CN112904631A - 一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置，阵列基板包括多个子像素单元，所述子像素单元包括开关器件和像素电极，所述开关器件包括源极和漏极；所述阵列基板上还设置第一衬垫层和色阻，所述第一衬垫层包括多个第一通孔，且第一衬垫层背离所述玻璃基板一侧的表面具有凹槽，所述色阻至少部分填充在所述凹槽内，所述像素电极通过所述第一通孔与所述漏极电连接。本发明在保证孔径尺寸的偏差处于预设范围的同时，也保证了色阻图形尺寸的偏差处于预设范围，从而保证像素电极与漏极具有良好的连接性，也保证了色彩的均一性。

Description

一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置。

背景技术

现有技术中通常将色阻设置在彩膜基板上，将传递信号的数据线设置在阵列基板上，那么在中大尺寸液晶显示屏对位贴合或者曲面屏、柔性显示屏弯折过程中，部分像素对应的色阻与该像素对应的数据线之间会存在偏位，从而影响正常的显示。由此COA(ColorFilter On Array)技术应运而生，COA是将彩色光阻集成于阵列基板膜层中，形成带有彩色滤光层的阵列基板。可以避免在阵列基板和对置基板对位贴合或者显示屏折叠弯曲的过程中，色阻与数据线发生错位，造成显示屏开口过小，亮度过低的问题，从而极大提升了显示品质。

COA技术中，阵列基板上的金属膜层需要经过高温制程，而色阻材料无法经受太高的温度，且为了不影响显示，像素电极必须设置在靠近液晶层的一侧，且像素电极必须与金属电极进行电连接，那么就需要对金属电极、色阻以及像素电极进行合理的膜层安排，且不能影响显示屏的电学、光学特性等，因此亟需本领域技术人员提出相应的设计方案。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置。

第一方面，本申请提供一种阵列基板，包括玻璃基板；

所述玻璃基板上设置有多个子像素单元，每个所述子像素单元包括一个开关器件，所述开关器件包括源极和漏极；

所述玻璃基板上还设置第一衬垫层，所述第一衬垫层位于所述漏极背离所述玻璃基板一侧，所述第一衬垫层包括多个第一通孔，所述第一衬垫层背离所述玻璃基板一侧的表面具有凹槽，每个所述子像素单元包括所述第一通孔和一个所述凹槽；

所述玻璃基板上还设置色阻，所述色阻至少部分填充在所述凹槽内，所述色阻在所述玻璃基板的垂直投影至少覆盖所述凹槽在所述玻璃基板的垂直投影；

所述玻璃基板上还设置像素电极，每个所述子像素单元包括所述像素电极，所述像素电极位于所述色阻背离所述漏极一侧，所述像素电极通过所述第一通孔与所述漏极电连接。

第二方面，本申请提供一种阵列基板的制备方法，其特征在于，提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上制备开关器件；

在所述开关器件背离所述玻璃基板一侧制备第一衬垫层；

在所述第一衬垫层上背离所述开关器件一侧表面形成第一通孔和凹槽；

在所述凹槽内填充色阻；

在所述色阻背离所述开关器件一侧制备公共电极和像素电极。

第三方面，本申请提供一种显示面板，包括本申请所提供的阵列基板，所述显示面板还包括对置基板及液晶层，所述对置基板与所述阵列基板相对设置，并且所述液晶层设置在所述对置基板与所述阵列基板之间。

第四方面，本申请还提供一种显示装置，包括本申请所提供的显示面板。

与现有技术相比，本发明申请提供的阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置，至少实现了如下的有益效果：

本发明申请提供的阵列基板及其制备方法、显示面及显示装置中，阵列基板包括第一衬垫层，且第一衬垫层包括第一通孔和多个凹槽，色阻至少部分填充在凹槽内，且像素电极通过第一通孔和漏极进行电连接，本发明申请提供的COA结构，在第一衬垫层上进行开孔，从而避免了在色阻上进行开小孔，避免发生孔边缘色阻残留，孔径过小，甚至无法曝开的问题，在第一衬垫层上开孔，能够有效保证孔径尺寸处于预设的尺寸偏差范围，同时也不影响色阻的工艺制程，使得色阻的图形尺寸也处于预设的尺寸偏差范围，从而保证像素电极与漏极具有良好的连接性同时，也保证了色彩的均一性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。

图1为现有技术提供的一种阵列基板示意图；

图2为图1S区域的局部放大图；

图3为图1沿剖线A-A’的一种截面示意图；

图4为本发明实施例提供的一种阵列基板示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种阵列基板示意图；

图6为图4沿剖线B-B’的一种截面示意图；

图7为图4沿剖线B-B’的另一种截面示意图；

图8为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；

图9为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；

图10为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；

图11为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；

图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板示意图；

图13为图12沿剖线C-C’的一种截面示意图；

图14为图12沿剖线C-C’的另一种截面示意图；

图15为本发明实施例提供的一种阵列基板的制备方法流程图；

图16为本发明实施例提供的一种显示面板截面示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明中的实施例进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如上所述，把彩色光阻材料集成在阵列基板一侧，同时要保证不影响显示屏的电学、光学特性，需要对金属电极、色阻以及像素电极进行合理的膜层设计；如阵列基板上具有开关器件，开关器件包括有源层和多个金属层，多个金属层包括栅极金属层、源极和漏极金属层，金属电极在制备过程中需要高温退火工艺，这使得金属电极本身具有较好的稳定性，源极和漏极与有源层具有良好的欧姆接触等，然而高温处理制程会使得彩色光阻材料的特性发生微改变，因此通常在部分金属电极制备完成后，再涂布彩色光阻。

在阵列基板上还包括公共电极、像素电极，其用于驱动液晶旋转，若把彩色光阻置于公共电极、像素电极背离玻璃基板一侧，也就是靠近液晶层的一侧，会使得驱动液晶的电场大大减弱，所以需把彩色光阻置于公共电极、像素电极和金属电极之间，但像素电极需要与金属电极进行电连接，所以要在彩色光阻上开通孔，像素电极与金属电极通过彩色光阻所开的通孔进行电连接，然而由于彩色光阻本身的材料特性，无法将彩色光阻的图形尺寸和通孔的孔径尺寸都保持在预设的尺寸偏差范围内，如使得彩色光阻的图形尺寸保持在预设的尺寸偏差范围内，则孔径尺寸就会超出预设的尺寸偏差范围，甚至发生孔边缘光阻残留，孔径过小等问题；反之，若使得孔径尺寸保持在预设的尺寸偏差范围内，那么彩色光阻的图形尺寸就无法处于预设的尺寸偏差范围，两者无法兼容。

具体地，参照图1至图3，图1为现有技术提供的一种阵列基板示意图，图2为图1S区域的局部放大图，图3为图1沿剖线A-A’的一种截面示意图；需要说明的是，为了清楚说明现有技术提供的阵列基板存在的问题，图1中并没有示出开关器件和公共电极，所述开关器件在图2和图3中示出，公共电极在图3中示出，现有设计提供的一种阵列基板10，阵列基板10包括玻璃基板100，所述玻璃基板100上设置多个子像素单元P，每个所述子像素单元P包括开关器件11，所述开关器件11包括栅极111、源极112和漏极113，所述源极112和漏极113设置在同一层，且设置在栅极111背离玻璃基板100的一侧；所述玻璃基板100上还设置色阻12，每个子像素单元P包括一种颜色的色阻12，所述色阻12置于源极112和漏极113背离玻璃基板100的一侧，子像素单元P还包括公共电极13和像素电极14，所述公共电极13和像素电极14设置在色阻12背离玻璃基板100的一侧，也就是说在垂直玻璃基板100的方向上，阵列基板10依次设置有玻璃基板100、栅极111、源极112和漏极113、色阻12、公共电极13和像素电极14。

这样像素电极14需要和漏极113进行电连接，就需要穿过色阻12所在层，因此需要在色阻12所在层上刻蚀出通孔K，像素电极14通过通孔K与漏极113电连接，如上所述，在色阻层上开通孔，会出现孔径尺寸与预设尺寸偏差较大，孔内边缘光阻残留等问题。

基于上述问题，参照图4、图5和图6，图4为本发明实施例提供的一种阵列基板示意图，图5为本发明实施例提供的另一种阵列基板示意图，图6为图4沿剖线B-B’的一种截面示意图；同样，为了清楚说明本发明申请提供的阵列基板的结构设计，图4和图5中并没有示出开关器件和公共电极，所述开关器件和公共电极在图6中示出；如图4，本发明实施例提供的一种阵列基板20，包括玻璃基板200，玻璃基板200上设置有多个子像素单元D，每个子像素单元D设置开关器件21，所述开关器件21包括栅极211、源极212和漏极213；所述源极212和漏极213位于栅极211背离玻璃基板200的一侧，所述源极232和漏极233位于同一层，需要说明的是本发明申请并不限定开关器件中金属电极层的结构位置，图6只示出开关器件中金属电极膜层设计的其中一种情况。

玻璃基板200上还设置第一衬垫层25，第一衬垫层25位于漏极213背离玻璃基板200一侧，且第一衬垫层25上设置有多个第一通孔H1，第一衬垫层25背离玻璃基板200一侧的表面具有凹槽C1，每个子像素单元D包括第一通孔H1和一个凹槽C1，也就是在每个子像素单元D所对应的区域内的第一衬垫层25上预先进行开通孔和挖槽的操作。

玻璃基板200上还设置有色阻22，且色阻22至少部分填充在凹槽C1内，色阻22可以全部填充在凹槽C1内，也就是说在第一衬垫层25上预先挖槽，且槽的深度与色阻22的预设深度一致，这里所述的深度指的是沿垂直于玻璃基板200的方向上的深度；色阻22也可以部分填充在凹槽C1内，也就是说在第一衬垫层25上预先挖槽，且槽的深度小于色阻22的预设深度，凹槽C1内被色阻22的一部分填满，色阻的另一部分置于第一衬垫层25背离玻璃基板200一侧的表面上。如图4和图6中的阵列基板20，第一衬垫层25上的凹槽C1与色阻22的深度一致，也就是色阻22全部置于凹槽C1内；如图5的阵列基板30，阵列基板30上设置的色阻32，其中一部分填充在第一衬垫层35中的凹槽C1内，另一部分置于第一衬垫层35背离玻璃基板一侧的表面上，本发明申请中，在把色阻32填充在凹槽C1的工艺制程中，相当于色阻32所在层上，不同子像素单元D中的色阻32是分开的，也就是每个子像素单元D的色阻32是块状的设计，但是在实际工艺制程中，可能出现色阻32不完全填充在凹槽C1的情况，此时可能需要对每个色阻块的四角区域G进行补偿，防止色阻块的四角出现漏光，又因为色阻具有一定的流动性，所以相邻行相同色阻块的四角可能是连在一起的，形成带有镂空区域的色阻条，此镂空区域在阵列基板30的垂直投影覆盖第一通孔H1在阵列基板30的垂直投影。需要说明的是，色阻32在阵列基板30的垂直投影至少覆盖凹槽C1在阵列基板30的垂直投影，也就是说在阵列基板30所在的平面上，凹槽C1所在的区域内均要覆盖色阻32，防止凹槽C1所在的区域发生漏光的现象。

玻璃基板200上还设置有像素电极24，每个子像素单元D包括像素电极24，像素电极24设置于色阻22背离漏极213的一侧，也就是色阻22位于漏极213和像素电极24之间，且像素电极24与漏极213之间通过第一通孔H1进行电连接。

本发明申请通过在第一衬垫层25上设置第一通孔H1和凹槽C1，从而避免在色阻上开设小孔，有利于保证孔径的大小和尺寸精度，且开孔工艺易于实现，把色阻22填充进第一衬垫层25上的凹槽C1内，也能较好地保证色阻22图形的尺寸偏差精度，使得像素电极24与漏极213具有良好的连接性，同时保证显示面板色彩的均一性。

可选地，继续参照图6，玻璃基板200上还设置有第一平坦化层，第一平坦化层位于漏极213和像素电极24之间，第一衬垫层25可以为第一平坦化层，通常平坦化层的膜层厚度较大，这里所述的膜层厚度指的是垂直玻璃基板方向上的厚度，在平坦化层上挖槽，可使得槽的深度足够大，从而保证至少部分色阻能够填充在平坦化层的凹槽内，也就是说在垂直玻璃基板200的方向上，第一平坦化层25的凹槽C1所占用的厚度也是一部分色阻22所占用的厚度，相当于第一平坦化层25和色阻22共用这部分厚度，进而在一定程度上减薄了COA基板的厚度。可选地，第一衬垫层25也可以为光感OC(Over coating)材料，OC材料具有高的透明性和良好的平坦性，能够有效地保证阵列基板色彩的纯度和均一性。

可选地，参照图7，图7为图4沿剖线B-B’的另一种截面示意图；图7中，在垂直阵列基板的方向上，凹槽C1贯穿第一衬垫层25，也就是说第一衬垫层25的凹槽C1所对应的位置也可以进行挖空，此时的凹槽C1为通槽，再把色阻22填充在通槽内，从而能在一定程度上减薄COA基板的厚度。

可选地，继续参照图7，第一衬垫层25也可为黑色矩阵层，此时在黑色矩阵上挖的凹槽C1为通槽，因为子像素单元D的凹槽C1内填充色阻22，显示面板所设置的背光需要通过基板上的色阻层实现色彩显示，也就是说填充色阻22的区域为子像素单元D的开口区，而黑色矩阵层具有遮光的特性，所以在黑色矩阵层上的凹槽C1必须设置为通槽，使得黑色矩阵层不完全遮挡透过COA基板的光。

可选地，参照图8，图8为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；在玻璃基板200上还设置有第三平坦化层26，第三平坦化层26位于黑色矩阵层25和漏极213之间，且第三平坦化层26上包括第三通孔H3，每个子像素单元D包括第三通孔H3，且第三通孔H3在玻璃基板200的垂直投影与第一通孔H1在玻璃基板的垂直投影至少部分交叠，也就是说漏极213上先设置一层第三平坦化层26，再在第三平坦化层26上设置黑色矩阵层25，黑色矩阵层25上的第一通孔H1和第三平坦化层26上的第三通孔H3至少部分交叠，使得像素电极24能过通过第一通孔H1和第三通孔H3与漏极213进行电连接，这样能够使得黑色矩阵层25沉积在平坦的表面上，从而避免黑色矩阵层25沉积在不平坦的表面而发生厚度不均一，甚至发生断层的问题。

可选地，参照图9，图9为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；玻璃基板200上还设置有第二衬垫层27，色阻22位于第一衬垫层25和第二衬垫层27之间，且第二衬垫层27位于色阻22和像素电极24之间，也就是说在玻璃基板200上，依次设置漏极213、第一衬垫层25、色阻22、第二衬垫层27、像素电极24，因为在色阻22部分填充于第一衬垫层25的凹槽C1内的情况下，色阻的另一部分会蔓延至第一衬垫层25背离玻璃基板200一侧的表面上，在凹槽C1外部的这部分色阻22较难保证其表面的平坦度，通常色阻的边缘较中心区域要厚，又或者色阻22完全填充在第一衬垫层25的凹槽C1内，但并没有把凹槽C1填满，那么第一衬垫层25背离玻璃基板200一侧的表面也会不平坦；那么通过在色阻22背离玻璃基板200一侧的表面设置一层第二衬垫层27，也就是第二衬垫层27的一部分会覆盖色阻22，另一部分则覆盖第一衬垫层25，有利于使得第一衬垫层25和色阻22所形成的段差能够减小，从而使得公共电极23和像素电极24能够被制备在较平坦的表面上；同时第二衬垫层也需要进行开第二通孔H2，每个子像素单元D包括第二通孔H2，且第二通孔H2在玻璃基板200的垂直投影与第一通孔H1在玻璃基板200的垂直投影至少部分交叠，使得像素电极24能过通过第一通孔H1和第三通孔H2与漏极213进行电连接。

可选地，继续参照图9，玻璃基板200上还设置有第二平坦化层，第二平坦化层设置在色阻22和像素电极23之间，第二衬垫层27也可以为第二平坦化层。第二平坦化层27可以充分弥补第一衬垫层25和色阻22所形成的段差，使得公共电极23和像素电极24能够被制备在平坦的表面上，从而保证了公共电极和像素电极膜层厚度的均一性。

可选地，参照图10，图10为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；图10中，其中第一衬垫层25为黑色矩阵层，第二衬垫层27为第二平坦化层，因为通常第一衬垫层25为黑色矩阵层时，色阻22会蔓延至黑色矩阵层25的凹槽C1的外部，也就是黑色矩阵层25和色阻22之间会形成较大的段差，此时需要增加第二平坦化层27对段差进行补偿。

本发明申请对第一衬垫层和第二衬垫层的材料并不限制，也就是说第一衬垫层25可选平坦化层材料、黑色矩阵层材料，也可选择两者之外的；第二衬垫层27可选平坦化层材料，也可选择其他材料，只要能起到本发明申请所描述的有益效果均可。

可选地，参照图11，图11为图4沿剖线B-B’的又一种截面示意图；沿着垂直阵列基板的方向上，第一衬垫层25上的凹槽C1的深度不同，由于玻璃基板200上所设置的色阻22，至少包括三种不同颜色色阻，三种不同颜色色阻可为红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，而为了满足预设的色彩纯度要求，不同颜色色阻的厚度通常是不同的，如图11中，第二颜色色阻222的厚度大于第一颜色色阻221的厚度，则可在第一衬垫层25上欲先挖出匹配色阻厚度的凹槽C11和凹槽C12，从而使得色阻22在背离玻璃基板200一侧的表面到第一衬垫层25在背离玻璃基板200一侧的表面的距离接近一致，从而有利于保证后续制备的公共电极和像素电极的膜厚均一性。

可选地，凹槽C1在阵列基板的垂直投影可为圆形、椭圆形、矩形、菱形、正多边形，也就是子像素单元D的开口和/或色阻22在阵列基板的垂直投影可为圆形、椭圆形、矩形、菱形、正多边形，规则图形有利于预设图形在工艺制程中能被较好地制备出来，当然本发明并不限制凹槽C1、子像素单元开口和色阻在阵列基板投影的形状。

可选地，参照图12和图13，图12为本发明实施例提供的又一种阵列基板示意图，图13为图12沿剖线C-C’的一种截面示意图；需要说明的是，为了清楚说明本发明申请提供的阵列基板的结构设计，图12中未显示出第一通孔H1，第一通孔H1在图13中体现；本发明实施例提供的阵列基板40，包括玻璃基板400，玻璃基板400上设置有金属块49，此金属块49设置在色阻42和像素电极44之间，且金属块49在玻璃基板400的垂直投影至少覆盖第一通孔H1在玻璃间400的垂直投影，像素电极44通过金属块49与漏极413进行电连接。因为像素电极44与漏极413之间进行电连接，至少需要穿过其与公共电极43之间的绝缘层46、公共电极43层和第一衬垫层45，也就是至少需要在这三层上进行开通孔，通常此通孔的深度比较大，那么像素电极44需要经过深孔与漏极413进行电连接，通过增加金属块49，也就是把金属块49置于漏极413与像素电极44之间，也就是在深孔中部分填充像素电极44的材料，部分填充金属块49的材料，使得像素电极44先电连接至金属块49，金属块49再电连接至漏极413，从而避免在深孔内只沉积像素电极材料时，可能发生孔内像素电极材料填充不满，孔内像素电极材料与绝缘层46表面上的像素电极44发生断裂等现象，从而导致像素电极44与漏极413无法形成良好的电连接。本发明申请不限制金属块49的材料，如金属块49的材料可以为ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)、铝、钼或合金。

可选地，继续参照图12和图14，图14为图12沿剖线C-C’的另一种截面示意图；本发明实施例提供的阵列基板40，包括玻璃基板400，玻璃基板400上还设置有触控线48，所述触控线48可设置于色阻42和像素电极44之间，且金属块49与触控线48设置在同一层，也就是说金属块49和触控线48可在同一道工艺制程中，采用同一张掩膜版进行制备，这样不仅具有上述有益效果，而且不需要额外增加工艺制程，有利于COA基板的薄型化，也有利于成本的最优化设计。

本发明实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，具体地，参照图15，图15为本发明实施例提供的一种阵列基板的制备方法流程图；如图15所示，制作方法包括：

步骤S1：提供玻璃基板200。

步骤S2：在玻璃基板200之上制备开关器件21；具体的，开关器件21包括栅极211、源极212和漏极213；所述源极212和漏极213位于栅极211背离玻璃基板200的一侧，所述源极232和漏极233位于同一层，本发明申请并不限定开关器件中金属电极层的结构位置，也即栅极211、源极212和漏极213也可以置于图14以外其他膜层位置。

步骤S3：在开关器件21背离玻璃基板200一侧制备第一衬垫层25。

步骤S4：在第一衬垫层25背离开关器件21一侧表面形成第一通孔H1和凹槽C1，其中凹槽C1也可以是通槽，也就是在垂直玻璃基板200的方向上，凹槽C1可贯穿第一衬垫层25。

步骤S5：在凹槽内C1填充色阻22；

步骤S6：在色阻22背离开关器件21一侧制备公共电极23和像素电极24。本发明实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括上述阵列基板，具体如图16所示，图16为本发明实施例提供的一种显示面板截面示意图；本发明实施例提供的一种显示面板5，包括阵列基板50、对置基板51和液晶层52，对置基板51和阵列基板50相对设置，液晶层52设置在对置基板51和阵列基板50之间。

可选地，继续参照图16，显示面板5还包括第二黑色矩阵层53，所述第二黑色矩阵层53在阵列基板50的垂直投影至少覆盖第一通孔H1、第二通孔H2和第三通孔H3(图中未显示第二通孔H2和第三通孔H3)在阵列基板50的垂直投影，因为第一通孔H1、第二通孔H2和第三通孔H3处为阵列基板上的电极连接处，通孔内的金属会发生反光现象，因此需要第二黑色矩阵层53进行遮光。且黑色矩阵层53可位于阵列基板50一侧，也可位于对置基板51一侧，需要说明的是，图15只显示第二黑色矩阵层53位于对置基板51一侧的情况，在可实现的其他实施例中，第二黑色矩阵层53也可位于阵列基板50一侧；显示面板5还包括支撑柱54，此支撑柱54在阵列基板50的垂直投影在第二黑色矩阵层53在阵列基板50的垂直投影的内部，此支撑柱54对显示面板起到支撑作用，且支撑柱54可位于阵列基板50一侧，也可位于对置基板51一侧，本发明对此不做限制。

本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括智能手机、平板显示装置、笔记本显示装置、车载中控等显示终端产品，所述显示装置包括上述显示面板，所述显示面板和显示装置产生的有益效果也如上述实施例所描述的有益效果，这里不再进行赘述。

上述说明示出并描述了本申请的若干优选实施例，但如前所述，应当理解本申请并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述发明构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本申请的精神和范围，则都应在本申请所附权利要求的保护范围内。

Claims (15)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括玻璃基板；

所述玻璃基板上设置有多个子像素单元，每个所述子像素单元包括一个开关器件，所述开关器件包括源极和漏极；

所述玻璃基板上还设置第一衬垫层，所述第一衬垫层位于所述漏极背离所述玻璃基板一侧，所述第一衬垫层包括多个第一通孔，所述第一衬垫层背离所述玻璃基板一侧的表面具有凹槽，每个所述子像素单元包括所述第一通孔和一个所述凹槽；

所述玻璃基板上还设置色阻，所述色阻至少部分填充在所述凹槽内，所述色阻在所述玻璃基板的垂直投影至少覆盖所述凹槽在所述玻璃基板的垂直投影；

所述玻璃基板上还设置像素电极，每个所述子像素单元包括所述像素电极，所述像素电极位于所述色阻背离所述漏极一侧，所述像素电极通过所述第一通孔与所述漏极电连接。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述玻璃基板上设置有第一平坦化层，所述第一平坦化层位于所述漏极与所述像素电极之间，所述第一衬垫层为第一平坦化层。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在垂直于所述阵列基板的方向上，所述凹槽贯穿所述第一衬垫层。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一衬垫层为黑色矩阵层。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述玻璃基板上还设置有第三平坦化层，所述第三平坦化层位于所述黑色矩阵层和所述漏极之间，且所述第三平坦化层上包括第三通孔，每个所述子像素单元包括所述第三通孔，所述第三通孔在所述玻璃基板的垂直投影与所述第一通孔在所述玻璃基板的垂直投影至少部分交叠。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述玻璃基板上还设置第二衬垫层，所述色阻位于所述第一衬垫层和所述第二衬垫层之间，且所述第二衬垫层位于所述色阻和所述像素电极之间，所述第二衬垫层包括第二通孔，每个所述子像素单元包括所述第二通孔，所述第二通孔在所述玻璃基板的垂直投影与所述第一通孔在所述玻璃基板的垂直投影至少部分交叠。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述玻璃基板上设置有第二平坦化层，所述第二平坦化层设置在所述色阻和所述像素电极之间，所述第二衬垫层为所述第二平坦化层。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿着垂直所述阵列基板的方向上，所述凹槽的深度不同。

9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽在所述阵列基板的垂直投影为圆形、椭圆形、矩形、菱形、正多边形。

10.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述玻璃基板上还设置有金属块，所述金属块位于所述色阻与所述像素电极之间，所述金属块在所述玻璃基板的垂直投影至少覆盖所述第一通孔在所述玻璃基板的垂直投影，所述像素电极通过所述金属块与所述漏极电连接。

11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，所述玻璃基板上还设置有触控线，所述金属块与所述触控线设置在同一层。

12.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上制备开关器件；

在所述开关器件背离所述玻璃基板一侧制备第一衬垫层；

在所述第一衬垫层上背离所述开关器件一侧表面形成第一通孔和凹槽；

在所述凹槽内填充色阻；

在所述色阻背离所述开关器件一侧制备公共电极和像素电极。

13.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1～11所述的阵列基板，所述显示面板还包括对置基板及液晶层，所述对置基板与所述阵列基板相对设置，并且所述液晶层设置在所述对置基板与所述阵列基板之间。

14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括第二黑色矩阵层，所述第二黑色矩阵层在所述玻璃基板的垂直投影至少覆盖所述第一通孔、第二通孔和第三通孔在所述玻璃基板的垂直投影；

所述第二黑色矩阵层位于所述阵列基板或者所述对置基板。

15.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求13～14所述的显示面板。

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