CN112885878A - 显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开实施例提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置。显示基板包括显示区域和环绕显示区域的非显示区域，非显示区域设置有公共接地端电压电路走线，显示基板在非显示区域的结构包括：衬底；无机膜层，位于衬底的一侧；金属层，位于无机膜层远离衬底的一侧，包括多个块状单元，任意相邻两个块状单元间存在间隙；及阳极材料层，位于金属层远离无机膜层的一侧，阳极材料层覆盖金属层并填充各个间隙；其中，公共接地端电压电路走线包括阳极材料层与金属层。

Description

显示基板及其制作方法、显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

由于具有自发光、对比度高、视角宽、功耗低、响应速度快以及制造成本低等一系列优异特性，有机发光器件作为新一代显示装置的基础，受到越来越多的关注。

有机发光显示基板包括显示区域和环绕显示区域的非显示区域。有机发光显示基板在非显示区域的封装性能，是制约有机发光显示装置走向大规模应用的一个关键问题。

发明内容

本公开实施例的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，以改善显示基板的封装性能，进而提高产品的良率。具体技术方案如下：

本公开实施例的一个方面，提供了一种显示基板，包括显示区域和环绕所述显示区域的非显示区域，所述非显示区域设置有公共接地端电压电路走线，所述显示基板在所述非显示区域的结构包括：

衬底；

无机膜层，位于所述衬底的一侧；

金属层，位于所述无机膜层远离所述衬底的一侧，包括多个块状单元，任意相邻两个块状单元间存在间隙；及

阳极材料层，位于所述金属层远离所述无机膜层的一侧，所述阳极材料层覆盖所述金属层并填充各个间隙；

其中，所述公共接地端电压电路走线包括所述阳极材料层与所述金属层。

一些实施例中，所述金属层为栅金属层或数据金属层。

一些实施例中，所述金属层包括沿远离所述无机膜层方向依次设置的钛层、铝层和钛层，或者，所述金属层包括沿远离所述无机膜层方向依次设置的钼层、铝层和钼层。

一些实施例中，所述多个块状单元在所述金属层上的正投影均呈矩形或圆形。

一些实施例中，所述多个块状单元呈阵列状均匀排布；或

所述多个块状单元沿预设方向均匀依次排列，所述预设方向为所述金属层的长度方向或所述金属层的宽度方向。

一些实施例中，所述多个块状单元的远离所述金属层的表面在所述金属层上的正投影，落入所述多个块状单元的靠近所述金属层的表面在所述金属层上的正投影内。

本公开实施例的另一个方面，提供了一种显示基板的制作方法，所述显示基板包括显示区域和环绕所述显示区域的非显示区域，所述非显示区域设置有公共接地端电压电路走线，所述显示基板的制作方法包括：

在衬底的一侧形成无机膜层，所述无机膜层包括位于所述非显示区域的部分；

在所述无机膜层远离所述衬底的一侧形成金属层，所述金属层包括位于所述非显示区域的部分，且所述金属层的位于所述非显示区域的部分包括多个块状单元，任意相邻两个块状单元间存在间隙；

在所述金属层远离所述无机膜层的一侧形成阳极材料层，所述阳极材料层包括位于所述非显示区域的部分，且所述阳极材料层的位于所述非显示区域的部分覆盖所述金属层并填充各个间隙；

所述公共接地端电压电路走线包括所述阳极材料层与所述金属层。

本公开实施例的又一个方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述任一所述的显示基板。

本公开实施例有益效果：

本公开实施例提供的一种显示基板及其制作方法、显示装置，该显示基板的公共接地端电压电路走线包括层叠设置的金属层和阳极材料层。其中，金属层包括多个块状单元，并且任意相邻两个块状单元间具有间隙，也就是说，多个块状单元的设置形成了多个间隙。阳极材料层覆盖金属层且填充了各个间隙，从而增大了阳极材料层与金属层的接触面积和结合力，使得金属层与阳极材料层不易发生剥离，进而，减少了显示基板的进行新黑点的产生。因此，采用本公开实施例显示基板的设计可以改善显示基板的封装性能，进而提高产品的良率。

当然，实施本公开的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上的所有优点。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的实施例。

图1为相关技术中一种有机发光显示基板的非显示区域的一种侧视图；

图2为本公开一些实施例的显示基板的主视示意图；

图3为本公开一些实施例的显示基板在图2的A-A处的一种截面示意图；

图4为本公开一些实施例的显示基板在非显示区域的局部俯视示意图；

图5为本公开一些实施例的显示基板的非显示区域的另一种局部俯视图；

图6为本公开一些实施例的显示基板在图2的A-A处的另一种截面示意图；

图7为本公开一些实施例的显示基板在图2的A-A处的又一种截面示意图；

图8为本公开一些实施例的显示基板的制作方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

相关技术中的一种有机发光显示基板，其包括显示区域和环绕显示区域的非显示区域。如图1所示，该有机发光显示基板的非显示区域的结构包括依次层叠设置的阳极材料层4’、金属层3’、无机膜层2’和衬底1’。

由于在该有机发光显示基板的非显示区域处，层叠设置的阳极材料层4’与金属层3’之间可能产生剥离，从而在阳极材料层4’与金属层3’之间形成水氧路径，导致进行性黑点(Grow Dark Spot，GDS)产生。即，有机发光显示基板在非显示区域的封装性能较差，使得有机发光显示基板产生进行性黑点，进而导致产品不良。该有机发光显示基板应用于显示装置，其屏幕在显示画面时，在进行性黑点位置处呈现为黑点。

为改善显示基板的封装性能，进而克服进行性黑点问题，提高产品的良率，本公开实施例提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置。其中，显示基板包括但不限于OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示基板及QLED(Quantum Dot LightEmitting Diode，量子点电致发光二极管)显示基板等。

如图2、图3、图4和图5所示，本公开实施例提供的显示基板100包括显示区域10和环绕显示区域10的非显示区域20，非显示区域20设置有公共接地端电压(Voltage Series，VSS)电路走线30，显示基板100在非显示区域20的结构包括：

衬底1；

无机膜层2，位于衬底1的一侧；

金属层3，位于无机膜层2远离衬底1的一侧，包括多个块状单元31，任意相邻两个块状单元31间存在间隙32；及

阳极材料层4，位于金属层3远离无机膜层2的一侧，阳极材料层4覆盖金属层3并填充各个间隙32；

其中，公共接地端电压电路走线30包括阳极材料层4与金属层3。

本公开实施例中，金属层3位于无机膜层2远离衬底1的一侧，应理解为金属层3的整体图案层位于无机膜层2的整体图案层远离衬底1的一侧，而不应理解为局部结构的绝对位置关系。其他图案层之间的位置关系与此类似，这里不再重复赘述。

衬底1可以为柔性衬底或硬质衬底。

一些实施例中，衬底1的材料为聚酰亚胺PI，使得衬底1可以弯折或根据实际需求弯曲特定角度，从而使得显示基板100为柔性显示基板或曲面显示基板。衬底1也可以为其他材料，本公开实施例对此不作具体限定。

一些实施例中，衬底1为柔性衬底，包括第一有机柔性层、第二有机柔性层，以及位于第一有机柔性层和第二有机柔性层之间的第一无机阻挡层，其中，第一有机柔性层和第二有机柔性层的材料包括聚酰亚胺，第一无机阻挡层的材料包括氮化硅和氧化硅中的至少一种。这样设计，不但可以提高衬底1的韧性，而且有利于提高显示基板100的封装性能。

本公开实施例中，显示基板的显示区域10包括衬底，和位于衬底的一侧且沿远离衬底的方向依次设置的：第一无机层、第一金属层、绝缘层、第二金属层、第二无机层及阳极材料层。其中，第一金属层包括栅极，第二金属层包括源极和漏极。

一些实施例中，金属层3为栅金属层或数据金属层。当该金属层3为栅金属层时，该金属层3与显示区域10的栅极和栅线同层制作，即可以通过同一次掩膜构图工艺制作。类似的，当该金属层3为数据金属层时，该金属层3与显示区域10的数据线、源极和漏极同层制作，即可以通过同一次掩膜构图工艺制作。金属层3在制作时，可以采用溅射工艺成膜，通过干法刻蚀形成图案。

阳极材料层4覆盖金属层3且位于金属层3远离无机膜层2的一侧。阳极材料层4的具体材料不限，如阳极材料层4的材料可以包括氧化铟锡等。该阳极材料层4与显示区域10的阳极层同层制作，即可以通过同一次掩膜构图工艺制作。阳极材料层4在制作时，可以采用溅射工艺成膜，通过干法刻蚀形成图案。

如图4所示，金属层3包括多个块状单元31，任意两个相邻的块状单元31之间存在间隙32。因此，多个块状单元31的设置形成了多个间隙32。阳极材料层4覆盖金属层3且填充了各个间隙32，使得阳极材料层4不仅与块状单元31靠近阳极材料层4的一侧接触，还与金属层3中各个间隙32的底壁及侧壁接触，因此增大了阳极材料层4与金属层3的接触面积和结合力，从而使得金属层3与阳极材料层4不易发生剥离，有效防止了金属层3与阳极材料层4间产生水氧路径，进而减少了显示基板100的进行新黑点的产生。

本公开一些实施例中，为便于掩膜构图工艺中掩膜板的设计与制作，多个块状单元31的尺寸相同。其中，当块状单元31的数量较多时，块状单元31的尺寸较小，使得金属层3具有更多的间隙32，加大了阳极材料层4与金属层3的接触面积及结合力。因此，可根据实际情况设定多个块状单元31的数量、尺寸，及任意相邻两个块状单元31之间的间隙32的宽度，本公开实施例对此不作具体限定。

一些实施例中，块状单元31在金属层3上的正投影呈矩形或圆形。

本公开实施例中，块状单元31的形状可以为矩形体或圆柱，即块状单元31在金属层3上的正投影呈矩形或圆形。块状单元31的形状还可以为其他形状，如三棱柱等，本公开实施例对此不作具体限定。当多个块状单元31的形状为三棱柱时，多个块状单元31远离金属层3的表面在金属层3上的正投影呈三角形。

一些实施例中，金属层3包括沿远离无机膜层2方向依次设置的钛层、铝层和钛层，或者，金属层3包括沿远离无机膜层2方向依次设置的钼层、铝层和钼层。即金属层3可以为钛铝钛材料或钼铝钼材料的层叠结构。金属层3还可以为其他材料，本公开实施例对此不作具体限定。

本公开实施例中，金属层3包括的多个块状单元31具有多种排列方式。

一些实施例中，多个块状单元31呈阵列状均匀排布，如图4所示。沿金属层3的第一方向及第二方向上都具有多个块状单元31，使得每一块状单元31具有至少两个相邻的块状单元31。其中，第一方向可以为金属层3的长度方向，第二方向可以为金属层3的宽度方向。每一块状单元31对应至少两个间隙32，进一步增大了金属层3与阳极材料层4的接触面积及结合力。

一些实施例中，多个块状单元31沿预设方向均匀依次排列，预设方向为金属层3的长度方向，或金属层3的宽度方向，如图5所示。具体的，多个块状单元31沿金属层3的长度方向排列时，沿金属层3的宽度方向上设置一个块状单元31，且沿金属层3的长度方向上设置多个块状单元31。多个块状单元31沿金属层3的宽度方向排列时，沿金属层3的长度方向上设置一个块状单元31，且沿金属层3的宽度方向上设置多个块状单元31。

一些实施例中，块状单元31的远离金属层3的表面在金属层3上的正投影，落入块状单元31的靠近金属层3的表面在金属层上的正投影内。

本公开实施例中，如图6所示，块状单元31的形状可以为四棱台，且四棱台的顶面平行于无机膜层2。四棱台的顶面面积小于底面面积，以便于金属层3的加工。此外，由于块状单元31为四棱台状，使得块状单元31的侧面面积增大，进一步增大了阳极材料层4与金属层3的接触面积与结合力。

一些实施例中，如图7所示，上述显示基板100的非显示区域20的结构还包括在阳极材料层4远离衬底1的一侧，沿远离衬底1的方向依次设置的有机膜层5、阴极材料层6、及封装层7。

其中，有机膜层5和和阴极材料层6可以采用蒸镀工艺成膜，其是指：在一定的真空条件下加热蒸镀材料，使蒸镀材料熔化或升华为原子、分子或原子团组成的蒸气，然后凝结在衬底1表面成膜。在蒸镀过程中，蒸镀材料基本是沿衬底1的法线方向成膜。有机膜层5和阴极材料层6可以采用大面积蒸镀形成，也可以使用掩模板进行图案化蒸镀形成。

封装层7用于防止水汽进入显示基板100，增强显示基板100的封装性能。

如图8所示，本公开实施例还提供了一种显示基板的制作方法，显示基板包括显示区域和环绕显示区域的非显示区域，非显示区域设置有公共接地端电压电路走线，显示基板的制作方法包括以下步骤：

步骤S1，在衬底的一侧形成无机膜层，无机膜层包括位于非显示区域的部分。

本公开实施例中，衬底可以为柔性衬底或硬质衬底。若衬底1为柔性衬底，在形成柔性衬底时，预先将衬底形成在一玻璃基板上。玻璃基板在显示基板的制作过程中起支撑作用，待显示基板的结构制作完毕，还需要将玻璃基板与衬底剥离，以支持显示基板的柔性特性。

步骤S2，在无机膜层远离衬底的一侧形成金属层，金属层包括位于非显示区域的部分，且金属层的位于非显示区域的部分包括多个块状单元，任意相邻两个块状单元间存在间隙。

步骤S3，在金属层远离无机膜层的一侧形成阳极材料层，阳极材料层包括位于非显示区域的部分，且阳极材料层的位于非显示区域的部分覆盖金属层并填充各个间隙，公共接地端电压电路走线包括阳极材料层与金属层。

一些实施例中，在形成阳极材料层后，在阳极材料层远离衬底的一侧形成有机膜层，然后在有机膜层远离衬底的一侧形成阴极材料层，然后在阴极材料层远离衬底的一侧形成封装层。

本公开实施例还提供了一种显示装置，包括前述任一实施例的显示基板100。在本公开实施例中，显示装置包括但不限于OLED显示装置及QLED显示装置等。此外，显示装置可以为曲面显示装置、柔性显示装置或可拉伸显示装置。显示装置的具体产品类型不限，例如，可以为手机、平板电脑、显示器、电视机、画屏、广告屏、电子纸、智能穿戴、车载导航，等等。

由于显示基板的封装性能较佳，使用寿命较长，因此，显示装置也具有较佳的产品品质。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上仅为本公开的较佳实施例，并非用于限定本公开的保护范围。凡在本公开的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均包含在本公开的保护范围内。

Claims (8)

1.一种显示基板，其特征在于，包括显示区域和环绕所述显示区域的非显示区域，所述非显示区域设置有公共接地端电压电路走线，所述显示基板在所述非显示区域的结构包括：

衬底；

无机膜层，位于所述衬底的一侧；

金属层，位于所述无机膜层远离所述衬底的一侧，包括多个块状单元，任意相邻两个块状单元间存在间隙；及

阳极材料层，位于所述金属层远离所述无机膜层的一侧，所述阳极材料层覆盖所述金属层并填充各个间隙；

其中，所述公共接地端电压电路走线包括所述阳极材料层与所述金属层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属层为栅金属层或数据金属层。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述金属层包括沿远离所述无机膜层方向依次设置的钛层、铝层和钛层，或者，所述金属层包括沿远离所述无机膜层方向依次设置的钼层、铝层和钼层。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述多个块状单元在所述金属层上的正投影均呈矩形或圆形。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述多个块状单元呈阵列状均匀排布；或

所述多个块状单元沿预设方向均匀依次排列，所述预设方向为所述金属层的长度方向或所述金属层的宽度方向。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述多个块状单元的远离所述金属层的表面在所述金属层上的正投影，落入所述多个块状单元的靠近所述金属层的表面在所述金属层上的正投影内。

7.一种显示基板的制作方法，所述显示基板包括显示区域和环绕所述显示区域的非显示区域，所述非显示区域设置有公共接地端电压电路走线，其特征在于，所述制作方法包括：

在衬底的一侧形成无机膜层，所述无机膜层包括位于所述非显示区域的部分；

在所述无机膜层远离所述衬底的一侧形成金属层，所述金属层包括位于所述非显示区域的部分，且所述金属层的位于所述非显示区域的部分包括多个块状单元，任意相邻两个块状单元间存在间隙；

在所述金属层远离所述无机膜层的一侧形成阳极材料层，所述阳极材料层包括位于所述非显示区域的部分，且所述阳极材料层的位于所述非显示区域的部分覆盖所述金属层并填充各个间隙；

所述公共接地端电压电路走线包括所述阳极材料层与所述金属层。

8.一种显示装置，包括权利要求1至6任一项所述的显示基板。

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