CN112832017A - 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 - Google Patents
氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112832017A CN112832017A CN202011629302.7A CN202011629302A CN112832017A CN 112832017 A CN112832017 A CN 112832017A CN 202011629302 A CN202011629302 A CN 202011629302A CN 112832017 A CN112832017 A CN 112832017A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- alumina
- fiber
- precursor
- based composite
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/04—Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/06—Inorganic compounds or elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0227—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching
- C23C16/0245—Pretreatment of the material to be coated by cleaning or etching by etching with a plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45555—Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
- D06M10/00—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements
- D06M10/02—Physical treatment of fibres, threads, yarns, fabrics, or fibrous goods made from such materials, e.g. ultrasonic, corona discharge, irradiation, electric currents, or magnetic fields; Physical treatment combined with treatment with chemical compounds or elements ultrasonic or sonic; Corona discharge
- D06M10/025—Corona discharge or low temperature plasma
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
Abstract
本发明涉及复合材料技术领域,特别是涉及一种氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件。所述氧化铝基复合纤维的制备方法包括以下步骤:S10,在外部磁场作用下,利用等离子体对高分子聚合物纤维进行表面改性,引入极性基团;及S30,采用空间隔离原子层沉积技术在改性后的高分子聚合物纤维表面沉积氧化铝薄膜。
Description
技术领域
本发明涉及复合材料技术领域,特别是涉及一种氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件。
背景技术
高分子聚合物纤维已经成为发展速度最快,产量最高的纤维品种,具有优良的性能,例如强度和耐磨性好,但是通常高分子聚合物纤维的高温抗氧化性能较差。而氧化铝有优良的高温抗氧化性能,可应用于高达1400℃的高温领域,在增强复合材料、工业高温炉、环保和再循环领域上具有较好的应用,且制备原料来源广泛,生产工艺简单,工艺参数便于确定,具有极高的商业价值。因此,以氧化铝为增强材料结合高分子聚合物纤维而形成的氧化铝基复合纤维具有更优异的性能,可以更广泛的应用于各种高温环境中。
现有技术中,氧化铝基复合纤维制备方法主要为浸渍法。将纳米氧化铝制成包覆溶液,用于包覆高分子聚合物纤维。但是由于纳米氧化铝颗粒小,易于团聚,无法形成均匀的包覆层,导致制备的复合纤维质量差,包覆层易脱落,高温抗氧化性能和力学性能改善较小。
发明内容
基于此,有必要提供能够一种的氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件。
本发明的一个方面,提供了一种氧化铝基复合纤维的制备方法,包括以下步骤:
S10,在外部磁场作用下,利用等离子体对高分子聚合物纤维进行表面改性,引入极性基团;及
S30,采用空间隔离原子层沉积技术在改性后的高分子聚合物纤维表面沉积氧化铝薄膜。
在其中一个实施例中,步骤S1中,所述磁场强度为23.5B~118B。
在其中一个实施例中,步骤S1中,所述等离子体处理时间为0.1min~1min。
在其中一个实施例中,所述等离子体选自氧气等离子体、氮气等离子体和空气等离子体中的一种或多种。
在其中一个实施例中,步骤S30包括:
S31,将所述改性后的高分子聚合物纤维置于空间隔离原子层沉积装置的基底上,所述空间隔离原子层沉积装置还包括喷头单元,所述喷头单元包括前驱体A喷头、隔离气体喷头和前驱体B喷头;
S32,所述基底依次通过所述前驱体A喷头、所述隔离气体喷头和所述前驱体B喷头;
基底通过所述前驱体A喷头时,前驱体A喷头喷出的前驱体A通过化学吸附作用在基底的表面形成第一反应产物的单分子层;
基底通过所述隔离气体喷头时,隔离气体喷头喷出的隔离气体将未反应的前驱体和反应副产物清除;
基底通过所述前驱体B喷头时,前驱体B喷头喷出的前驱体B与所述第一反应产物进行化学反应,得到氧化铝单层薄膜;以及
S33,所述基底与所述喷头单元作相对往复运动形成多层薄膜。
在其中一个实施例中,所述喷头和所述基底之间的微间隙带高度h为0.3mm~0.8mm。
在其中一个实施例中,所述基底反应温度为90℃~150℃。
在其中一个实施例中,所述基底与所述喷头单元的相对运动速度为0.05m/s~0.4m/s。
在其中一个实施例中,所述前驱体A、前驱体B以及隔离气体的流量为1000sccm~1200sccm。
在其中一个实施例中,步骤S10和步骤S30之间还包括步骤S20,对所述改性后的高分子聚合物纤维进行在紫外线照射。
在其中一个实施例中,所述高分子聚合物纤维选自聚乙烯纤维、聚丙烯纤维、聚酰亚胺纤维、聚醚酰亚胺纤维、聚芳醚酮纤维、聚砜纤维、聚苯硫醚纤维、芳纶、聚氨酯纤维、聚酯纤维、聚丙烯腈纤维、聚酰胺纤维和丙烯酸纤维中的一种或多种。
本发明的另一个方面,还提供一种由所述的氧化铝基复合纤维的制备方法得到的氧化铝基复合纤维,包括高分子聚合物纤维芯体和包覆在所述高分子聚合物纤维芯体表面的氧化铝层。
本发明的再一个方面,进一步提供一种制件,由所述的氧化铝基复合纤维制成。
本发明提供的氧化铝基复合纤维的制备方法,在外部磁场作用下,通过等离子体表面改性在高分子聚合物纤维进行表面引入极性基团,改善纤维表面润湿性和粘结性,外部磁场的引入可以有效改善等离子体处理的均匀性和纤维表面的稳定性,结合空间隔离原子层沉积技术在其表面沉积氧化铝,氧化铝更容易在纤维表面均匀生长成膜,并且氧化铝和纤维的结合强度也更强。相比于现有技术,本发明氧化铝基复合纤维的制备方法,纤维表面沉积的氧化铝薄膜更均匀且氧化铝和纤维的结合力更强,从而可以极大的提高氧化铝基复合纤维的力学性能和耐热性能。本发明的提供的氧化铝基复合纤维的制备方法特别适于与大面积的纤维包覆氧化铝薄膜的制备。
附图说明
图1为本发明氧化铝基复合纤维的制备方法的流程示意图;
图2为一实施例1空间隔离原子层沉积的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
除了在操作实施例中所示以外或另外表明之外,所有在说明书和权利要求中表示成分的量、物化性质等所使用的数字理解为在所有情况下通过术语“约”来调整。例如,因此,除非有相反的说明,否则上述说明书和所附权利要求书中列出的数值参数均是近似值,本领域的技术人员能够利用本文所公开的教导内容寻求获得的所需特性,适当改变这些近似值。用端点表示的数值范围的使用包括该范围内的所有数字以及该范围内的任何范围,例如,1至5包括1、1.1、1.3、1.5、2、2.75、3、3.80、4和5等等。
请参阅图1,本发明提供一种氧化铝基复合纤维的制备方法,包括以下步骤:
S10,在外部磁场作用下,利用等离子体对高分子聚合物纤维进行表面改性;及
S30,采用空间隔离原子层沉积技术在改性后的高分子聚合物纤维表面沉积氧化铝薄膜。
本发明提供的氧化铝基复合纤维的制备方法,在外部磁场作用下,通过等离子体表面改性在高分子聚合物纤维进行表面引入极性基团,改善纤维表面润湿性和粘结性,外部磁场的引入可以有效改善等离子体处理的均匀性和纤维表面的稳定性,结合空间隔离原子层沉积技术在其表面沉积氧化铝,氧化铝更容易在纤维表面均匀生长成膜,并且氧化铝和纤维的结合强度也更强。相比于现有技术,本发明氧化铝基复合纤维的制备方法,纤维表面沉积的氧化铝薄膜更均匀且氧化铝和纤维的结合力更强,从而可以极大的提高氧化铝基复合纤维的力学性能和耐热性能。本发明的提供的氧化铝基复合纤维的制备方法特别适于与大面积的纤维包覆氧化铝薄膜的制备。
所述高分子聚合物纤维可以包括但不限于,聚乙烯纤维、聚丙烯纤维、聚酰亚胺纤维、聚醚酰亚胺纤维、聚芳醚酮纤维、聚砜纤维、聚苯硫醚纤维、芳纶、聚氨酯纤维、聚酯纤维、聚丙烯腈纤维、聚酰胺纤维、丙烯酸纤维以及它们的组合。
步骤S10中,所述磁场强度可以为23.5B~118B之间的任意值,例如还可以为25B、30B、35B、40B、45B、50B、55B、60B、65B、70B、75B、80B、85B、90B、95B、100B、105B、110B、115B。磁场强度过低,则会使所述高分子聚合物纤维表面粗糙度降低,表面吸附能力降低,表面能减小,接触角增大。磁场强度过高则会造成极性基团的数量下降。所述磁场强度在23.5B~118B之间可以获得更有利于氧化铝均匀生长的条件。
所述磁场可以为通过调试使用300Hz~60Hz的电场,获得的调制频率5Hz~1Hz的调制磁场。所述电场波形可以采用正玄波或矩形波。磁场强度B*42.577=频率。
步骤S10中,所述等离子体处理时间可以为0.1min~1min之间的任意值,例如还可以为0.2min、0.3min、0.4min、0.5min、0.6min、0.7min、0.8min、0.9min。等离子体处理时间在0.1min~1min之间可以使所述高分子聚合物表面氧原子百分数更高,等离子体处理时间超过1min,则会引起所述高分子聚合物表面氧原子百分数的下降。
所述等离子体可以包括但不限于,O2等离子体、CO等离子体、CO2等离子体、H2O等离子体、N2等离子体、NO等离子体、NO2等离子体、NH3等离子体、N2-H2混合气体的等离子体、氟等离子体、空气等离子体以及惰性气体等离子体等。优选地,所述等离子体选自O2等离子体、N2等离子体和空气等离子体中的一种或多种。
所述极性基团可以是羰基、羟基等含氧基团,也可以为腈、胺或亚胺等含氮基团。
在一些实施例中,步骤S30可以包括以下步骤:
S31,将所述改性后的高分子聚合物纤维置于空间隔离原子层沉积装置的基底上,所述空间隔离原子层沉积装置还包括喷头单元,所述喷头单元包括前驱体A喷头、隔离气体喷头和前驱体B喷头;
S32,所述基底依次通过所述前驱体A喷头、所述隔离气体喷头和所述前驱体B喷头;
基底通过所述前驱体A喷头时,前驱体A喷头喷出的前驱体A通过化学吸附作用在基底的表面形成第一反应产物的单分子层;
基底通过所述隔离气体喷头时,隔离气体喷头喷出的隔离气体将未反应的前驱体和反应副产物清除;
基底通过所述前驱体B喷头时,前驱体B喷头喷出的前驱体B与所述第一反应产物进行化学反应,得到氧化铝单层薄膜;以及
S33,所述基底与所述喷头单元作相对往复运动形成多层薄膜。
所述空间隔离原子层沉积装置可以为本领域常规装置,可以通过购买或自行组装得到。请参阅图2,本发明提供一种空间隔离原子层沉积装置,包括隔离气体和前驱体供应系统100、沉积系统200和驱动系统300,所述沉积系统包括喷头单元和反应单元,所述反应单元包括基底21和置于基底下方的加热装置22,所述喷头单元包括前驱体A喷头、隔离气体喷头和前驱体B喷头多个喷头11。所述驱动系统300与基底21或所述喷头单元电连接,所述驱动系统300用于控制基底21或所述喷头单元运动。
所述前驱体A喷头用于喷射前驱体A气体,所述前驱体A喷头用于前驱体A的喷射,所述隔离气体喷头用于隔离气体的喷射,所述前驱体B喷头用于前驱体B的喷射。隔离气体喷头设置于所述前驱体A喷头和所述前驱体B喷头之间。
喷头11与基底21之间具有微间隙带,所述微间隙带高度为h,如图2所示。所述前驱体A喷头、所述隔离气体喷头和所述前驱体B喷头固定在支撑架上作为一个整体,其中每个喷头于基底之间的微间隙高度h均相同。
所述前驱体A喷头、所述隔离气体喷头和所述前驱体B喷头结构可以相同或不同,均为本领域习知的结构。
所述隔离气体可以为任意的惰性气体,例如N2、Ar、He等,所述隔离气体持续不断的喷出用于隔离前驱体A和前驱体B。
在一些实施例中,喷头11和基底21之间的微间隙带高度h可以为0.3mm~0.8mm之间的任意值,例如还可以为0.35mm、0.4mm、0.45mm、0.5mm、0.55mm、0.6mm、0.65mm、0.7mm、0.75mm。微间隙带高度h越大,隔离气体的隔离效果越差,前驱体A和前驱体B容易混合而形成CVD沉积,造成氧化铝的不稳定生长,造成包覆的氧化铝薄膜厚度不均。
在一些实施例中,基底21反应温度可以为90℃~120℃之间的任意值,例如还可以为95℃、100℃、105℃、110℃、115℃。反应基底温度会影响基底的化学吸附能力,反应温度在100℃~150℃之间,基底吸附能力更强,且还可以去除气体中存在的水,保证沉积的稳定性。
步骤S32中,基底21在驱动系统300的带动下以一定的运动速度依次通过所述前驱体A喷头、所述隔离气体喷头和所述前驱体B喷头。
在一些实施例中,基底21与所述喷头单元的相对运动速度可以为0.05m/s~0.4m/s之间的任意值,例如还可以为0.06m/s、0.07m/s、0.08m/s、0.09m/s、0.1m/s、0.15m/s、0.2m/s、0.25m/s、0.3m/s、0.35m/s。基底21与所述喷头单元的相对运动速度越低,基底在喷头下暴露的时间越长,对于前驱体A和前驱体B的吸附率也越高,但是低的相对运动速度会造成沉积效率的降低。基底21与所述喷头单元的相对运动速度在0.05m/s~0.1m/s之间,即可以有较高的沉积效率,还可以保证高质量的沉积效果,不会造成原料的浪费。
在一实施例中,如图2所示,所述驱动系统300与基底21电连接,所述驱动系统300控制基底21运动。
前驱体A、前驱体B以及隔离气体的流量为1000sccm~1200sccm之间的任意值。
前驱体A、前驱体B以及隔离气体的流量可以相同也可以不同,优选为相同。
前驱体A和前驱体B反应可以得到氧化铝。在一实施例中,所述前驱体A为Al(CH3)3(TMA),所述前驱体B为H2O。在一实施例中,隔离气体为氮气。在一些实施例中,氮气可以作为前驱体A和前驱体B的载气。
步骤S33中,基底21从前驱体A喷头运动到前驱体B喷头,或者,从前驱体B喷头运动到前驱体A喷头为一个循环运动周期。
在一些实施例中,步骤S10和步骤S30之间还包括步骤S20,对所述改性后的高分子聚合物纤维进行在紫外线照射。通过紫外线照射可以进一步引起纤维表面的化学变化,改善纤维表面的润湿性和粘结性,从而进一步保证氧化铝沉积的均匀性。
所述紫外线照射的时间可以为1min~2min之间的任意值,例如还可以为1.1min、1.2min、1.3min、1.4min、1.5min、1.6min、1.7min、1.8min、1.9min。
在一些实施例中,步骤S10之前还包括,对所述高分子聚合物纤维进行预处理的步骤。所述预处理的步骤包括:对所述高分子聚合物纤维表面进行清洗和干燥。所述清洗步骤用的洗液可以为无水乙醇或丙酮等有机溶剂。更进一步地,可以使用等离子清洗剂进行清洗。所述干燥步骤可以使用氮气进行吹干。
本发明还提供一种由上述的氧化铝基复合纤维的制备方法得到的氧化铝基复合纤维。所述氧化铝基复合纤维包括高分子聚合物纤维芯体和包覆在所述高分子聚合物纤维芯体表面的氧化铝层。
在一些实施例中,所述氧化铝层的厚度为20nm~100nm。
本发明还提供一种制件,由所述的氧化铝基复合纤维制成。
以下为具体实施例。旨在对本发明做进一步的详细说明,以帮助本领域技术及研究人员进一步理解本发明,有关技术条件等并不构成对本发明的任何限制。在本发明权利要求范围内所做的任何形式的修改,均在本发明权利要求的保护范围之内。
实施例1
1、聚酯纤维等离子体改性
(1)对聚酯纤维表面进预处理
将聚酯纤维浸泡于无水乙醇中,并利用等离子清洗机进行清洗,然后用无尘布或无尘纸进行擦拭干燥,并利用氮气气枪进行吹干。
(2)等离子体表面改性
预处理后的聚酯纤维置于手套箱中进行保存,保持表面的清洁和干燥。然后向等离子体表面活化腔室中进行转移。在等离子体表面活化腔室中充满氧气,使用频率60Hz的AC放电和信号发生器获得调制频率1Hz的矩形波形的调制磁场(磁场强度为23.5B),对聚酯纤维处理1min。
(3)紫外线照射
在腔室中通入N2进行清洗,并使其保持N2氛围,使用紫外线照射1min。
(4)空间隔离原子层沉积
利用如图2所示的空间隔离原子层沉积装置进行氧化铝薄膜的沉积。在PC端设定工艺参数:载气(N2)、隔离气体(N2)、前驱体A(TMA)、前驱体B(H2O)流量均为1000sccm,基底温度为120℃、微间隙带高度h为0.5mm,基底运动速度为0.1m/s。
1)打开氮气通路,进行吹扫工作,进行20min,降低反应区域中环境因素影响。
2)打开TMA,H2O通路,吹扫10min,去除干净管路中杂质。
3)将步骤(3)处理过后的聚酯纤维拉直夹持于反应基底上。
4)基底移入反应区域中,吹扫2min。
5)基底进行往复运动,循环运动周期为100cycle,得到氧化铝基复合纤维。
实施例2
实施例2的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:微间隙带高度h设置为0.3mm。
实施例3
实施例3的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:微间隙带高度h设置为0.8mm。
实施例4
实施例4的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:基底温度设置为100℃。
实施例5
实施例5的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:基底运动速度设置为0.05m/s。
实施例6
实施例6的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维等离子体改性步骤中,等离子体处理时间为0.1min。
实施例7
实施例7的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维等离子体改性步骤中,磁场强度为118B。
实施例8
实施例8的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维布不进行紫外线照射。
对比例1
对比例1的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:微间隙带高度h设置为1mm。
对比例2
对比例2的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:基底温度设置为80℃。
对比例3
对比例3的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:基底运动速度设置为0.5m/s。
对比例4
对比例4的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维等离子体改性步骤中,等离子体处理时间为2min。
对比例5
对比例5的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维等离子体改性步骤中,等离子体处理时间为5min。
对比例6
对比例6的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维等离子体改性步骤中,等离子体处理时间为10min。
对比例7
对比例7的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维不进行等离子体处理改性和紫外光照,直接置于基底上沉积氧化铝。
对比例8
对比例8的制备方法与实施例1的制备方法基本相同,不同之处在于:聚酯纤维等离子体改性步骤中,不加入外加磁场。
实施例1~8及对比例1~8的制备方法中的工艺参数列表如下表1:
表1
组别 | 微间隙带高度h | 基底温度 | 基底运动速度 | 等离子体处理时间 | 磁场强度 | 是否紫外照射 |
实施例1 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 1min | 23.5B | 是 |
实施例2 | 0.3mm | 120℃ | 0.1m/s | 1min | 23.5B | 是 |
实施例3 | 0.8mm | 120℃ | 0.1m/s | 1min | 23.5B | 是 |
实施例4 | 0.5mm | 100℃ | 0.1m/s | 1min | 23.5B | 是 |
实施例5 | 0.5mm | 120℃ | 0.05m/s | 1min | 23.5B | 是 |
实施例6 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 0.1min | 23.5B | 是 |
实施例7 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 1min | 118B | 是 |
实施例8 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 1min | 23.5B | 否 |
对比例1 | 1mm | 120℃ | 0.1m/s | 1min | 23.5B | 是 |
对比例2 | 0.5mm | 80℃ | 0.1m/s | 1min | 23.5B | 是 |
对比例3 | 0.5mm | 120℃ | 0.5m/s | 1min | 23.5B | 是 |
对比例4 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 2min | 23.5B | 是 |
对比例5 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 5min | 23.5B | 是 |
对比例6 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 10min | 23.5B | 是 |
对比例7 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 10min | 0B | 是 |
对比例8 | 0.5mm | 120℃ | 0.1m/s | 0min | 0B | 否 |
将实施例1~8及对比例1~8制得的氧化铝基复合纤维作为样品,每个纤维样品上取5个位置不同的点(A点、B点、C点、D点、E点)进行厚度的测定,每个样品上选取的5个点的位置一致,结果如表2所示,其中相对差值为最大值和最小值的差:
表2
从表1可以看出,对比例制得的氧化铝基复合纤维要么相对差值较大,氧化铝沉积不均匀,要么氧化铝沉积层较薄,造成原料的浪费。而实施例1~8制得的氧化铝基复合纤维氧化铝包覆膜厚度适中且均匀,原料利用率高。
将实施例1及对比例1制得的氧化铝基复合纤维进行耐热性和抗拉伸强度性能测试,测试结果如下表3所示。
其中,各项性能测试项目的测试条件或测试标准为:
热失重(TGA)测试:称取样品,使用1100SF标准型热失重热分析仪(瑞士梅特勒-托利多)在氮气或空气气氛中测试,温度从室温升温至测量温度,升温速率采用10.0K/min。观察样品随温度升高重量的变化,重量损失达到50%则表示样品失效,此时的测试温度即为最高耐热温度,最高耐热温度值越大,样品安全使用的温度越高,耐热温度大于1000℃则说明样品可以使用于高温作业、空间技术等特殊环境。
抗拉伸强度:采用XQ-1C型高强高模纤维强伸度仪测定纤维的抗拉伸强度,仪器参数:夹持距离8mm,拉伸速度5mm/min,模量起点0.1%,模量终点0.7%,张力夹负荷0.2cN。
表3
组别 | 最高耐热温度(℃) | 抗拉伸强度(GPa) |
实施例1 | 1150 | 3 |
对比例1 | 300 | 1.3 |
从上表2可知,实施例1制备的氧化铝基复合纤维与对比例1制备的氧化铝基复合纤维相比,实施例1制备的氧化铝基复合纤维具有更好的耐热性和抗拉伸强度。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (13)
1.一种氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S10,在外部磁场作用下,利用等离子体对高分子聚合物纤维进行表面改性,引入极性基团;及
S30,采用空间隔离原子层沉积技术在改性后的高分子聚合物纤维表面沉积氧化铝薄膜。
2.根据权利要求1所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述磁场强度为23.5B~118B。
3.根据权利要求1所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,步骤S1中,所述等离子体处理时间为0.1min~1min。
4.根据权利要求1所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,所述等离子体选自氧气等离子体、氮气等离子体和空气等离子体中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,步骤S30包括:
S31,将所述改性后的高分子聚合物纤维置于空间隔离原子层沉积装置的基底上,所述空间隔离原子层沉积装置还包括喷头单元,所述喷头单元包括前驱体A喷头、隔离气体喷头和前驱体B喷头;
S32,所述基底依次通过所述前驱体A喷头、所述隔离气体喷头和所述前驱体B喷头;
基底通过所述前驱体A喷头时,前驱体A喷头喷出的前驱体A通过化学吸附作用在基底的表面形成第一反应产物的单分子层;
基底通过所述隔离气体喷头时,隔离气体喷头喷出的隔离气体将未反应的前驱体和反应副产物清除;
基底通过所述前驱体B喷头时,前驱体B喷头喷出的前驱体B与所述第一反应产物进行化学反应,得到氧化铝单层薄膜;以及
S33,所述基底与所述喷头单元作相对往复运动形成多层薄膜。
6.根据权利要求5所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,所述喷头和所述基底之间的微间隙带高度h为0.3mm~0.8mm。
7.根据权利要求5所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,所述基底反应温度为90℃~120℃。
8.根据权利要求5所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,所述基底与所述喷头单元的相对运动速度为0.05m/s~0.4m/s。
9.根据权利要求5所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,所述前驱体A、前驱体B以及隔离气体的流量为1000sccm~1200sccm。
10.根据权利要求1~9任一项所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,步骤S10和步骤S30之间还包括步骤S20,对所述改性后的高分子聚合物纤维进行在紫外线照射。
11.根据权利要求1~9任一项所述的氧化铝基复合纤维的制备方法,其特征在于,所述高分子聚合物纤维选自聚乙烯纤维、聚丙烯纤维、聚酰亚胺纤维、聚醚酰亚胺纤维、聚芳醚酮纤维、聚砜纤维、聚苯硫醚纤维、芳纶、聚氨酯纤维、聚酯纤维、聚丙烯腈纤维、聚酰胺纤维和丙烯酸纤维中的一种或多种。
12.由权利要求1~11任一项所述的氧化铝基复合纤维的制备方法得到的氧化铝基复合纤维,其特征在于,包括高分子聚合物纤维芯体和包覆在所述高分子聚合物纤维芯体表面的氧化铝层。
13.一种制件,其特征在于,由权利要求12所述的氧化铝基复合纤维制成。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011629302.7A CN112832017B (zh) | 2020-12-30 | 2020-12-30 | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 |
PCT/CN2021/132812 WO2022142887A1 (zh) | 2020-12-30 | 2021-11-24 | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 |
JP2023539877A JP2024502015A (ja) | 2020-12-30 | 2021-11-24 | アルミナ基複合繊維、その製造方法および製品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011629302.7A CN112832017B (zh) | 2020-12-30 | 2020-12-30 | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112832017A true CN112832017A (zh) | 2021-05-25 |
CN112832017B CN112832017B (zh) | 2022-04-26 |
Family
ID=75925839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011629302.7A Active CN112832017B (zh) | 2020-12-30 | 2020-12-30 | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024502015A (zh) |
CN (1) | CN112832017B (zh) |
WO (1) | WO2022142887A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022142887A1 (zh) * | 2020-12-30 | 2022-07-07 | 华中科技大学 | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102423645A (zh) * | 2011-10-19 | 2012-04-25 | 南京工业大学 | 一种对聚四氟乙烯分离膜表面改性的方法 |
CN103105419A (zh) * | 2011-11-09 | 2013-05-15 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 一种氧化铝-氧化锡复合纳米管的制备方法 |
KR20130092813A (ko) * | 2012-02-13 | 2013-08-21 | 주식회사 케이씨텍 | 균일한 플라즈마 형성을 위한 원자층 증착장치 |
CN103966833A (zh) * | 2014-04-25 | 2014-08-06 | 北京化工大学 | 一种表面改性高强高模聚酰亚胺纤维的方法及其应用 |
CN104213099A (zh) * | 2014-09-24 | 2014-12-17 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 一种碳化硅纤维表面氧化物陶瓷涂层的制备方法 |
CN105420689A (zh) * | 2015-11-06 | 2016-03-23 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 一种取向碳纳米管-氧化铝杂化纤维及其制备方法 |
CN105779968A (zh) * | 2016-03-16 | 2016-07-20 | 华中科技大学 | 一种量子点薄膜制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101921994B (zh) * | 2010-07-30 | 2011-12-21 | 北京印刷学院 | 一种原子层沉积超薄氧化铝薄膜的装置及方法 |
CN107815666B (zh) * | 2017-10-31 | 2019-11-22 | 华中科技大学 | 一种基于等离子体增强原子层沉积的薄膜掺杂改性方法 |
CN108867025B (zh) * | 2018-06-01 | 2020-12-11 | 大连理工大学 | 一种基于一维光子晶体的彩色碳纤维材料及其制备方法 |
CN112832017B (zh) * | 2020-12-30 | 2022-04-26 | 华中科技大学 | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 |
-
2020
- 2020-12-30 CN CN202011629302.7A patent/CN112832017B/zh active Active
-
2021
- 2021-11-24 JP JP2023539877A patent/JP2024502015A/ja active Pending
- 2021-11-24 WO PCT/CN2021/132812 patent/WO2022142887A1/zh active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102423645A (zh) * | 2011-10-19 | 2012-04-25 | 南京工业大学 | 一种对聚四氟乙烯分离膜表面改性的方法 |
CN103105419A (zh) * | 2011-11-09 | 2013-05-15 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 一种氧化铝-氧化锡复合纳米管的制备方法 |
KR20130092813A (ko) * | 2012-02-13 | 2013-08-21 | 주식회사 케이씨텍 | 균일한 플라즈마 형성을 위한 원자층 증착장치 |
CN103966833A (zh) * | 2014-04-25 | 2014-08-06 | 北京化工大学 | 一种表面改性高强高模聚酰亚胺纤维的方法及其应用 |
CN104213099A (zh) * | 2014-09-24 | 2014-12-17 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 一种碳化硅纤维表面氧化物陶瓷涂层的制备方法 |
CN105420689A (zh) * | 2015-11-06 | 2016-03-23 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 一种取向碳纳米管-氧化铝杂化纤维及其制备方法 |
CN105779968A (zh) * | 2016-03-16 | 2016-07-20 | 华中科技大学 | 一种量子点薄膜制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
MENI SHIMEL ET AL.: "Enhancement of Wetting and Mechanical Properties of UHMWPE-Based Composites through Alumina Atomic Layer Deposition", 《ADVANCED MATERIALS INTERFACES》 * |
张乐乐: "Al2O3/ZnO一维光子晶体着色金属/纤维的制备及性能", 《中国优秀硕士学位论文全文数据库 基础科学辑》 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022142887A1 (zh) * | 2020-12-30 | 2022-07-07 | 华中科技大学 | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112832017B (zh) | 2022-04-26 |
JP2024502015A (ja) | 2024-01-17 |
WO2022142887A1 (zh) | 2022-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Ma et al. | Atmospheric-pressure plasma assisted engineering of polymer surfaces: From high hydrophobicity to superhydrophilicity | |
JP7336019B2 (ja) | 撥水ナノ膜及びその製造方法、応用、並びに製品 | |
Hegemann | Plasma polymerization and its applications in textiles | |
EP1453897B1 (en) | Plasma fluorination treatment of porous materials | |
KR100970025B1 (ko) | 다공성 물질의 플라즈마 처리 | |
JP5778376B2 (ja) | コーティングプロセスにおいて材料を噴霧化する方法 | |
KR20070006991A (ko) | 소수성 또는 초소수성 처리를 위하여 상압 플라즈마를이용한 표면코팅방법 | |
CN112832017B (zh) | 氧化铝基复合纤维及其制备方法和制件 | |
JPH1171681A (ja) | 高速アークプラズマ成膜による保護皮膜 | |
Karaman et al. | Initiated chemical vapor deposition of pH responsive poly (2-diisopropylamino) ethyl methacrylate thin films | |
KR20020008395A (ko) | 화학 증착 시스템 및 방법 | |
Cech et al. | Continuous surface modification of glass fibers in a roll-to-roll plasma-enhanced CVD reactor for glass fiber/polyester composites | |
Xu et al. | Fabrication of fluorine-free, comfortable and wearable superhydrophobic fabrics via capacitance coupled plasma with methyl side-chain lauryl methacrylate coatings | |
Myung et al. | Chemical structure and surface morphology of plasma polymerized-allylamine film | |
Toshioka et al. | Surface-modified layer formed by plasma nitriding using chromium screen | |
Paulussen et al. | Physical and chemical properties of hybrid barrier coatings obtained in an atmospheric pressure dielectric barrier discharge | |
Karaman et al. | Chemical and physical modification of surfaces | |
Hossain et al. | Ammonia/acetylene plasma deposition: An alternative approach to the dyeing of poly (ethylene terephthalate) fabrics at low temperatures | |
KR100336622B1 (ko) | 플라즈마를 이용한 재료 표면에의 고분자 중합막 합성방법 및 그 방법으로 제조된 고분자 재료 | |
Huang et al. | Synthesis of organosilicon film on polycarbonate by means of low-temperature atmospheric-pressure plasma jet | |
Qin et al. | Improved adhesion performances of aramid fibers with vinyl epoxy via supercritical carbon dioxide modification | |
Rombaldoni et al. | Thin film deposition by PECVD using HMDSO-O2-Ar gas mixture on knitted wool fabrics in order to improve pilling resistance | |
CN113275217B (zh) | 等离子体接枝共聚膜层的制备方法 | |
Wang et al. | Electroless deposition of copper on poly (tetrafluoroethylene) films modified by plasma-induced surface grafting of poly (4-vinylpyridine) | |
Noborisaka et al. | Synthesis of diamond-like carbon films on planar and non-planar geometries by the atmospheric pressure plasma chemical vapor deposition method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |