CN112847755B - 一种瓷砖生产施釉装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种瓷砖生产施釉装置,包括:工作台,以及位于其上方沿送料方向依次设置的预处理箱、喷釉管;工作台,其上端面用以平整放置瓷砖;预处理箱,其内设有盛液腔、负压腔,所述盛液腔底部与瓷砖施釉面接触的出液口,负压腔底部设有与瓷砖施釉面接触的负压吸入口;沿送料方向上,所述负压吸入口位于出液口的后方,且与出液口之间留有流经瓷砖施釉面的流道;负压腔上方通过管路与负压泵连通;喷釉管,其上设置有若干个喷口朝向工作台上瓷砖施釉面的喷头。根据本发明的瓷砖生产施釉装置目的旨在通过负压吸附的方式对瓷砖的施釉面进行浸液预处理,以减少喷釉后瓷砖表面的釉损缺陷。
Description
技术领域
本发明涉及瓷砖生产技术领域,特别涉及一种瓷砖生产施釉装置。
背景技术
瓷砖,是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物,经由研磨、混合、压制、施釉、烧结之过程,而形成的一种耐酸碱的瓷质或石质等,建筑或装饰材料,称之为瓷砖。相关技术中,关于瓷砖生产流程中的施釉工艺或装置还不尽完善,时常导致瓷砖产品表面的釉层易脱落,或出现针孔、气泡等缺陷,因此,针对瓷砖生产过程中的施釉工艺或装置、设备,还有较大的改进空间。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种瓷砖生产施釉装置,该装置通过负压吸附的方式对瓷砖的施釉面进行浸液预处理,以减少喷釉后瓷砖表面的釉损缺陷。
为实现以上目的,本发明采用的技术方案如下:
本发明提供了一种瓷砖生产施釉装置,包括:工作台,以及位于其上方沿送料方向依次设置的预处理箱、喷釉管;
工作台,其上端面用以平整放置瓷砖;
预处理箱,其内设有盛液腔、负压腔,所述盛液腔底部与瓷砖施釉面接触的出液口,负压腔底部设有与瓷砖施釉面接触的负压吸入口;沿送料方向上,所述负压吸入口位于出液口的后方,且与出液口之间留有流经瓷砖施釉面的流道;负压腔上方通过管路与负压泵连通;
喷釉管,其上设置有若干个喷口朝向工作台上瓷砖施釉面的喷头。
在一些实施例中,所述盛液腔内靠近出液口处转动设有滚筒,所述滚筒外圆周上设有通过出液口后与瓷砖施釉面紧接触的刷毛。
在一些实施例中,所述滚筒转动时,其外圆周上的刷毛将出液口处瓷砖施釉面上的液体刷向流道侧。
在一些实施例中,所述出液口、流道、负压吸入口均为与瓷砖长度或宽度相适配的狭长型槽口状。
在一些实施例中,所述出液口、负压吸入口处设有与瓷砖施釉面接触的柔性接触垫。
在一些实施例中,所述负压腔下方还设有出液管。
在一些实施例中,还包括:沿送料方向移动的送料板,所述送料板上表面间隔设有用以放置瓷砖的凹槽,且当瓷砖放置于凹槽中时,瓷砖施釉面不低于送料板的上表面。
在一些实施例中,还包括:机架,以及至少两个转动设置于机架上的传动辊,所述送料板为环状柔性传送带,并通过传动辊架设于机架上形成环状传送回路。
在一些实施例中,所述送料板进料端的上、下侧相对设置压辊。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:该装置通过负压吸附的方式对瓷砖的施釉面进行浸液预处理,以减少喷釉后瓷砖表面的釉损缺陷。本发明中具体来讲,将瓷砖放置于工作台并沿送料方向移动,经过预处理箱时,施釉面与出液口接触,硼砂溶液流至施釉面上,将其浸湿,再通过流道、负压吸入口处时,在负压吸入口负压作用下,少部分硼砂液流从流道处与施釉面之间高速经过,可将施釉面上微量不平整表面凹陷处的异物带走,并使硼砂液浸渍其中,后经过喷釉管上喷头喷釉处理,可有效让釉液结合于施釉面上,结合力强,有效防止气泡、针孔的釉损缺陷。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它相关的附图。
图1为本发明实施例的主视结构示意图;
图2为本发明图1中A处局部放大结构示意图;
图3为本发明图2中B-B剖面结构示意图;
图4为本发明图1中俯视结构示意图。
图中:1、工作台;2、预处理箱;21、盛液腔;211、出液口;212、流道;22、负压腔;221、负压吸入口;222、负压泵;223、出液管;23、滚筒;24、柔性接触垫;3、喷釉管;31、喷头;4、送料板;41、凹槽;5、机架;51、传动辊;52、压辊。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-图4,在一个具体的实施例中,本发明实施例提供了一种瓷砖生产施釉装置,包括:工作台1,以及位于其上方沿送料方向依次设置的预处理箱2、喷釉管3;
工作台1,其上端面可用以平整放置瓷砖;
预处理箱2,其内设有盛液腔21(其内盛装有硼砂溶液,其浓度可以为40~55mg/L)、负压腔22,所述盛液腔21底部与瓷砖施釉面接触的出液口211,负压腔22底部设有与瓷砖施釉面接触的负压吸入口221;沿送料方向上,所述负压吸入口221位于出液口211的后方,且与出液口211之间留有流经瓷砖施釉面的流道212;负压腔22上方通过管路与负压泵222连通;
喷釉管3,其上设置有若干个喷口朝向工作台上瓷砖施釉面的喷头31,喷釉管3通过管路与压力釉源连通。
具体地,将瓷砖放置于工作台1并沿送料方向移动,经过预处理箱2时,施釉面与出液口211接触,硼砂溶液流至施釉面上,将其浸湿,再通过流道212、负压吸入口221处时,在负压吸入口221负压作用下,少部分硼砂液流从流道212处与施釉面之间高速经过,可将施釉面上微量不平整表面凹陷处的异物带走,并使硼砂液浸渍其中,后经过喷釉管3上喷头31喷釉处理,可有效让釉液结合于施釉面上,结合力强,有效防止气泡、针孔的釉损缺陷。
本实施例中,可选地,所述盛液腔21内靠近出液口211处转动设有滚筒23,所述滚筒23外圆周上设有通过出液口211后与瓷砖施釉面紧接触的刷毛。滚筒23两端可通过轴头、轴承组件的配合安装于盛液腔21两侧壁上,且转动配合处设置密封圈,防止液体流出,其中一轴头端部可以通过电机进行传动,以使滚筒23绕水平轴转动,轴线垂直于送料方向。通过刷毛可对瓷砖施釉面上相对较松的或不牢固的一层异物进行刷除,以使硼砂液进入凹陷处。
进一步地,所述滚筒23转动时,其外圆周上的刷毛将出液口211处瓷砖施釉面上的液体刷向流道212侧。以便将带有异物的液体通过流道212进入负压腔22中,被最终带走。
本实施例中,可选地,所述出液口211、流道212、负压吸入口221均为与瓷砖长度或宽度相适配的狭长型槽口状。其中,流道212、负压吸入口221的过流面积尽可能小,以降低液体的流量,减少液体的浪费。
本实施例中,可选地,所述出液口211、负压吸入口221处设有与瓷砖施釉面接触的柔性接触垫24,由耐磨材料制成。起到密封作用。
本实施例中,可选地,所述负压腔22下方还设有出液管223。出液管223可以通过过滤器其中的杂质后再通过泵输送给盛液腔21中重新利用。
本实施例中,可选地,还包括:沿送料方向移动的送料板4,所述送料板4上表面间隔设有用以放置瓷砖的凹槽41,且当瓷砖放置于凹槽41中时,瓷砖施釉面不低于送料板4的上表面。也可以在凹槽41的周边设置一层较软的缓冲层用以顶紧瓷砖的周边;通过送料板4基本可以放置瓷砖、喷釉处理、取下瓷砖的连续操作,提高效率。
进一步地,还包括:机架5,以及至少两个转动设置于机架5上的传动辊51,所述送料板4为环状柔性传送带,并通过传动辊51架设于机架5上形成环状传送回路。满足工厂化的连续施釉处理需求。
本实施例中,可选地,所述送料板4进料端的上、下侧相对设置压辊52。将瓷砖压紧于送料板4上的凹槽41中,防止其送料过程中随意乱动。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,由于文字表达的有限性,而客观上存在无限的具体结构,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进、润饰或变化,也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合;这些改进润饰、变化或组合,或未经改进将发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均应视为本发明的保护范围。
Claims (7)
1.一种瓷砖生产释釉装置,其特征在于,包括:工作台(1),以及位于其上方沿送料方向依次设置的预处理箱(2)、喷釉管(3);
工作台(1),其上端面用以平整放置瓷砖;
预处理箱(2),其内设有盛液腔(21)、负压腔(22),所述盛液腔(21)底部设有与瓷砖施釉面接触的出液口(211),负压腔(22)底部设有与瓷砖施釉面接触的负压吸入口(221);沿送料方向上,所述负压吸入口(221)位于出液口(211)的后方,且与出液口(211)之间留有流经瓷砖施釉面的流道(212);负压腔(22)上方通过管路与负压泵(222)连通;
喷釉管(3),其上设置有若干个喷口朝向工作台上瓷砖施釉面的喷头(31);
其中,所述盛液腔(21)内靠近出液口(211)处转动设有滚筒(23),所述滚筒(23)外圆周上设有通过出液口(211)后与瓷砖施釉面紧接触的刷毛;
其中,所述滚筒(23)转动时,其外圆周上的刷毛将出液口(211)处瓷砖施釉面上的液体刷向流道(212)侧。
2.根据权利要求1所述的瓷砖生产释釉装置,其特征在于,所述出液口(211)、流道(212)、负压吸入口(221)均为与瓷砖长度或宽度相适配的狭长型槽口状。
3.根据权利要求1所述的瓷砖生产释釉装置,其特征在于,所述出液口(211)、负压吸入口(221)处设有与瓷砖施釉面接触的柔性接触垫(24)。
4.根据权利要求1所述的瓷砖生产释釉装置,其特征在于,所述负压腔(22)下方还设有出液管(223)。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的瓷砖生产释釉装置,其特征在于,还包括:沿送料方向移动的送料板(4),所述送料板(4)上表面间隔设有用以放置瓷砖的凹槽(41),且当瓷砖放置于凹槽(41)中时,瓷砖施釉面不低于送料板(4)的上表面。
6.根据权利要求5所述的瓷砖生产释釉装置,其特征在于,还包括:机架(5),以及至少两个转动设置于机架(5)上的传动辊(51),所述送料板(4)为环状柔性传送带,并通过传动辊(51)架设于机架(5)上形成环状传送回路。
7.根据权利要求6所述的瓷砖生产释釉装置,其特征在于,所述送料板(4)进料端的上、下侧相对设置压辊(52)。
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