CN112949242A - 遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图 - Google Patents

遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图 Download PDF

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CN112949242A CN202110254749.9A CN202110254749A CN112949242A CN 112949242 A CN112949242 A CN 112949242A CN 202110254749 A CN202110254749 A CN 202110254749A CN 112949242 A CN112949242 A CN 112949242A
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Abstract

本申请实施例公开了一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图。遮光带版图绘制方法包括：获取遮光带版图的绘制配置信息，绘制配置信息包括绘制原始版图标识、遮光带版图的绘制范围的尺寸信息；调用版图数据库，版图数据库包括至少一绘制原始版图和与绘制原始版图对应的绘制原始版图标识；根据绘制原始版图标识在版图数据库中确定绘制原始版图；根据绘制原始版图设定第一空心阵列组；根据第一空心阵列组、绘制范围的尺寸信息确定绘制范围；根据第一空心阵列组和绘制范围生成遮光带版图。本申请实施例可以自动化快速绘制遮光带版图，减小了现有遮光带版图绘制中的繁琐步骤。

Description

遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图
技术领域
本申请涉及显示领域，具体涉及一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图。
背景技术
在显示技术领域，设计规则检查(DRC，Design Rule Check)是面板设计必不可少的工具，DRC用于绘制显示面板的版图，再将版图制作成光罩(mask)，用光罩来曝光制造图案化的金属走线图案、电极图案、光阻图案等。
在大尺寸面板制造中，一个母板版图的中包括几个子版图，各子版图需要分开先后曝光。在多次分步曝光时，需要设置挡板来遮挡光线，以避免正在曝光的子版图的周围未曝光的子版图被曝光，然而由于光衍射作用，挡板灰区存在弱曝，会破坏光阻，在光罩四周设计遮光带，保护曝光重叠区的有效图案。目前版图设计中光罩遮光带的生成仍停留在人为排版、多次调用DRCrule、导入DRC rule并删除遮光带中多余图案的阶段，遮光带生成后亦需要人工导入和光罩对齐合并，遮光带的干涉和漏图检查也需要多次重复检查每个子版图，步骤繁琐，而且容易出现人工失误。
发明内容
本申请实施例提供一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图，绘图软件获取绘制配置信息后，该遮光带版图由绘图软件自动绘制生成，解决了现有人工绘制存在步骤繁琐、容易失误的问题。
本申请实施例提供一种遮光带版图绘制方法，包括：
获取所述遮光带版图的绘制配置信息，所述绘制配置信息包括绘制原始版图标识、所述遮光带版图的绘制范围的尺寸信息；
调用版图数据库，所述版图数据库包括至少一绘制原始版图和与所述绘制原始版图对应的所述绘制原始版图标识；
根据所述绘制原始版图标识在所述版图数据库中确定所述绘制原始版图；
根据所述绘制原始版图设定第一空心阵列组；
根据所述第一空心阵列组、所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围；
根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图的步骤，包括：
获取所述第一空心阵列组的图案信息；
调用预设的DRCrule绘制模型；
根据所述第一空心阵列组的图案信息和所述DRC rule绘制模型，对所述绘制范围内的所述第一空心阵列组的图案做适应性调整生成所述遮光带版图。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述绘制原始版图设定第一空心阵列组的步骤，包括：
复制所述绘制原始版图；
将所述绘制原始版图按照3*3的方式阵列，其中，所述阵列的中心位置不包括所述绘制原始版图。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述第一空心阵列组、所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围的步骤包括：
获取所述第一空心阵列组的中心坐标；
根据所述第一空心阵列组的中心坐标和所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述第一空心阵列组的图案信息包括标记信息和图形信息；所述根据所述第一空心阵列组的图案信息和所述DRC rule绘制模型，对所述绘制范围内的所述第一空心阵列组的图案做适应性调整生成所述遮光带版图的步骤之前，还包括：
删除所述标记信息。
可选的，在本申请的一些实施例中，在所述根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图的步骤之后，还包括：
获取所述遮光带版图的检查配置信息，所述检查配置信息包括检查原始版图标识；
根据所述检查原始版图标识在所述版图数据库中确定所述检查原始版图；
根据所述检查原始版图设定第二空心阵列组；
根据所述第二空心阵列组和所述遮光带版图确定检查区域；
根据所述第二空心阵列组、所述遮光带版图和所述检查区域生成检查结果。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述第二空心阵列组、所述遮光带版图和所述检查区域生成检查结果的步骤，包括：
获取所述第二空心阵列组的图案信息；
获取所述遮光带版图的图案信息；
调用预设的DRCrule检查模型；
根据所述第二空心阵列组的图案信息、所述遮光带版图的图案信息、所述DRCrule检查模型和所述检查区域生成所述检查结果。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述根据所述第二空心阵列组和所述遮光带版图确定检查区域的步骤包括；
获取所述第二空心阵列组的中心坐标；
根据所述第二空心阵列组的中心坐标和所述遮光带版图确定所述检查区域。
相应的，本申请实施例还提供一种光罩版图绘制方法，采用上述任一项所述的遮光带版图绘制方法生成所述遮光带版图后，还包括：将所述遮光带版图与所述绘制原始版图按照中心重合的原则合并生成光罩版图。
相应的，本申请实施例还提供一种光罩版图，采用上述任一项所述的光罩版图绘制方法生成。
本申请实施例提供一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图，通过该遮光带版图绘制方法，可由绘图软件自动化快速绘制遮光带版图，减小了现有遮光带版图人工绘制中的繁琐步骤，避免人工失误，而且可以节省人力成本。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请一实施例提供的绘制原始版图示意图；
图2是本申请一实施例提供的第一中间阵列组的示意图；
图3是本申请一实施例提供的第一空心阵列组的示意图；
图4是本申请一实施例提供的遮光带版图的绘制范围的示意图；
图5是本申请一实施例提供的遮光带版图的示意图；
图6是本申请一实施例提供的检查原始版图示意图；
图7是本申请一实施例提供的第二中间阵列组的示意图；
图8是本申请一实施例提供的第二空心阵列组的示意图；
图9是本申请一实施例提供的遮光带版图的检查区域的示意图；
图10是本申请一实施例提供的光罩版图的示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请实施例提供一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
实施例一、
请参阅图1至图5，本申请的实施例提供了一种遮光带版图绘制方法，包括如下步骤：
获取遮光带版图的绘制配置信息，绘制配置信息包括绘制原始版图标识、遮光带版图的绘制范围201的尺寸信息；
调用版图数据库，版图数据库包括至少一绘制原始版图100和与绘制原始版图100对应的绘制原始版图标识；
根据绘制原始版图标识在版图数据库中确定绘制原始版图100；
根据绘制原始版图100设定第一空心阵列组10；
根据第一空心阵列组10、绘制范围的尺寸信息确定绘制范围201；
根据第一空心阵列组10和绘制范围201生成遮光带版图200。
具体的，如图1所示，绘制原始版图100已经命名并存入版图数据库，获取遮光带版图的绘制配置信息，通过绘制配置信息可以调用绘制原始版图100，并获取绘制范围201的尺寸等信息。
其中，请参阅图1、图3，根据绘制原始版图100设定第一空心阵列组10的步骤，包括：
复制绘制原始版图100；
将绘制原始版图100按照3*3的方式阵列，其中，阵列的中心位置不包括绘制原始版图100。
具体的，如图1所示，绘制原始版图100是指已经绘制好的用于生成遮光带版图200的一种原始版图，例如一个绘制原始版图100是指母板版图上的子版图的有效部分，子版图是光罩用于曝光/显影等工艺生产的重复单元，一个子版图的有效部分的图案至少包括一个显示面板所对应的金属图案、绝缘层图案等，例如一个子版图的有效部分的图案对应包括M个显示面板的部分或全部的金属图案、绝缘层图案，M为正整数。
具体的，如图1、图2、图3所示，第一空心阵列组10的一种生成方式包括：将绘制原始版图100按照3*3的方式阵列成第一中间阵列组9，然后删除第一中间阵列组9中心位置的绘制原始版图100生成第一空心阵列组10。
具体的，如图1、图3所示，第一空心阵列组10的又一种生成方式包括：将绘制原始版图100按照3*3的方式阵列直接生成中心位置不设有绘制原始版图100的阵列。
具体的，第一空心阵列组10的生成方式可以为上述两种的任一种，但不限于此。
其中，如图3、图4所示，根据第一空心阵列组10、绘制范围201的尺寸信息确定绘制范围的步骤包括：
获取第一空心阵列组10的中心坐标；
根据第一空心阵列组10的中心坐标和绘制范围的尺寸信息确定绘制范围201。
具体的，如图4所示，绘制范围201的设定方式包括自第一空心阵列10的中心1011向四边延伸到覆盖多个绘制原始版图100的部分图案的范围，遮光带版图的绘制范围201的中心与第一空心阵列组的中心1011重合。遮光带版图的绘制范围201的尺寸大于一个绘制原始版图100的尺寸，而小于两个绘制原始版图100的尺寸。例如，遮光带版图的绘制范围201的宽度大于一个绘制原始版图100的宽度，而小于两个绘制原始版图100的宽度；例如遮光带版图的绘制范围201的长度大于一个绘制原始版图100的长度，而小于两个绘制原始版图100的长度。
具体的，遮光带版图的绘制范围的尺寸信息可以指可以设定绘制范围的大小、中心坐标的信息，例如绘制范围的尺寸信息包括绘制范围的中心坐标和长宽信息，例如绘制范围的尺寸信息包括绘制范围的中心坐标和四个顶点坐标信息。
具体的，遮光带版图的绘制范围的设定可以为：从第一空心阵列组10的中心1011在X方向向外延伸X1的距离，从第一空心阵列组10的中心1011在Y方向向外延伸Y1的距离，X方向与Y方向相互垂直。遮光带版图的绘制范围201的中心与第一空心阵列组的中心1011重合，遮光带版图的绘制范围201覆盖第一空心阵列组的中心1011周围的绘制原始版图100的部分图案。
其中，如图4、图5所示，根据第一空心阵列组10和绘制范围201生成遮光带版图200的步骤，包括：
获取第一空心阵列组10的图案信息；
调用预设的DRCrule绘制模型；
根据第一空心阵列组10的图案信息和DRC rule绘制模型，对绘制范围201内的第一空心阵列组10的图案做适应性调整生成遮光带版图200。
具体的，预设的DRCrule绘制模型(绘制设计规则检查模型，绘制Design RuleCheck模型)是预先建立的绘制版图设计运算规则，并将预设的DRCrule绘制模型内置在DRCrule库之中，在遮光带版图绘制过程中，通过绘制配置信息可以直接调用预设的DRCrule绘制模型。在本申请实施例中，DRCrule绘制模型包括遮光带版图的生成规则，遮光带版图的生成规则在这里称之为适应性调整，DRCrule绘制模型包括将遮光带版图的绘制范围201内的第一空心阵列组10的图案在X轴和Y轴方向整体外扩处理的生成规则。在X轴和Y轴方向整体外扩处理是指图案的宽度在X轴方向增加，或是图案之间的间距在X轴方向减小，或/和是指图案的宽度在Y轴方向增加，或/和是图案之间的间距在Y轴方向减小，图案在X轴方向和Y轴方向的处理调整可以同时发生，虽然举例说明了适应性调整的生成规则，但不限于此，在遮光带版图绘制前可以依据需求设定DRCrule绘制模型所包括的设计运算规则。
其中，第一空心阵列组10的图案信息包括标记信息和图形信息；根据第一空心阵列组10的图案信息和DRC rule绘制模型，对绘制范围201内的第一空心阵列组10的图案做适应性调整生成遮光带版图200的步骤之前，还包括：删除标记信息。
具体的，第一空心阵列组10的图案信息包括标记信息和图形信息。标记信息是指所要删除的标记(或称之为mark)图案，例如包括对位标记(对位mark)等，这些标记信息不需要生成到遮光带版图200之中。第一空心阵列组10的图形信息是指所要删除的标记信息之外的图案信息，例如包括金属走线的图案和绝缘层的图案等。
在一些实施例中，具体的，绘制DRCrule模块还定义了遮光带版图200中各层的命名规则，更具体的，是选择性地挑选绘制原始版图100中需要做适应性调整生成遮光带版图200的图案的一些层结构进行重新命名。
本实施例提供了一种遮光带版图绘制方法，绘图软件获取绘制配置信息后，该遮光带版图由绘图软件自动绘制生成，解决了现有人工绘制存在步骤繁琐、容易失误的问题。
实施例二、
请参阅图6至图9，一种遮光带版图绘制方法，基于实施例一，完成了遮光带版图200的绘制后，还可以包括遮光带版图200的检查。
一种遮光带版图绘制方法，在根据第一空心阵列组10和绘制范围201生成遮光带版图200的步骤之后，还包括：
获取遮光带版图200的检查配置信息，检查配置信息包括检查原始版图标识；
根据检查原始版图标识在版图数据库中确定检查原始版图300；
根据检查原始版图300设定第二空心阵列组11；
根据第二空心阵列组11和遮光带版图200确定检查区域；
根据第二空心阵列组11、遮光带版图200和检查区域生成检查结果。
具体的，绘制生成的遮光带版图200已经命名并存入版图数据库，获取遮光带版图的检查配置信息，通过检查配置信息可以调用检查原始版图300和遮光带版图200，并获取检查区域的尺寸等信息。
具体的，检查原始版图300是指所要与遮光带版图200执行检查的又一种原始版图，检查原始版图300可以是与上述的绘制原始版图100相同或相异。
具体的，预设的DRCrule检查模型(检查设计规则检查模型，检查Design RuleCheck模型)是预先建立的检查版图设计运算规则，并将预设的DRCrule检查模型内置在DRCrule库之中，在遮光带版图检查过程中，通过检查配置信息可以直接调用预设的DRCrule检查模型。在本申请实施例中，DRCrule检查模型包括遮光带版图200的检查规则。具体的，包括遮光带版图200的漏图检查和干涉检查。漏图检查是指检查遮光带版图200有没有漏掉部分版图的图案，干涉检查是指遮光带版图200的各图案之间是否存在重叠干涉的情况，或者是指遮光带版图200的图案与检查原始版图300的图案之间是否存在干涉的情况。
其中，根据第二空心阵列组11、遮光带版图200和检查区域生成检查结果的步骤，包括：
获取第二空心阵列组11的图案信息；
获取遮光带版图200的图案信息；
调用预设的DRCrule检查模型；
根据第二空心阵列组11的图案信息、遮光带版图200的图案信息、DRC rule检查模型和检查区域生成检查结果。
具体的，如图6、图7、图8所示，第二空心阵列组11的一种生成方式包括：将检查原始版图300按照3*3的方式阵列成第二中间阵列组8，然后删除阵列中心位置的检查原始版图300生成第二空心阵列组11。
具体的，如图6、图8所示，第二空心阵列组11的又一种生成方式包括：将检查原始版图300按照3*3的方式阵列直接生成中心位置不设有检查原始版图300的阵列。
具体的，第二空心阵列组11的生成方式可以为上述两种的任一种，但不限于此。
具体的，当绘制原始版图100与检查原始版图300相同时，第二空心阵列组11与前述的第一空心阵列组10相同。
具体的，根据检查配置信息获取的检查区域的位置和尺寸可以与遮光带版图300的位置和尺寸相同。
其中，根据第二空心阵列组11和遮光带版图200确定检查区域的步骤包括；
获取第二空心阵列组11的中心坐标；
根据第二空心阵列组11的中心坐标和遮光带版图200确定检查区域。
具体的，如图9所示，设置第二空心阵列11的中心3011的坐标与遮光带版图200的中心坐标、检查区域的中心坐标相同，可以设置述检查区域的尺寸与遮光带版图200的尺寸相同。
在一些实施例中，可以设置检查区域大于或小于遮光带版图200的尺寸，只需要满足：检查区域同时覆盖遮光带版图的部分图案和第二空心阵列组11中检查原始版图的部分图案。
实施例三、
请参阅图10，本实施例还提供了一种光罩版图绘制方法，采用上述实施例中任一项的遮光带版图的绘制方法生成遮光带版图200后，还包括：将遮光带版图200与绘制原始版图100按照中心重合的原则合并生成光罩版图400。
具体的，如图10所示，将遮光带版图200的中心与绘制原始版图100的中心1012重合，将遮光带版图200与绘制原始版图100合并生成光罩版图400。
实施例四、
请参阅图10，本实施例还提供了一种光罩版图400，光罩版图400采用实施例三中任一项的光罩版图绘制方法所绘制。光罩版图400可以用于光罩生产，生产出来的光罩可以用来在生产中曝光形成金属图案、光阻图案等等。
本申请实施例提供一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图，通过该遮光带版图绘制方法，可由绘图软件自动化快速绘制遮光带版图，减小了现有遮光带版图人工绘制中的繁琐步骤，避免人工失误，而且可以节省人力成本。
以上对本申请实施例所提供的遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (10)

1.一种遮光带版图绘制方法，其特征在于，包括：
获取所述遮光带版图的绘制配置信息，所述绘制配置信息包括绘制原始版图标识、所述遮光带版图的绘制范围的尺寸信息；
调用版图数据库，所述版图数据库包括至少一绘制原始版图和与所述绘制原始版图对应的所述绘制原始版图标识；
根据所述绘制原始版图标识在所述版图数据库中确定所述绘制原始版图；
根据所述绘制原始版图设定第一空心阵列组；
根据所述第一空心阵列组、所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围；
根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图。
2.如权利要求1所述的遮光带版图绘制方法，其特征在于，所述根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图的步骤，包括：
获取所述第一空心阵列组的图案信息；
调用预设的DRCrule绘制模型；
根据所述第一空心阵列组的图案信息和所述DRC rule绘制模型，对所述绘制范围内的所述第一空心阵列组的图案做适应性调整生成所述遮光带版图。
3.如权利要求1所述的遮光带版图绘制方法，其特征在于，所述根据所述绘制原始版图设定第一空心阵列组的步骤，包括：
复制所述绘制原始版图；
将所述绘制原始版图按照3*3的方式阵列，其中，所述阵列的中心位置不包括所述绘制原始版图。
4.如权利要求1所述的遮光带版图绘制方法，其特征在于，所述根据所述第一空心阵列组、所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围的步骤包括：
获取所述第一空心阵列组的中心坐标；
根据所述第一空心阵列组的中心坐标和所述绘制范围的尺寸信息确定所述绘制范围。
5.如权利要求2所述的遮光带版图绘制方法，其特征在于，所述第一空心阵列组的图案信息包括标记信息和图形信息；所述根据所述第一空心阵列组的图案信息和所述DRC rule绘制模型，对所述绘制范围内的所述第一空心阵列组的图案做适应性调整生成所述遮光带版图的步骤之前，还包括：
删除所述标记信息。
6.如权利要求1所述的遮光带版图绘制方法，其特征在于，在所述根据所述第一空心阵列组和所述绘制范围生成所述遮光带版图的步骤之后，还包括：
获取所述遮光带版图的检查配置信息，所述检查配置信息包括检查原始版图标识；
根据所述检查原始版图标识在所述版图数据库中确定所述检查原始版图；
根据所述检查原始版图设定第二空心阵列组；
根据所述第二空心阵列组和所述遮光带版图确定检查区域；
根据所述第二空心阵列组、所述遮光带版图和所述检查区域生成检查结果。
7.如权利要求6所述的遮光带版图绘制方法，其特征在于，所述根据所述第二空心阵列组、所述遮光带版图和所述检查区域生成检查结果的步骤，包括：
获取所述第二空心阵列组的图案信息；
获取所述遮光带版图的图案信息；
调用预设的DRCrule检查模型；
根据所述第二空心阵列组的图案信息、所述遮光带版图的图案信息、所述DRC rule检查模型和所述检查区域生成所述检查结果。
8.如权利要求6所述的遮光带版图绘制方法，其特征在于，所述根据所述第二空心阵列组和所述遮光带版图确定检查区域的步骤包括；
获取所述第二空心阵列组的中心坐标；
根据所述第二空心阵列组的中心坐标和所述遮光带版图确定所述检查区域。
9.一种光罩版图绘制方法，其特征在于，采用如权利要求1至8任一项所述的遮光带版图绘制方法生成所述遮光带版图后，还包括：将所述遮光带版图与所述绘制原始版图按照中心重合的原则合并生成光罩版图。
10.一种光罩版图，其特征在于，采用如权利要求9所述的光罩版图绘制方法生成。
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