装置，包括外壳1，外壳1外侧设有处理室2，处理室2由进水管、出水管和分流管构成，分流管有两个并且规格相同，两个分流管以出水管的中轴线为参考呈现对称分布，其内部均设有活性氧化铝层3，处理室2分流管的部管体为软质材料，处理室2的内部设有活性氧化铝层3，处理室2的表面设有加热器4，加热器4有两个并且规格相同，两个加热器4分别设置于处理室2分流管内活性氧化铝层3的外侧，外壳1的内部转动连接有转盘5，转盘5的外侧固定连接有卡板，卡板与处理室2固定连接，转盘5的外侧活动连接有第一拉绳，第一拉绳远离转盘5的一侧与转板10活动连接，转盘5的两侧均滑动连接有限流杆6，限流杆6有两个并且规格相同，限流杆6的外侧固定连接有槽板，槽板与处理室2固定连接，槽板的表面开设有斜槽，限流杆6卡在其斜槽内，限流杆6位于处理室2分流管软质管体的底部。

限流杆6的底部固定连接有连接杆7，连接杆7呈现倒置T状，其横块的内部开设有通口，连接杆7的内部卡接有卡杆8，卡杆8有两个并且规格相同，卡杆8呈现倒置工字状，两个卡杆8相互靠近一侧块体的外侧活动连接有弹簧，弹簧远离卡杆8的一侧与其同侧连接杆7的横块活动连接，卡杆8的横杆卡在连接杆7横块的通口内，卡杆8的下方活动连接有弹簧，弹簧远离卡杆8的一侧与处理室2活动连接，卡杆8两侧块体的外侧均设有凸柱，卡杆8的外侧且位于外壳1内壁的表面开设有卡槽，卡杆8的凸柱卡在其卡槽内，两个卡杆8之间活动连接有第二拉绳，第二拉绳活动连接在转盘5的外侧，转盘5的下方设有插座9，插座9有两个并且规格相同，上插座9与转盘5外侧的卡板固定连接，下插座9与处理室2固定连接，插座9的下方转动连接有转板10，转板10的表面开设有两个规格相同的通槽，相邻两个通槽之间的区域呈现人字状，其弧面与转动组件15弧板的尺寸相适配。

转板10的表面固定连接有连板11，连板11的表面开设有凸柱，连板11的表面滑动连接有卡框12，卡框12的内部开设有通槽，其尺寸与连板11凸柱的尺寸相适配，卡框12的两端均固定连接有凸柱，凸柱的外侧且位于外壳1内壁的表面开设有卡槽，卡框12的凸柱卡在其卡槽内，卡框12的上下两侧均设有插头13，插头13有两个并且规格相同，分别设置于卡框12的上下两侧，上插头13与上插座9、右侧加热器4电连接，下插头13与下插座9、左侧加热器4电连接，转板10的两侧均转动连接有齿轮14，齿轮14有两个并且规格相同，两个齿轮14相啮合，齿轮14的表面固定连接有转动组件15，转动组件15由支杆和弧板构成，支杆的表面开设有凸柱，其尺寸与转板10通槽的尺寸相适配。

该装置的工作过程及原理如下：

使用时，输出轴控制右侧齿轮14进行顺时针转动，右侧齿轮14与左侧齿轮14相啮合进行逆时针转动，其表面的转动组件15转动，右侧转动组件15的支杆和弧板依次靠近转板10，支杆的凸柱移动至转板10的一个通槽再远离，带动转板10转动，弧板再靠近转板10，并且与其弧面相贴，使转板10及时止停，后续左侧转动组件15的支杆和弧板再依次靠近转板10，使转板10逆向转动再保持静止，引起转板10进行间歇往复转动，其表面的连板11同步运动，由于连板11的凸柱卡在卡框12的通槽内，卡框12两侧的凸柱卡在外壳1的卡槽内，使连板11转动带动卡框12进行间歇上下移动，初始时，卡框12位于最低点，此时下插头13与下插座9相卡接，与之电连接的左侧加热器4开始运行，对处理室2左侧分流室的活性氧化铝层3进行烘干处理，此时废水从处理室2的进水管进入，并且流入右侧分流管内，经过右侧活性氧化铝层3，活性氧化铝层3吸附废水的氟，后续卡框12上移，下插头13远离下插座9，左侧加热器4断电，卡框12上移至最高点时，其顶部的上插头13靠近上插座9并且与其相卡接，与之电连接的右侧加热器4开始运行，对处理室2左侧分流室的活性氧化铝层3进行烘干处理，使活性氧化铝层3可得到循环利用，避免由于其吸附量过多影响其后续的吸附效果，有效提高废水脱氟处理效果。

转板10进行间歇往复转动的同时，通过第一拉绳带动转盘5同步转动，初始时，左侧卡杆8位于最高点，右侧卡杆8位于最低点，左侧卡杆8块体与连接杆7弹簧发生压缩，左侧卡杆8底部的弹簧发生拉绳，右侧卡杆8底部的弹簧及其与连接杆7之间的弹簧均处于初始状态，此时左侧限流杆6挤压处理室2的左侧分流管，阻碍废水流入左侧分流管，右侧限流杆6位于处理室2右侧分流管的底部，废水顺利流入右侧分流管，并且通过处理室2的出水管流入，使转盘5进行逆时针转动，转盘5带动第二拉绳移动，使左侧卡杆8受到弹簧的复位作用下移，并且通过第二拉绳拉动右侧卡杆8上移，左侧卡杆8通过连接杆7拉动限流杆6顺着槽板向左下方移动，远离处理室2的左侧分流管，污水进入左侧分流管并且通过处理室2的出水管流出，同时右侧卡杆8上移并且通过连接杆7推动限流杆6向左上方移动，限流杆6挤压处理室2右侧分流管，对其进行封口，阻碍污水流入右侧分流管流，自动控制废水的流向，使其能够不间断的进行脱氟处理操作，从而提高废水处理效率。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种半导体废水脱氟处理装置，包括外壳(1)，其特征在于：所述外壳(1)外侧设有处理室(2)，处理室(2)的内部设有活性氧化铝层(3)，处理室(2)的表面设有加热器(4)，外壳(1)的内部转动连接有转盘(5)，转盘(5)的两侧均滑动连接有限流杆(6)，限流杆(6)的底部固定连接有连接杆(7)，连接杆(7)的内部卡接有卡杆(8)，转盘(5)的下方设有插座(9)，插座(9)的下方转动连接有转板(10)，转板(10)的表面固定连接有连板(11)，连板(11)的表面滑动连接有卡框(12)，卡框(12)的上下两侧均设有插头(13)，转板(10)的两侧均转动连接有齿轮(14)，齿轮(14)的表面固定连接有转动组件(15)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体废水脱氟处理装置，其特征在于：所述处理室(2)由进水管、出水管和分流管构成，分流管有两个并且规格相同，其内部均设有活性氧化铝层(3)，加热器(4)有两个并且规格相同，两个加热器(4)分别设置于处理室(2)分流管内活性氧化铝层(3)的外侧。

3.根据权利要求1所述的一种半导体废水脱氟处理装置，其特征在于：所述转盘(5)的外侧固定连接有卡板，卡板与处理室(2)固定连接，转盘(5)的外侧活动连接有第一拉绳，限流杆(6)有两个并且规格相同，限流杆(6)的外侧固定连接有槽板，槽板与处理室(2)固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体废水脱氟处理装置，其特征在于：所述连接杆(7)呈现倒置T状，其横块的内部开设有通口，卡杆(8)有两个并且规格相同，卡杆(8)呈现倒置工字状，两个卡杆(8)相互靠近一侧块体的外侧活动连接有弹簧。

5.根据权利要求1所述的一种半导体废水脱氟处理装置，其特征在于：所述插座(9)有两个并且规格相同，上插座(9)与转盘(5)外侧的卡板固定连接，下插座(9)与处理室(2)固定连接，转板(10)的表面开设有两个规格相同的通槽，相邻两个通槽之间的区域呈现人字状。

6.根据权利要求1所述的一种半导体废水脱氟处理装置，其特征在于：所述连板(11)的表面开设有凸柱，卡框(12)的内部开设有通槽，卡框(12)的两端均固定连接有凸柱，插头(13)有两个并且规格相同，分别设置于卡框(12)的上下两侧，上插头(13)与上插座(9)、右侧加热器(4)电连接，下插头(13)与下插座(9)、左侧加热器(4)电连接。

7.根据权利要求1所述的一种半导体废水脱氟处理装置，其特征在于：所述齿轮(14)有两个并且规格相同，转动组件(15)由支杆和弧板构成，支杆的表面开设有凸柱。

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