CN112846179B - 一种panacea材料的成型烧结工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种PANACEA材料的成型烧结工艺。其特征在于是采用步进梁式烧结设备进行加工,所述步进梁式烧结设备内包括脱脂段、烧结段和冷却段,炉内N2流量保持在28~32Nm3/h,炉压保持在12~20mbar,步进梁周期维持在112~150s,由步进梁控制喂料的传送速率,粉末喂料先从进料段由传送网带传输进入脱脂段脱除剩余粘结剂;经过催化脱脂的喂料由传送网带传输进入烧结段,所述的烧结段包括五个高温区,第一高温区温度为1000~1050℃、第二高温区温度为1100~1150℃、第三高温区温度为1290~1300℃、第四高温区温度为1290~1300℃、第五高温区温度为1150℃,最后进入冷却段,经过炉冷后出炉,变为金属状粉末。本发明在完成致密化的同时不会因为保温时间过长生成高温铁素体,利于产品尺寸、密度、磁导率。
Description
技术领域
本发明涉及金属零件成型领域,尤其是一种PANACEA材料的成型烧结工艺。
背景技术
由于越来越多的消费者注重皮肤健康,金属中的Ni元素紧贴皮肤佩戴时会造成皮肤过敏,PANACEA材料由此诞生,PANACEA材料中剔除了Ni元素的,但烧结态需表现为奥氏体不锈钢,因此在原本的基体中掺入Mn和N充当Ni的作用,促进烧结的奥氏体化。
PANACEA材料的烧结态对磁导率、碳含量及氮含量有较高的要求,且金相组织需表现为奥氏体,因此对烧结工艺提出了很高的要求。此前使用石墨真空炉烧结存在种种问题,由于渗氮不足,PANACEA材料制成的产品肉厚位置未完全奥氏体化,磁导率高达1.156。加强渗氮促进奥氏体化后,又由于渗氮过量的原因,渗氮物导致晶格膨胀,尺寸一直偏大。且由于是石墨炉,炉腔内游离的碳附着于材料表面,造成材料表面发灰的现象。
单体炉烧结工艺如下表所示:
发明内容
本发明针对现有技术存在的缺点,提供一种PANACEA材料的成型烧结工艺,提高了烧结效率,降低成本,提高了成品的品质。
为此,本发明采取如下的技术方案:一种PANACEA材料的成型烧结工艺,其特征在于是采用步进梁式烧结设备进行加工,所述步进梁式烧结设备内包括脱脂段、烧结段和冷却段,炉内N2流量保持在28~32Nm3/h,炉压保持在12~20mbar,步进梁周期维持在112~150s,由步进梁控制喂料的传送速率,粉末喂料先从进料段由传送网带传输进入脱脂段脱除剩余粘结剂;经过催化脱脂的喂料由传送网带传输进入烧结段,所述的烧结段包括五个高温区,第一高温区温度为1000~1050℃、第二高温区温度为1100~1150℃、第三高温区温度为1290~1300℃、第四高温区温度为1290~1300℃、第五高温区温度为1150℃,最后进入冷却段,经过炉冷后出炉,变为金属状粉末。
本发明流量和炉压主要控制渗氮量,保持高渗氮的同时又保证渗氮不会过高,过高渗氮量会导致硬度过高和产品尺寸过大。周期是指步进梁完成一个前进后退动作的时间,112~150s周期使材料具有一个较为合适的保温时间,保温时间在30~40min,在完成致密化的同时不会因为保温时间过长生成高温铁素体,利于产品尺寸、密度、磁导率。
第一高温区温度为1000~1050℃,主要是为了调整材料的收缩速度,放缓收缩有利于给致密化预留更多时间,使致密化靠后加强渗氮效果。渗氮加强利于金相组织奥氏体化,奥氏体呈现无磁性,有利于减小磁导率。
第三第四高温区温度为1290~1300℃,主要是为了调整产品尺寸并抑制高温铁素体生成,高温铁素体增多会导致磁导率明显增大。
第五高温区纬1150℃能保持一个较合适的冷却速率,不会因为极冷导致材料内应力过大开裂。
作为优选,在烧结段包括多个高温区,粉末进入各个高温区的时间如下:第一高温区为49.9~66.5min,第二高温区为33.9~45.2min,第三高温区为26.5~35.3min,第四高温区为35~46.7min,第五高温区为26.7~35.6min。
作为优选,所述的脱脂段包括五个预热温区,第一预热区温度为300~350℃、第二预热区温度为400~450℃、第三预热区温度为500~550℃、第四预热区温度为600~650℃、第五预热区温度为700-795℃。设置五个预热温区主要是为了调整热脱效率,完整脱除剩余粘结剂,给予碳氧反应时间,保持材料碳含量在合适的水平。
作为优选,粉末进入脱脂段各个温区的预热时间如下:第一预热区为18.5~24.7min,第二预热区为27.6~36.8min,第三预热区为20.5~27.3min,第四预热区为19.6~26.2min,第五预热区为22.7~30.2min。
作为优选,所述的N2流量为30Nm3/h,炉压为18mbar,第三和第四高温区的烧结温度为1290℃,步进梁周期为112s。
本发明的烧结工艺将温度、N2流量、烧结周期三个工艺参数达到一个平衡点,同时满足了磁导率、尺寸、硬度、密度、碳含量及氮含量的标准。大幅提升了烧结效率,步进梁烧结设备整个烧结周期仅14小时,而真空烧结设备烧结周期需要40小时。在提升烧结效率降低烧结成本的同时还有效降低了人工成本,使用真空烧结设备需要4人进行作业,而步进梁烧结设备仅需2人即可。由于步进梁烧结设备持续稳定地运作,短时间内并不需要停止运行等操作,从一定程度上提高了效率并且设备具有较好的稳定性。
具体实施方式
下面结合对本发明作进一步详细描述。
本发明的烧结工艺是采用步进梁式烧结设备进行加工,所述步进梁式烧结设备内包括脱脂段、烧结段和冷却段,炉内N2流量保持在30Nm3/h,炉压保持在18mbar,步进梁周期维持在112s,由步进梁控制喂料的传送速率,粉末喂料先从进料段由传送网带传输进入脱脂段脱除剩余粘结剂。
脱脂段包括五个预热温区,第一预热区温度为300~350℃、第二预热区温度为400~450℃、第三预热区温度为500~550℃、第四预热区温度为600~650℃、第五预热区温度为700-795℃。粉末进入脱脂段各温区的预热时间如下:第一预热区为18.5~24.7min,第二预热区为27.6~36.8min,第三预热区为20.5~27.3min,第四预热区为19.6~26.2min,第五预热区为22.7~30.2min。
经过催化脱脂的喂料由传送网带传输进入烧结段,所述的烧结段包括五个高温区,第一高温区温度为1000~1050℃、第二高温区温度为1100~1150℃、第三高温区温度为1290~1300℃、第四高温区温度为1290~1300℃、第五高温区温度为1150℃,最后进入冷却段,经过炉冷后出炉,变为金属状粉末。烧结段包括多个高温区,粉末进入各个高温区的时间如下:第一高温区为49.9~66.5min,第二高温区为33.9~45.2min,第三高温区为26.5~35.3min,第四高温区为35~46.7min,第五高温区为26.7~35.6min。
最后获得比较理想的尺寸和性能,具体表现为磁导率≤1.05,磁铁不能吸引产品,密度≥7.7g/cm3,在金相上组织以奥氏体为主,含有部分氮化物,且产品内部的孔隙较少,晶粒大小在正常水平。
步进梁烧结设备烧结后同石墨真空炉性能对比如下:
从性能方面看,长期烧结,步进梁烧结设备烧结的材料性能更好,磁导率、密度优于石墨真空炉,且产品尺寸、碳含量、氮含量更稳定。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。
Claims (4)
1.一种PANACEA材料的成型烧结工艺,其特征在于是采用步进梁式烧结设备进行加工,所述步进梁式烧结设备内包括脱脂段、烧结段和冷却段,炉内N2流量保持在28~32Nm 3 /h,炉压保持在12~20mbar,步进梁周期维持在112~150s,由步进梁控制喂料的传送速率,粉末喂料先从进料段由传送网带传输进入脱脂段脱除剩余粘结剂;经过催化脱脂的喂料由传送网带传输进入烧结段,所述的烧结段包括五个高温区,第一高温区温度为1000~1050℃、第二高温区温度为1100~1150℃、第三高温区温度为1290~1300℃、第四高温区温度为1290~1300℃、第五高温区温度为1150℃,最后进入冷却段,经过炉冷后出炉,变为金属状粉末,烧结段包括多个高温区,粉末进入各个高温区的时间如下:第一高温区为49.9~66.5min,第二高温区为33.9~45.2min,第三高温区为26.5~35.3min,第四高温区为35~46.7min,第五高温区为26.7~35.6min。
2.根据权利要求1所述的一种PANACEA材料的成型烧结工艺,其特征在于所述的脱脂段包括五个预热温区,第一预热区温度为300~350℃、第二预热区温度为400~450℃、第三预热区温度为500~550℃、第四预热区温度为600~650℃、第五预热区温度为700-795℃。
3.根据权利要求1或2所述的一种PANACEA材料的成型烧结工艺,其特征在于粉末进入脱脂段各个温区的预热时间如下:第一预热区为18.5~24.7min,第二预热区为27.6~36.8min,第三预热区为20.5~27.3min,第四预热区为19.6~26.2min,第五预热区为22.7~30.2min。
4. 根据权利要求3所述的一种PANACEA材料的成型烧结工艺,其特征在于所述的N2流量为30Nm 3 /h,炉压为18mbar,第三和第四高温区的烧结温度为1290℃,步进梁周期为112s。
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