CN112909040A - 显示模组及其制作方法、显示屏组件、电子设备 - Google Patents

显示模组及其制作方法、显示屏组件、电子设备 Download PDF

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CN112909040A CN201911136007.5A CN201911136007A CN112909040A CN 112909040 A CN112909040 A CN 112909040A CN 201911136007 A CN201911136007 A CN 201911136007A CN 112909040 A CN112909040 A CN 112909040A
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Abstract

本申请提供了一种显示模组,包括阳极层、阴极层以及设置于所述阳极层与所述阴极层之间的发光层;其中,在所述阳极层靠近所述阴极层的一面形成具有开口区域的第一光阻层,在所述第一光阻层的开口区域形成所述发光层,以使得所述发光层覆盖于所述阳极层靠近所述阴极层的一面,并遮挡所述阳极层暴露在所述开口区域的部位。本申请实施例提供的显示模组,取消偏光片结构,通过在阳极层上形成第一光阻层,以阻挡光反射,降低反射率,提升显示效果。另外,取消偏光片结构,在实现四边弯曲形态的显示屏组件以及电子设备时,可以实现显示屏组件以及电子设备的轻薄化结构设计。

Description

显示模组及其制作方法、显示屏组件、电子设备
技术领域
本申请涉及电子设备结构的技术领域,具体是涉及一种显示模组及其制作方法、显示屏组件、电子设备。
背景技术
随着手机等电子设备的发展,在外观上,对屏占比的要求越来越高,为了提升整机的屏占比,实现整机无黑边效果,提出采用四面曲(显示屏四周均为弯曲弧面的结构)方式。基于此,显示屏组件的各个膜层都需要拉伸以实现四面曲结构,即所有膜层都需要具有拉伸性。就目前技术而言,其存在的难点在于难以实现显示屏组件的所有膜层均具有拉伸性。
发明内容
本申请实施例一方面提供了一种显示模组,所述显示模组包括阳极层、阴极层以及设置于所述阳极层与所述阴极层之间的发光层;其中,在所述阳极层靠近所述阴极层的一面形成具有开口区域的第一光阻层,在所述第一光阻层的开口区域形成所述发光层,以使得所述发光层覆盖于所述阳极层靠近所述阴极层的一面,并遮挡所述阳极层暴露在所述开口区域的部位。
本申请实施例另一方面还提供了一种显示屏组件,所述显示屏组件包括:显示屏盖板,包括主体部和弯曲部;所述弯曲部沿所述主体部的侧边一体延伸设置;显示模组,包括主显示区和弯曲显示区,所述弯曲显示区沿所述主显示区的侧边一体延伸设置;其中,所述显示模组为上述实施例中所述的显示模组,所述显示模组贴设于所述显示屏盖板的所述弯曲部朝向的一侧表面,所述主显示区与所述主体部对位贴合,所述弯曲显示区与所述弯曲部对位贴合。
进一步地,本申请实施例还提供了一种电子设备,所述电子设备包括壳体以及上述实施例中所述的显示屏组件;所述壳体与所述显示屏盖板连接,并共同围设形成容置空间,所述显示模组设于所述容置空间内。
进一步地,本申请实施例还提供了一种显示模组的制作方法,所述制作方法包括:提供一基板,在所述基板上形成基底膜;在所述基底膜上依次间隔形成隔离层和走线层;在远离所述基底膜的所述隔离层上形成阳极层;在所述阳极层上形成发光层;在所述发光层上形成阴极层;在所述阴极层上形成封装层;分离所述基底膜与所述基板,以得到所述显示模组。
本申请实施例提供的电子设备、显示屏组件、显示模组以及其制作方法,取消偏光片结构,通过在阳极层上形成第一光阻层,以阻挡光反射,降低反射率,提升显示效果。另外,取消偏光片结构,在实现四边弯曲形态的显示屏组件以及电子设备时,可以进一步实现显示屏组件以及电子设备的轻薄化结构设计。本申请实施例提供的电子设备、显示屏组件、显示模组以及其制作方法,通过去除偏光片结构实现具有四曲面的显示屏组件;同时,通过设置第一光阻层可以实现与具有偏光片结构的显示屏组件大体上相同的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请一些实施例中电子设备的结构示意图;
图2是图1实施例中电子设备的部分结构拆分示意图;
图3是本申请一些实施例中显示模组的层叠结构示意图;
图4是图3中第一光阻层涂布于阳极层上的部分结构示意图;
图5是本申请另一些实施例中显示模组的层叠结构示意图;
图6是本申请另一些实施例中显示模组的层叠结构示意图;
图7是本申请另一些实施例中显示模组的结构示意图;
图8是本申请另一些实施例中显示屏盖板的结构示意图;
图9是本申请另一些实施例中显示屏组件的结构示意图;
图10是本申请另一些实施例中触摸面板的结构示意图;
图11是本申请另一些实施例中显示模组制作时的结构示意图;
图12是本申请另一些实施例中显示模组的制作方法的流程示意图;
图13是本申请另一些实施例中显示模组的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本申请作进一步的详细描述。特别指出的是,以下实施例仅用于说明本申请,但不对本申请的范围进行限定。同样的,以下实施例仅为本申请的部分实施例而非全部实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本申请保护的范围。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
作为在此使用的“电子设备”(或简称为“终端”)包括,但不限于被设置成经由有线线路连接(如经由公共交换电话网络(PSTN)、数字用户线路(DSL)、数字电缆、直接电缆连接,以及/或另一数据连接/网络)和/或经由(例如,针对蜂窝网络、无线局域网(WLAN)、诸如DVB-H网络的数字电视网络、卫星网络、AM-FM广播发送器,以及/或另一通信终端的)无线接口接收/发送通信信号的装置。被设置成通过无线接口通信的通信终端可以被称为“无线通信终端”、“无线终端”或“移动终端”。移动终端的示例包括,但不限于卫星或蜂窝电话;可以组合蜂窝无线电电话与数据处理、传真以及数据通信能力的个人通信系统(PCS)终端;可以包括无线电电话、寻呼机、因特网/内联网接入、Web浏览器、记事簿、日历以及/或全球定位系统(GPS)接收器的PDA;以及常规膝上型和/或掌上型接收器或包括无线电电话收发器的其它电子装置。手机即为配置有蜂窝通信模块的电子设备。
需要说明的是,本申请实施例中的电子设备主要是针对显示屏具有四面曲、三面曲或者两面曲的结构。
请结合参阅图1至图2,图1是本申请一些实施例中电子设备的结构示意图,图2是图1实施例中电子设备的部分结构拆分示意图。需要说明的是,本申请中的电子设备可以包括手机、平板电脑、笔记本电脑、可穿戴设备等具有曲面显示屏结构的电子设备。该电子设备大致上可以包括以下结构:显示屏组件10以及壳体20;显示屏组件10包括显示模组100以及显示屏盖板200。
四面曲已经成为未来整机设计方案的趋势,其主要带来的优势在于,提升整机的屏占比,实现整机无黑边效果,并且四面曲方案可以使得整机造型圆润,美观度极大提升。然而就目前技术而言,攻克难点是将所有膜层实现拉伸性。
相关技术中的显示模组采用偏光片结构,以使得环境光在屏内反射后无法射出,提升画面显示效果。而作为OLED柔性显示屏的偏光片,其内部结构除了线偏光片以外,还会多一层λ/4和λ/2的波片,用于屏蔽环境光反射。λ/4波片可以起到基本的屏蔽反射光的作用,λ/2波片对于短波部分屏蔽效果更好。显然的,相关技术中采用偏光片来提升显示模组的显示效果,结构复杂。另外,偏光片的拉伸性使其不能满足显示屏组件的四面曲方案的要求。
进一步地,显示面板的发光层通常具有RGB三基色发光区,每一基色发光区在显示面板的发光层单独开口,即在显示面板的发光层具有合理的R开口率、G开口率以及B开口率,从而实现多种颜色显示效果的显示面板。
具体地,1080*2380显示面板为例,其RGB发光层开口率大致为如下数值:
R开口率=(20.80*20.62)/(88.78*88.94)=5.43%;
G开口率=(14.36*21.78*2)/(88.78*88.94)=7.92%;
B开口率=(26.89*26.44)/(88.78*88.94)=9.00%;
RGB发光层总的开口率约为22.35%,这部分区域阳极层100%光反射。除此之外,约有15%面积的透过区(此区域全部光全部透过,无反射情况发生)。换言之,大致上有100%-15%-22.35%=62.65%的面积为金属线路或其他金属反射,而偏光片实际上并不能完全阻挡全部反射。
为解决上述问题,本实施例技术方案的思路是,降低阳极层、阴极层以及金属线路的反射率,以实现无偏光片时显示模组具有同等的显示效果,进而使得本申请实施例中的显示屏组件10在取消偏光片结构之后显示效果得以维持大体上不变。
具体而言,显示模组100贴设于显示屏盖板200的内表面。壳体20与显示屏组件10的显示屏盖板200连接,并共同围设形成容置空间11,显示屏组件10的显示模组100设于容置空间11内。其中,显示模组100可以为OLED柔性显示屏;显示屏盖板200可以为玻璃材质。
请参阅图3,图3为本申请一些实施例中显示模组100的层叠结构示意图,显示模组100大致上可以包括阳极层110、阴极层120以及设置于阳极层110和阴极层120之间的发光层130。其中,在阳极层110靠近阴极层120的一面形成具有开口区域112的第一光阻层111,在第一光阻层111的开口区域112形成发光层130,以使得发光层130覆盖于阳极层110靠近阴极层120的一面,并遮挡阳极层110暴露在开口区域112的部位。
具体而言,第一光阻层111形成于阳极层110靠近阴极层120的一面,阴极层120形成于第一光阻层111远离阳极层110的一面。通过曝光显影在第一光阻层111形成开口区域112。此时,阳极层110在开口区域112由部位呈现暴露状态,该发光层130覆盖于阳极层110的该呈现暴露状态的部位,以遮挡阳极层110暴露在开口区域112的部位。换言之,第一光阻层111和发光层130形成于阳极层110靠近阴极层120的一面,阴极层120形成于第一光阻层111和发光层130远离阳极层110的一面。
需要说明的是,本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
进一步地,第一光阻层111覆盖于阳极层110上,并通过曝光显影在第一光阻层111上形成开口区域112。阳极层110在开口区域112部分暴露,发光层130覆盖于阳极层110上,并遮挡阳极层110在开口区域112部分暴露的位置。
更进一步地,在阳极层110上形成包围发光层130的第一光阻层111,在第一光阻层111的开口区域112形成发光层130。可以理解的,在显示模组100中,阳极层可以间隔布置金属线路,在显示模组100显示的时候,金属线路会造成反光影响显示效果。申请人在经过研究后发现,在阳极层上覆盖第一光阻层以对金属线路进行遮挡,可以有效的降低金属线路的反射率,提升显示模组100的显示效果。
请结合参阅图4,图4为本申请一些实施例中第一光阻层111涂布于阳极层110上的部分结构示意图。阳极层110间隔布置的金属线路113会产生光线反射,第一光阻层111涂布于阳极层110上,阻挡金属线路113的光线反射,降低金属线路113的反射率,可以提升显示模组100的显示效果。
进一步地,发光层130形成于阳极层110上,且位于第一光阻层111的开口区域112内。第一光阻层111遮挡部分阳极层110,以可以阻挡被遮挡部分阳极110的光线反射,提升显示模组100的显示效果。
在本申请的一些实施例中,请参阅图5,阴极层120形成于第一光阻层111和发光层130之上,阴极层120远离发光层130的一面涂覆有第二光阻层121,以对阴极层120进行遮挡,阻挡阴极层120的光反射,降低阴极层120的反射率,可以提升显示模组100的显示效果。
需要说明的是,本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
可以理解的,显示模组100可以为OLED柔性显示屏,OLED柔性显示屏中的阴极材料为半透半反的介质,也具有反射特性。本申请实施例在阴极层120之上在涂覆第二光阻层121,用于防止阴极层反射以及开口区域的阳极层反射,提升显示模组100的显示效果。
需要说明的是,相关技术中显示屏组件采用在阴极层远离阳极层的一侧设置偏光片的方式来提升显示效果,偏光片的光学性能主要包括偏光度、透过率以及色调。在显示屏组件中,偏光片的偏光度和透过率越高,显示效率就越高,相对能耗就小。然而,偏光度和透过率是相互影响的,即偏光度越高,透过率就会相应的较低。因此,相关技术中,偏光片的偏光度一般在80%~99%之间、透过率一般在40%~50%之间。
进一步地,在本申请的一些实施例中,第一光阻层111和第二光阻层121均采用黑色的光阻材料制成,显示模组100在阳极层110靠近阴极层120的一面形成具有开口区域112的第一光阻层111,同时,在阴极层120远离发光层130的一面涂覆第二光阻层121,在显示屏组件10取消偏光片结构时,显示模组100能达到同样的透光显示效果。
具体地,当第二光阻层121的透过率为50%时,单位厚度(μm)的黑色光阻材料的OD(optical density,光密度)大约为0.3,此时,第二光组层的厚度大约为1μm。换言之,涂覆于阴极层120上的黑色光阻材料的厚度大约为1μm。
当第二光阻层121的透过率为40%时,单位厚度(μm)的黑色光阻材料的OD大约为0.4,此时,第二光组层121的厚度大约为1.33μm。换言之,涂覆于阴极层120上的黑色光阻材料的厚度大约为1.33μm。
当第二光阻层121的透过率为60%时,单位厚度(μm)的黑色光阻材料的OD大约为0.2,此时,第二光组层的厚度大约为0.67μm。换言之,涂覆于阴极层120上的黑色光阻材料的厚度大约为0.67μm。
本申请实施例中通过在阴极层上采用黑色的光阻材料涂覆形成第二光阻层121,并且使得第二光阻层121的透过率在40%~60%之间,即第二光阻层121的厚度在0.67~1.33μm之间,降低反射率,使得显示屏组件10在取消偏光片结构时,显示模组100能达到同样的显示效果。
当然,在其他实施例中,为了方便第二光阻层121的涂覆,第二光阻层121的厚度可以不小于1μm,单位厚度(μm)的黑色光阻材料的OD不小于0.3。
进一步地,显示模组100,即,OLED柔性显示屏的可弯曲特性使得显示屏组件10的可以实现四面曲结构,OLED柔性显示屏使用PI(聚酰亚胺)作为基底膜,使用薄膜封装(TFE)代替玻璃封装,以使得OLED柔性显示屏可以灵活地弯曲、折叠以及拉伸。
请结合参阅图6,在本申请的一些实施例中,显示模组100还可以包括基底膜140以及封装层150,显示模组100大体上可以由基底膜140、阳极层110、发光层130、阴极层120以及封装层150依次层叠而成,即基底膜140与封装层150之间依次设置有阳极层110、发光层130以及阴极层120,以形成显示模组100。进一步地,封装层150设置在阴极层120远离发光层130的一面设置,阳极层110远离发光层130的一面依次间隔设置有隔离层160和走线层170,换言之,阳极层110与基底膜140之间间隔设置有隔离层160和走线层170。
具体地,基底膜140使用聚酰亚胺薄膜(Polyimide Film,PI膜)制成,PI膜可以分两层制作,每一层的厚度大致上在8~10μm之间,两层PI膜之间可以设置一层无机薄膜,以阻止水汽等进入。其中,无机薄膜的材料包括但不限于Al2O3、TiO2、SiNx、SiCNx、SiOx等中的一种或两种及以上的组合、用于增加阻水功能的无机功能材料。
阳极层110形成于基底膜140之上,阳极层110的材料为透明导电金属氧化物,厚度为20-200nm。在本申请的一些实施例中,阳极层的材料为ITO(Indium Tin Oxide,氧化铟锡)或IZO(IndiumZinc Oxide,氧化铟锌)。
发光层130形成于阳极层110之上,发光层130的材料为有机小分子荧光材料、聚合物荧光材料、小分子磷光材料或聚合物荧光材料,构成形式为主客体掺杂形式或非掺杂形式,厚度为5-50nm。
阴极层120形成于发光层130之上,阴极层130的材料为半透明半反射导电金属,厚度为20nm-200nm。在本申请的一些实施例中,阴极层的材料包括但不限于Mg/Ag、Ca/Al、Mg/MgAg、Gd/Al、Al/Li、Sn/Al和Ag/Al等合金中的一种,可以防止水和氧气对低功函数金属阴极层产生不利影响。
第一光阻层111覆盖于阳极层110上,第一光阻层111采用黑色的光阻材料制成。
第二光阻层121涂覆于阴极层120远离发光层130的一面,第二光阻层121采用黑色的光阻材料制成。
封装层150形成于阴极层120和/或第二光阻层121之上,通过薄膜封装(Thin-FilmEncapsulation,TFE)制成。
隔离层160用于隔离水汽及平坦化显示模组,采用绝缘材料制成。
走线层170采用金属材料制成,用于信号传输。
本申请实施例提供的显示模组,通过在阳极层上形成第一光阻层。以及在阴极层上形成第二光阻层,可以有效降低阳极层、阴极层以及金属线路的反射率,进而使得本申请实施例中的显示屏组件10在取消偏光片结构之后的显示效果更优或者维持大体上不变。例如,本申请实施例采用第一光阻层以及第二光阻层覆盖之后,可以将反射率降低62.65%左右。
本申请实施例还提供了一种显示屏组件,该显示屏组件包括显示模组以及显示屏盖板,取消偏光片结构。其中,显示模组为前述实施例中所述的显示模组100。
具体地,请参阅图7,显示模组100包括主显示区101、弯曲显示区102以及连接区103,连接区103分别与主显示区101以及相邻的弯曲显示区102连接,连接区103对应主显示区101的角部位置设置。
其中,主显示区101可以为平面结构,弯显示区102沿主显示区101的侧边一体延伸设置,连接区103连接设于相邻的弯显示区102之间,并对应与主显示区101的角部位置(也即主显示区101相邻侧边的交接位置,下同),连接区103与主显示区101一体延伸设置。需要说明的是,显示模组100可以通过蒸镀工艺制成,并通过一体弯折形成。
进一步地,弯显示区102和连接区103朝向主显示区101的同一侧弯曲延伸;即弯显示区102和连接区103朝向壳体20的方向弯折。其中,弯显示区102和连接区103的曲率半径可以相同。当然,在其他一些实施例中,弯显示区102和连接区103的曲率半径可以不同,例如,连接区103的曲率半径大于弯显示区102的曲率半径,如此结构可以降低显示模组100的贴合难度。
请继续参阅图8,显示屏盖板200包括主体部201、弯曲部202以及连接部203,连接部203分别与主体部201以及相邻的弯曲部202连接,连接部203对应主体部201的角部位置设置。
其中,主体部201可以为平面结构,弯曲部202沿主体部201的侧边一体延伸设置,连接部203连接设于相邻的弯曲部202之间,并对应与主体部201的角部位置,连接部203与主体部201一体延伸设置。可以理解的是,显示屏盖板200的成型方式可以为通过一体弯折形成,另外可以为利用CNC加工成型,或者热弯与CNC结合的方式成型,此处不做具体限定。
进一步地,弯曲部202和连接部203朝向主体部201的同一侧弯曲延伸;即弯曲部202和连接部203朝向壳体20的方向弯折。其中,弯曲部202和连接部203的曲率半径可以相同。当然,在其他一些实施例中,弯曲部202和连接部203的曲率半径可以不同,例如,连接部203的曲率半径大于弯曲部202的曲率半径,如此结构可以降低连接部203位置显示模组100的贴合难度。
请结合参阅图2,显示模组100贴设于显示屏盖板200的弯曲部202以及连接部203朝向的一侧表面,即显示屏盖板200的内表面。主显示区101与主体部201对位贴合,弯曲显示区102与弯曲部202对位贴合,连接区103与连接部203对位贴合。
在一些实施方式中,在本实施例中,弯曲显示区102、弯曲部202、连接区103以及连接部203的曲率半径相同。
其中,需要说明的是,在一些其他实施例中可以是弯曲显示区102、弯曲部202、连接区103以及连接部203的曲率半径不同,或者弯曲显示区102和弯曲部202的曲率半径相同,而连接区103和连接部203的曲率半径相同,还可以设计为连接区103和连接部203的曲率半径大于弯曲显示区102和弯曲部202的曲率半径。
在本申请的一些实施例中,请参阅图9,显示屏组件10还包括触摸面板300,其中,触摸面板300贴设于显示模组100与显示屏盖板200之间。
进一步地,请结合参阅图10,触摸面板300包括主触摸区301、弯曲触摸区302以及过渡区303,过渡区303分别与主触摸区301和相邻的弯曲触摸区302连接,过渡区303对应主触摸区301的角部位置设置。
其中,主触摸区301可以为平面结构,弯曲触摸区302沿主触摸区301的侧边一体延伸设置,过渡区303连接设于相邻的弯曲触摸区302之间,并对应与主触摸区301的角部位置,过渡区303与主触摸区301一体延伸设置。
进一步地,弯曲触摸区302和过渡区303朝向主触摸区301的同一侧弯曲延伸;即弯曲触摸区302和过渡区303朝向壳体20的方向弯折。其中,弯曲触摸区302和过渡区303的曲率半径可以相同。当然,在其他一些实施例中,弯曲触摸区302和过渡区303的曲率半径可以不同,例如,过渡区303的曲率半径大于弯曲触摸区302的曲率半径,如此结构可以降低过渡区303位置显示模组100的贴合难度。
请结合参阅图9和图10,触摸面板300贴设于显示模组100和显示屏盖板之间。主触摸区301对位贴合于主显示区101和主体部201之间,弯曲触摸区302对位贴合于弯曲显示区102和弯曲部202之间,过渡区303对位贴合于连接区103和连接部203之间。
在一些实施方式中,在本实施例中,弯曲显示区102、弯曲部202、弯曲触摸区302、连接区103、连接部203以及过渡区303的曲率半径相同。
其中,需要说明的是,在一些其他实施例中可以是弯曲显示区102、弯曲部202、弯曲触摸区302、连接区103、连接部203以及过渡区303的曲率半径不同,或者弯曲显示区102、弯曲部202和弯曲触摸区302的曲率半径相同,而连接区103、连接部203和过渡区303的曲率半径相同,还可以设计为连接区103、连接部203和过渡区303的曲率半径大于弯曲显示区102、弯曲部202和弯曲触摸区302的曲率半径。
在本申请的一些实施方式中,显示屏盖板200的弯曲部可以沿其主体部的四边一体延伸形成,显示模组100的弯曲显示区可以沿其主显示区的四边一体延伸形成,触摸面板300的弯曲触摸区可以沿其主触摸区的四边一体延伸形成,以形成具有四曲面的显示屏组件。
另外,本申请实施例提供的显示屏组件10包括显示模组100、显示屏盖板200以及触摸面板300,触摸面板300可以通过光学胶(Optical Clear Adhesive,OCA)贴设于显示模组100和显示屏盖板200之间,关于光学胶的种类在本领域技术人员的理解范围内,此处亦不再一一列举。其中,显示模组100可以为OLED柔性显示屏结构,具体可以为前述实施例中所述的显示模组100。此外,本实施例中关于电子设备的详细结构请参阅前述实施例的相关描述,此处亦不再赘述。
当然,在其他实施例中,触摸面板贴并不限于设于显示模组与显示屏盖板之间。可以理解的,为了提升显示屏组件的装配效率,可以将触摸面板与显示模组进行一体化结构设计或者将触摸面板与显示屏盖板进行一体化结构设计。例如,可以采用IN-CELL或者ON-CELL方式将触摸面板嵌入到显示模组中实现触摸面板与显示模组的一体化结构设计。再例如,可以采用OGS(One Glass Solution,单玻璃解决方案)方式或者TOL(Touch on Lens,一体化电容式触摸屏)方式实现触摸面板与显示屏盖板的一体化结构设计。
本申请实施例提供的显示屏组件,取消偏光片结构,通过在显示模组中设置第一光阻层以及第二光阻层,以阻挡光反射,保证降低反射率的效果,提升显示屏组件的显示效果。另外,取消偏光片结构,可以进一步实现显示屏组件的轻薄化结构设计。
另外,本申请实施例还提供一种电子设备,该电子设备包括壳体以及显示屏组件,壳体与显示屏组件的显示屏盖板连接,并共同围设形成容置空间,显示屏组件的显示模组设于容置空间内。需要说明的是,关于壳体以及显示屏组件的详细结构请参阅前述实施例的相关描述,此处亦不再赘述。
本申请实施例提供的电子设备、显示屏组件以及显示模组,取消偏光片结构,通过在显示模组中设置第一光阻层以及第二光阻层,以阻挡光反射,保证降低反射率的效果,提升显示效果。另外,取消偏光片结构,在实现四边弯曲形态的显示屏组件以及电子设备时,可以进一步实现显示屏组件以及电子设备的轻薄化结构设计。
本申请实施例还提供了一种显示模组的制作方法,请结合参阅图11和图12,图11为本申请实施例显示模组400制作时的结构示意图,该显示模组400可以为前述实施例中的显示模组100,即,显示模组400可以为OLED柔性显示屏。图12是本申请实施例制作方法的流程示意图,该制作方法大致上包括如下步骤。
步骤S501、提供一基板500,在基板500上形成基底膜401。其中,该基底膜401可以为前述实施例中的基底膜140,此处不再详述。
进一步地,基板500可以为硬质基板材料,例如玻璃基板、金属基板、石英基板或有机基板中的其中一种。硬质基板能够为贴附其上的基底膜401提供一个坚固而平坦的支撑面,使在基底膜401上形成的其它层状结构定位更加准确可靠。在本申请实施例中,基板500可以为玻璃基板,在该玻璃基板上涂覆粘结剂以形成粘结剂层501,该粘结剂可以覆盖玻璃基板的整面区域,也可以在保证粘接效果的前提下,覆盖玻璃基板的部分区域。覆盖玻璃基板的部分区域可以减少粘结剂的用量,降低成本,也可以避免过量的粘结剂在挤压的过程中溢出,影响产品质量。
具体地,通过玻璃基板上的粘结剂层501,将基底膜401贴附于玻璃基板上。基底膜401贴附在粘结剂层501上,使玻璃基板与基底膜401贴附在一起,即,在玻璃基板上形成基底膜401。
步骤S502、在基底膜401上依次间隔形成隔离层460和走线层470。
具体地,隔离层460用于隔离水汽及平坦化显示模组,采用绝缘材料制成。走线层470采用金属材料制成,用于信号传输。
例如,隔离层460可以包括SiNx-SiOx-a-Si结构层、SiNx-SiOx结构层、polymer(聚合物)结构层以及SiNi结构层。其中,SiNx-SiOx-a-Si结构层靠近基底膜401形成设置,polymer结构层靠近阳极420设置。
走线层470可以包括M1层、MC层以及M3层,其中,M1层、MC层以及M3层采用金属材料制成,例如,Mo、Ti、Al等。进一步地,M1层、MC层以及M3层可以通过物理气相沉积(PhysicalVapour Deposition,PVD)、原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)、脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)或溅射沉积(Sputter Deposition)而形成。
具体的,隔离层460和走线层470间隔设置,例如,在基底膜401上通过准分子激光退火工艺形成SiNx-SiOx-a-Si结构层。接着在SiNx-SiOx-a-Si结构层上通过PVD制程形成M1层,M1层方阻大致为0.41Ω。在M1层上形成SiNx-SiOx结构层,在SiNx-SiOx结构层上通过PVD制程形成MC层,MC层方阻大致为0.41Ω。在MC层上依次形成SiNx-SiOx结构层和polymer结构层,改善弯折区弯折可靠性以及补偿厚度段差。在polymer结构层上镀上Ti/Al/Ti合金形成M3层,M3层方阻大致为0.41Ω。最后在M3层上依次形成SiNi结构层和polymer结构层,平坦化间隔形成的隔离层460和走线层470,以达到平坦化显示模组的目的。
步骤S503、在远离基底膜401的隔离层460上形成阳极层410。通过蒸镀工艺在基底膜401上形成阳极层410,采用掩膜版通过构图工艺形成阳极层410的图形。
步骤S504、在阳极层410上形成发光层430。通过光刻胶蚀刻工艺在阳极层410上形成发光层430。具体而言,在阳极层410上涂敷形成发光层430的材料,并在该材料上涂敷一层光刻胶,采用掩膜版对光刻胶进行曝光并进行显影,去除剩余的光刻胶,进而得到可以发出RGB三色光的发光层430。
步骤S505、在发光层430上形成阴极层420。通过蒸镀工艺在发光层430上形成阴极层420。
步骤S506、在阴极层420上形成封装层450。通过薄膜封装(Thin-FilmEncapsulation,TFE)工艺在阴极层420上形成封装层450。
步骤S507、分离基板500与基底膜401,以得到显示模组400。
需要说明的是,由于基板500与基底膜401通过粘结剂层501连接,因此,可以根据粘结剂层501的粘结剂的特性采用不同的分离方法,以实现基板500与基底膜401的分离。例如,本申请实施例中采用激光去除的方式去除基板500与基底膜401之间的粘结剂层501,即,采用激光剥离的方式剥离基板500与基底膜401,达到分离基板500与基底膜401的目的。
当然,在其他实施例中,可以采用具有吸湿溶胀性质的粘结剂形成粘结剂层501,具有吸湿溶胀性质的粘结剂能够在与水接触后发生吸湿溶胀,使得粘结剂的内部结构被破坏,结合力减弱,可以方便快速的将基板500与基底膜401剥离。
需要说明的是,本申请实施例中的阳极层410、发光层430、阴极层420、封装层450、隔离层460以及走线层470的结构可以分别为前述实施例中阳极层110、发光层130、阴极层120、封装层150、隔离层160以及走线层170的结构,此处不再详述。
进一步地,请参阅图13,在阳极层410上形成发光层430包括:在阳极层410上涂覆第一光阻层411,并通过曝光显影在第一光阻层411上形成开口区域412;在第一光阻层411的开口区域412形成发光层430。其中,第一光阻层411采用黑色的光阻材料制成。
进一步地,在阴极层420上形成封装层450之前包括:在阴极层420远离发光层430的一面涂覆第二光阻层421。其中,第二光阻层421涂覆于阴极层420远离发光层430的一面,第二光阻层421采用黑色的光阻材料制成。封装层150通过TFE工艺形成于第二光阻层421之上。
可以理解的,第一光阻层411可以为前述实施例中的第一光阻层111,第二光阻层421可以为前述实施例中的第二光阻层121,此处不再详述。
本实施例提供的制作方法,结合前述显示模组的结构,取消偏光片结构,节省工艺流程且操作简单。另外,通过在显示模组中设置第一光阻层以及第二光阻层,以阻挡光反射,保证降低反射率的效果,提升显示效果。
需要说明的是,术语“包括”和“具有”以及他们任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元,而是可选地还包括没有列出的步骤或单元,或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设置固有的其他步骤或单元。
以上所述仅为本申请的部分实施例,并非因此限制本申请的保护范围,凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效装置或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (15)

1.一种显示模组,其特征在于,包括阳极层、阴极层以及设置于所述阳极层与所述阴极层之间的发光层;其中,
在所述阳极层靠近所述阴极层的一面形成具有开口区域的第一光阻层,在所述第一光阻层的开口区域形成所述发光层,以使得所述发光层覆盖于所述阳极层靠近所述阴极层的一面,并遮挡所述阳极层暴露在所述开口区域的部位。
2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述阴极层远离所述发光层的一面涂覆有第二光阻层,以阻挡所述阴极层的光反射。
3.根据权利要求2所示的显示模组,其特征在于,所述第一光阻层和所述第二光阻层均采用黑色的光阻材料制成。
4.根据权利要求3所述的显示模组,其特征在于,所述第二光阻层的厚度为0.67~1.33μm。
5.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,还包括基底膜以及封装层,所述基底膜与所述封装层之间依次设置有所述阳极层、所述发光层以及所述阴极层;所述阳极层与所述基底膜之间间隔设置有隔离层和走线层。
6.一种显示屏组件,其特征在于,包括:
显示屏盖板,包括主体部和弯曲部;所述弯曲部沿所述主体部的侧边一体延伸设置;
显示模组,包括主显示区和弯曲显示区,所述弯曲显示区沿所述主显示区的侧边一体延伸设置;
其中,所述显示模组为权利要求1-5任一项权利要求所述的显示模组,所述显示模组贴设于所述显示屏盖板的所述弯曲部朝向的一侧表面,所述主显示区与所述主体部对位贴合,所述弯曲显示区与所述弯曲部对位贴合。
7.根据权利要求6所述的显示屏组件,其特征在于,还包括触摸面板,所述触摸面板贴设于所述显示屏盖板与所述显示模组之间;其中,所述触摸面板包括主触摸区和弯曲触摸区,所述弯曲触摸区沿所述主触摸区的侧边一体延伸设置。
8.根据权利要求7所述的显示屏组件,其特征在于,所述主触摸区对位贴合于所述主显示区和所述主体部之间,所述弯曲触摸区对位贴合于所述弯曲显示区和所述弯曲部之间。
9.根据权利要求8所述的显示屏组件,其特征在于,所述触摸面板通过光学胶贴设于所述显示模组和所述显示屏盖板之间。
10.根据权利要求9所述的显示屏组件,其特征在于,所述显示屏盖板的弯曲部沿所述主体部的四边一体延伸形成,所述显示模组的弯曲显示区沿所述主显示区的四边一体延伸形成,所述触摸面板的弯曲触摸区沿所述主触摸区的四边一体延伸形成,以形成具有四曲面的显示屏组件。
11.根据权利要求10所述的显示屏组件,其特征在于,所述显示屏盖板还包括连接部,所述连接部分别与所述主体部以及相邻的所述弯曲部连接,所述连接部对应所述主体部的角部位置设置;
所述显示模组还包括连接区,所述连接区分别与所述主显示区以及相邻的所述弯曲显示区连接,所述连接区对应所述主显示区的角部位置设置;
所述触摸面板还包括过渡区,所述过渡区分别与主触摸区以及相邻的弯曲触摸区连接,所述过渡区对应所述主触摸区的角部位置设置;
其中,所述连接区与所述连接部对位贴合,所述过渡区对位贴合于所述连接区和所述连接部之间。
12.一种电子设备,其特征在于,包括壳体以及权利要求6-11任一项权利要求所述的显示屏组件;所述壳体与所述显示屏盖板连接,并共同围设形成容置空间,所述显示模组设于所述容置空间内。
13.一种显示模组的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
提供一基板,在所述基板上形成基底膜;
在所述基底膜上依次间隔形成隔离层和走线层;
在远离所述基底膜的所述隔离层上形成阳极层;
在所述阳极层上形成发光层;
在所述发光层上形成阴极层;
在所述阴极层上形成封装层;
分离所述基底膜与所述基板,以得到所述显示模组。
14.根据权利要求13所述的制作方法,其特征在于,所述在所述阳极层上形成发光层包括:
在所述阳极层上涂覆第一光阻层,并通过曝光显影在所述第一光阻层上形成开口区域,在所述第一光阻层的开口区域形成所述发光层。
15.根据权利要求14所述的制作方法,其特征在于,所述在所述阴极层上形成封装层之前包括:
在所述阴极层远离所述发光层的一面涂覆第二光阻层。
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