CN112947003A - 一种用于基片的烘烤设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提出一种用于基片的烘烤设备，包括：外壳，其包括具有容纳室的座体，以及与座体铰接的盖体，盖体上设置有通风腔以及通风口，盖体翻转后与座体配合形成工作腔，工作腔与通风腔连通；加热盘，其连接于容纳室的口部，加热盘的顶面上设置有真空槽组，与真空槽组连接有真空发生装置，以在真空槽组内产生负压用于将基片固定在加热盘顶面上；排气装置，其设置于容纳室内，且具有进气口以及排气口，进气口与通风腔以及工作腔连通，排气口位于座体的侧部；支撑装置，设置于加热盘下方，且具有可伸缩的顶针，顶针可穿过加热盘将基片向上顶起。本发明使得基片不仅便于取放，且烘烤均匀，避免了基片的翘曲问题和烘烤时气体的泄漏以及基片的污染的问题。

Description

一种用于基片的烘烤设备
技术领域
本发明属于纳米压印设备技术领域，尤其涉及一种用于基片的烘烤设备。
背景技术
纳米压印技术是在纳米尺度获得复制结构的一种成本低而速度快的方法，其不仅可以大批量、重复性的在大面积基片上制备纳米图案结构，而且所制出的高分辨率图案具有相当好的均匀性和重复性。纳米压印技术制图不仅可以供从事微电子、微纳加工、纳米技术的科技人员参考，也可供化学、生物、医学、光电子和磁学等领域的科研人员借鉴。
在纳米压印技术中，光刻胶旋涂完毕后，下一道工序就是烘烤，又叫做软烘。由于材料沉积在晶圆表面，在烘烤时，在晶圆表面形成应力，会导致晶圆翘曲，无法与热板密切接触，导致了晶圆和热板的热接触不好，晶圆不同区域的温度不同导致化学反应程度不一样，影响了线宽的均匀性。
烘烤也会使材料挥发出的气体，挥发出的气体会在设备内部凝结，累积到一定程度后，会掉落到基片表面而造成污染。
发明内容
本发明针对上述的技术问题，提出一种用于基片的烘烤设备，用于纳米压印的基片烘烤，使得基片不仅便于取放，且烘烤均匀，保证了基片的平整性，避免了翘曲问题，且外壳内气体保持从上向下循环，避免了烘烤时气体的泄漏以及基片的污染。
为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为：一种用于基片的烘烤设备，包括：
外壳，其包括具有容纳室的座体，以及与座体铰接的盖体，盖体上设置有通风腔以及与通风腔连通的通风口，所述盖体翻转后与座体配合形成工作腔，工作腔与通风腔连通；
加热盘，其连接于所述容纳室的口部，所述加热盘的顶面上设置有真空槽组，与真空槽组连接有真空发生装置，以在真空槽组内产生负压用于将基片固定在加热盘顶面上；
排气装置，其设置于所述容纳室内，所述排气装置具有进气口以及排气口，所述进气口与所述通风腔以及工作腔连通，所述排气口位于所述座体的侧部；
支撑装置，设置于所述加热盘下方，所述支撑装置具有可伸缩的顶针，所述顶针可穿过所述加热盘将基片向上顶起。
在本发明的一些实施例中，所述通风口由设置于所述盖体上的若干通风孔组成。
在本发明的一些实施例中，所述真空槽组包括设置于加热盘中心的十字形真空槽，以及设置于所述十字形真空槽外侧的环形真空槽，所述十字形真空槽以及环形真空槽的中心与加热盘的中心对应。
在本发明的一些实施例中，所述真空发生装置包括设置于所述十字形真空槽内以及环形真空槽内的真空孔，以及与真空孔通过管路连接的真空泵。
在本发明的一些实施例中，所述排气装置包括排气管路以及设置于所述排气管路上的排气扇。
在本发明的一些实施例中，在所述排气管路上，自靠近进气口一端向排气口一端依次设置第一过滤阀、第二过滤阀以及第三过滤阀。
在本发明的一些实施例中，所述进气口由设置于所述加热盘外侧的多个进气孔组成。
在本发明的一些实施例中，所述顶针设置有两组，所述顶针包括内侧顶针以及外侧顶针。
在本发明的一些实施例中，所述内侧顶针以及外侧顶针分别通过连接块连接，所述连接块上螺纹连接有螺杆，所述螺杆与电机连接。
在本发明的一些实施例中，在所述座体上靠近所述盖体与座体的铰接端设置挡块，在所述座体上设置有缓冲条，以在所述盖体与所述座体配合时，缓冲盖体的自由端。
与现有技术相比，本发明的优点和积极效果在于：
通过将盖体与座体铰接的方式，并通过支撑装置的顶针对基片向上顶起，在基片烘烤时，使得基片取放更加方便快捷，通过在加热盘上设置真空槽组，以对基片的中心以及边缘进行固定，保证了烘烤的均匀性，避免了翘曲问题，保证了基片的平整性，在烘烤时，通过排气装置对外壳内产生的气体，从上向下循环排出，避免了挥发出的气体的凝结，有效解决了烘烤时气体的泄漏以及基片的污染问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的连接结构示意图；
图2为本发明盖体打开时的结构示意图；
图3为图1的俯视图；
图4为去掉盖体时本发明的俯视图；
图5为图1的局部结构示意图。
以上各图中：1、外壳；11、座体；111、封板；12、盖体；121、内壳盖；122、外壳盖；123、连接筋；124、缺口；13、容纳室；14、通风腔；141、通风口；15、工作腔；16、挡块；17、检修门；171、门把手；18、缓冲条；19、把手；2、加热盘；21、真空槽组；211、十字形真空槽；212、环形真空槽；3、真空发生装置；31、管路；32、真空泵；4、排气装置；41、进气口；411、进气孔；42、排气口；43、排气管路；44、排气扇；45、第一过滤阀；46、第二过滤阀；47、第三过滤阀；5、支撑装置；51、顶针；511、内侧顶针；512、外侧顶针；52、连接块；53、螺杆；54、电机；55、连接块；56、螺杆；57、电机；6、基片。
具体实施方式
下面，通过示例性的实施方式对本发明进行具体描述。然而应当理解，在没有进一步叙述的情况下，一个实施方式中的元件、结构和特征也可以有益地结合到其他实施方式中。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
一种用于基片的烘烤设备，参见图1至图5，包括：外壳1、加热盘2、排气装置4、支撑装置5，其中，
外壳1包括具有容纳室13的座体11，以及与座体11铰接的盖体12，在盖体12上设置有通风腔14以及与通风腔14连通的通风口141，所述盖体12翻转后与座体11配合形成工作腔15，工作腔15与通风腔14连通；加热盘2连接于容纳室13的口部，加热盘2的顶面上设置有真空槽组21，与真空槽组21连接有真空发生装置3，以在真空槽组21内产生负压用于将基片6固定在加热盘2顶面上；排气装置4设置于容纳室13内，排气装置4具有进气口41以及排气口42，进气口41与通风腔14以及工作腔15连通，进气口41由设置于加热盘2外侧的多个进气孔411组成，在容纳室13的口部连接有封板111，进气孔411环绕加热盘2并设置在封板111上，排气口42位于座体11的侧部；支撑装置5设置于加热盘2下方，支撑装置5具有可伸缩的顶针51，顶针51可穿过加热盘2将基片6向上顶起。
通过将盖体12与座体11铰接的方式，在基片6烘烤时，使得基片6取放更加方便快捷，通过在加热盘2上设置真空槽组21，以对基片6的中心以及边缘进行固定，保证了烘烤的均匀性，避免了翘曲问题，保证了基片6的平整性，在烘烤时，通过排气装置4对外壳1内产生的气体，从上向下循环排出，避免了挥发出的气体的凝结，有效解决了烘烤时气体的泄漏以及基片6的污染问题，通过支撑装置5的顶针51对基片6向上顶起，方面基片6的取放。
进一步的，真空槽组21包括设置于加热盘2中心的十字形真空槽211，以及设置于十字形真空槽211外侧的环形真空槽212，十字形真空槽211的中心以及环形真空槽212的中心与加热盘2的中心对应，基片6的边缘与环形真空槽212对应，基片6的中心与十字形真空槽211的中心对应，真空发生装置3包括设置于十字形真空槽211内以及环形真空槽212内的真空孔，以及与真空孔通过管路31连接的真空泵32，通过真空泵32工作时抽真空，在十字形真空槽211以及环形真空槽212内产生负压，固定基片6的中心以及边缘。
在本实施例中，盖体12的纵截面呈U型，盖体12包括内壳盖121以及外壳盖122，内壳盖121与外壳盖122之间通过连接筋123连接，通风腔14形成于内壳盖121与外壳盖122之间，在内壳盖121的口部上设置有缺口124，以使盖体12与座体11配合时，工作腔15通过缺口124与通风腔14连通，通风口141由设置于盖体12的外壳盖122上的若干通风孔组成，盖体12的双层设计既保证了及时通风，又避免了环境中的空气直接吹到基片6上，保证了基片6的洁净度。
进一步的，排气装置4包括排气管路43以及设置于排气管路43上的排气扇44，排气扇44连接于座体11外侧壁上与排气口42连接，通过进气口41、排气管路43以及排气扇44将工作腔15内产生的挥发性气体，从上向下循环排出至座体11外，避免了挥发出的气体的凝结，有效解决了烘烤时气体的泄漏以及基片6的污染问题。
进一步的，在排气管路43上，自靠近进气口41一端向排气口42一端依次设置第一过滤阀45、第二过滤阀46以及第三过滤阀47，通过过滤阀的过滤，降低了有害气体的排放，避免烘烤时，排放的挥发性有害气体危害人体健康。
在本实施例中，顶针51设置有两组，分别为内侧顶针511以及外侧顶针512，内侧顶针511以及外侧顶针512呈回形设置。
进一步的，内侧顶针511通过连接块52连接，连接块52上螺纹连接有螺杆53，螺杆与电机54连接；外侧顶针512通过连接块55连接，连接块55上螺纹连接有螺杆56，螺杆56与电机57连接。
在本实施例中，在座体11上靠近盖体12与座体11的铰接端设置挡块16，以限位盖体12打开时的角度，在座体11侧部设置有检修门17，检修门17上设置门把手171，在座体11上设置有缓冲条18，以在盖体12与座体11配合时，缓冲盖体12的自由端，自由端即配合端，盖体12上设置把手19，方便盖体12开关。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种用于基片的烘烤设备，其特征在于，包括：
外壳，其包括具有容纳室的座体，以及与座体铰接的盖体，盖体上设置有通风腔以及与通风腔连通的通风口，所述盖体翻转后与座体配合形成工作腔，工作腔与通风腔连通；
加热盘，其连接于所述容纳室的口部，所述加热盘的顶面上设置有真空槽组，与真空槽组连接有真空发生装置，以在真空槽组内产生负压用于将基片固定在加热盘顶面上；
排气装置，其设置于所述容纳室内，所述排气装置具有进气口以及排气口，所述进气口与所述通风腔以及工作腔连通，所述排气口位于所述座体的侧部；
支撑装置，设置于所述加热盘下方，所述支撑装置具有可伸缩的顶针，所述顶针可穿过所述加热盘将基片向上顶起。
2.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：所述通风口由设置于所述盖体上的若干通风孔组成。
3.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：所述真空槽组包括设置于加热盘中心的十字形真空槽，以及设置于所述十字形真空槽外侧的环形真空槽，所述十字形真空槽以及环形真空槽的中心与加热盘的中心对应。
4.根据权利要求3所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：所述真空发生装置包括设置于所述十字形真空槽内以及环形真空槽内的真空孔，以及与真空孔通过管路连接的真空泵。
5.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：所述排气装置包括排气管路以及设置于所述排气管路上的排气扇。
6.根据权利要求5所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：在所述排气管路上，自靠近进气口一端向排气口一端依次设置第一过滤阀、第二过滤阀以及第三过滤阀。
7.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：所述进气口由设置于所述加热盘外侧的多个进气孔组成。
8.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：所述顶针设置有两组，所述顶针包括内侧顶针以及外侧顶针。
9.根据权利要求8所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：所述内侧顶针以及外侧顶针分别通过连接块连接，所述连接块上螺纹连接有螺杆，所述螺杆与电机连接。
10.根据权利要求1所述的用于基片的烘烤设备，其特征在于：在所述座体上靠近所述盖体与座体的铰接端设置挡块，在所述座体上设置有缓冲条，以在所述盖体与所述座体配合时，缓冲盖体的自由端。
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