CN112820743A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置,其中显示面板在显示区包括自基底一侧层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;在非显示区,显示面板包括基底一侧的至少一层金属层,以及非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层;显示区的至少一层绝缘层与非显示区的至少一层平坦化层为同一膜层。即非显示区中的至少一层平坦化层延伸至显示面板的显示区作为显示区中的绝缘层,平坦化层为有机层,因此显示面板的显示区的柔性性能可以被相应提升,进而减少卷曲或弯折过程中显示区中绝缘层的断裂,有利于延长显示面板的使用寿命,并可以简化显示面板的制作流程。
Description
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展,现有显示装置的屏幕尺寸越来越大。
为了方便大尺寸屏幕显示装置的携带,现有技术中通常将显示面板制作为柔性显示面板,通过折叠或卷曲等方式减小显示装置尺寸以方便携带。
然而,现有柔性显示面板存在折叠或卷曲过程中,显示面板中部分膜层容易断裂的问题,影响显示面板的使用寿命。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置,以实现提高显示面板的柔性性能,减少膜层断裂问题的出现,延长显示面板的使用寿命。
第一方面,本发明实施例提供了一种显示面板,包括显示区和显示区周边的非显示区,显示面板包括基底;
在显示区,显示面板包括自基底一侧层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;
在非显示区,显示面板包括基底一侧的至少一层金属层,以及非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层,平坦化层为有机层;
其中,显示区的至少一层绝缘层与非显示区的至少一层平坦化层为同一膜层。
可选的,在显示区,显示面板包括自基底一侧层叠设置的有源层、第一金属层、第一绝缘层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层;
在非显示区,显示面板至少包括自基底一侧层叠设置的第一平坦化层和第三金属层;
其中,第二绝缘层与第一平坦化层为同一膜层,第一平坦化层延伸至显示区作为显示区的第二绝缘层。
可选的,第一绝缘层包括氮化硅层。
可选的,在显示区,还包括第三绝缘层,第三绝缘层位于第二金属层和第三金属层之间,且位于第二绝缘层靠近或远离第二金属层的一侧;
可选的,第三绝缘层为氧化硅层。
可选的,在非显示区,显示面板还包括第二金属层和第二平坦化层,其中,第二平坦化层、第二金属层、第一平坦化层、第三金属层自基底一侧层叠设置;
第一绝缘层与第二平坦化层为同一膜层,第二平坦化层延伸至显示区作为显示区的第一绝缘层。
可选的,在显示区,显示面板还包括第四金属层和第四绝缘层,其中,第四金属层位于第三金属层远离基底的一侧,第四绝缘层位于第三金属层和第四金属层之间;
在非显示区,还包括第四金属层和第三平坦化层,其中,第三平坦化层设置于第三金属层和第四金属层之间;
第四绝缘层与第三平坦化层为同一膜层,第三平坦化层延伸至显示区作为显示区的第四绝缘层。
可选的,在显示区包括多个薄膜晶体管和电容,其中第一金属层包括薄膜晶体管的栅极和电容的第一极板,第二金属层包括电容的第二极板,第三金属层包括薄膜晶体管的源极和漏极。
可选的,在非显示区的金属层的靠近基底的一侧和远离基底的一侧均包括平坦化层。
第二方面,本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,包括:
在显示区,在基底的一侧形成层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;
在非显示区,在基底的一侧形成包括至少一层金属层,以及非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层,平坦化层为有机层;
其中,显示区的至少一层绝缘层与非显示区的至少一层平坦化层为同时制作的同一膜层。
第三方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括第一方面提供的显示面板。
本发明实施例提供了显示面板及其制作方法、显示装置,其中显示面板在显示区包括自基底一侧层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;在非显示区,显示面板包括基底一侧的至少一层金属层,以及非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层;显示区的至少一层绝缘层与非显示区的至少一层平坦化层为同一膜层。即非显示区中的至少一层平坦化层延伸至显示面板的显示区作为显示区中的绝缘层,平坦化层为有机层,因此显示面板的显示区的柔性性能可以被相应提升,进而减少卷曲或弯折过程中显示区中绝缘层的断裂,有利于延长显示面板的使用寿命;显示区中绝缘层与非显示区的平坦化层为同一膜层时,该显示区中的绝缘层与非显示区的平坦化层在相同的工序中制作完成即可,可以简化显示面板的制作流程。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图6是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图;
图7是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
正如背景技术中所述,现有柔性显示面板存在折叠或卷曲过程中,显示面板中部分膜层容易断裂的问题,影响显示面板的使用寿命。经发明人研究发现,出现上述问题的原因在于,现有显示面板通常包括显示区和非显示区,其中显示区和非显示区结构不同,在显示区,显示面板包括多层金属层,相邻金属层之间设置有绝缘层;非显示区通常包括弯折区,非显示区中设置有走线和有机层,因有机层的柔性性能较佳,因此可以使得非显示区比较耐弯折。然而,显示区的绝缘层通常采用无机层,无机层结构致密,材质较硬,在卷曲或折叠过程中则绝缘层容易产生断裂,造成显示显示柔性性能差,影响显示面板使用寿命。
基于上述原因,本发明实施例提供了一种显示面板,图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图,参考图1,该显示面板包括显示区AA和显示区AA周边的非显示区NAA,显示面板包括基底110;在显示区AA,显示面板包括自基底110一侧层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;在非显示区NAA,显示面板包括基底110一侧的至少一层金属层,以及非显示区NAA的金属层的至少一侧的平坦化层,平坦化层为有机层;其中,显示区AA的至少一层绝缘层与非显示区NAA的至少一层平坦化层为同一膜层。
参考图1,图1中示意性地示出了在显示区,显示面板包括第一金属层120、第二金属层140以及第一金属层120和第二金属层140之间的第一绝缘层130;在非显示区,显示面板包括一层平坦化层131和一层金属层(第二金属层,与显示区的第二金属层140为同一膜层)的情况。
可选的,基底110可以为显示面板提供缓冲、保护或支撑等作用,本实施例的显示面板可以是柔性显示面板,相应的,基底110可以是柔性基底110,柔性基底110的材料可以是聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等,也可以是上述多种材料中至少两种的混合材料。
具体的,显示面板包括显示区AA和非显示区NAA,其中,在显示区AA中,显示面板可以包括多个子像素,多个子像素可以具有不同的发光颜色,进而实现显示面板的彩色显示。子像素的发光需要由像素电路来驱动,因此在显示面板的显示区AA还包括像素电路。在基底110的一侧,包括层叠设置的至少两层金属层,最靠近基底110的金属层与基底110之间还可包括有源层,像素电路形成在有源层以及金属层中。显示区AA中,不同金属层中包括的电路结构不同,为实现不同电路结构之间的良好绝缘,在相邻的金属层之间需设置绝缘层以避免不同电路结构之间发生短路。
在非显示区NAA中,可以包括走线,该走线可用于将驱动信号传输至显示面板的显示区AA,走线制作在非显示区NAA的金属层中。其中,非显示区NAA的金属层可以与显示区AA中的金属层在相同的工序中进行制备,进而使得非显示区NAA中金属层与显示区AA中金属层在同层中即可实现连接,进而实现向显示区AA的信号传输,并简化显示面板的制作流程。可选的,非显示区NAA的金属层和显示区AA的金属层同层时,则可同时在显示面板的显示区AA和非显示区NAA同时铺设整层金属层,然后对该整层金属层进行刻蚀,得到显示区AA中的图案结构和非显示区NAA的图案结构。显示面板的非显示区NAA,还包括平坦化层,该平坦化层至少位于非显示区NAA金属层的靠近基底110的一侧和/或远离基底110的一侧,平坦化层为有机层,即平坦化层采用有机材料制作,因有机材料的柔性性能较佳,可以提高非显示区NAA的膜层结构的柔性性能。可选的,非显示区NAA可以包括弯折区,弯折区可以部分或全部弯折至显示面板的背光侧,进而实现显示面板的窄边框。
本实施例中,显示区AA的至少一层绝缘层与非显示区NAA的至少一层平坦化层为同一膜层,即非显示区NAA中的至少一层平坦化层延伸至显示面板的显示区AA作为显示区AA中的绝缘层,因平坦化层为有机层,故显示区AA中的至少一层绝缘层为有机层。因相对于无机层,有机层的柔性性能更佳,因此显示面板的显示区AA的柔性性能可以被相应提升,进而减少显示区AA在卷曲或弯折过程中显示区AA绝缘层的断裂,有利于延长显示面板的使用寿命。并且,对于相比于现有技术中显示区AA中绝缘层和非显示区NAA平坦化层分别进行制作的方式,可以简化显示面板的制作流程。
本实施例提供的显示面板,在显示区包括自基底一侧层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;在非显示区,显示面板包括基底一侧的至少一层金属层,以及非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层;显示区的至少一层绝缘层与非显示区的至少一层平坦化层为同一膜层。即非显示区中的至少一层平坦化层延伸至显示面板的显示区作为显示区中的绝缘层,平坦化层为有机层,因此显示面板的显示区的柔性性能可以被相应提升,进而减少显示区中卷曲或弯折过程中显示区中绝缘层的断裂,有利于延长显示面板的使用寿命;显示区中绝缘层与非显示区的平坦化层为同一膜层时,该显示区中的绝缘层与非显示区的平坦化层在相同的工序中制作完成即可,可以简化显示面板的制作流程。
图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图,参考图2,可选的,在显示区AA,显示面板包括自基底110一侧层叠设置的有源层101、第一金属层120、第一绝缘层130、第二金属层140、第二绝缘层160和第三金属层170;在非显示区NAA,显示面板至少包括自基底110一侧层叠设置的第一平坦化层161和第三金属层170;其中,第二绝缘层160与第一平坦化层161为同一膜层,第一平坦化层161延伸至显示区AA作为显示区AA的第二绝缘层160。
可选的,在显示区AA包括多个薄膜晶体管和电容,其中第一金属层120包括薄膜晶体管的栅极和电容的第一极板,第二金属层140包括电容的第二极板,第三金属层170包括薄膜晶体管的源极和漏极。其中,薄膜晶体管和电容可以包括在像素电路中。
可选的,有源层101可由有源层101可由非晶硅(a-Si)、多晶硅(poly-Si)、有机半导体等制成。此外,有源层101可由氧化物半导体制成。在这种情况下,氧化物半导体的实例包括但不限于氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟锡锌(ITZO)或者氧化铟镓锌(IGZO)。
非显示区NAA中包括走线,该走线可以用于连接设置于非显示区NAA的驱动芯片和显示区AA的像素电路。其中,驱动芯片通常用于提供数据信号,该数据信号需要通过数据线传输至像素电路,数据线从非显示区NAA延伸至显示区AA实现向像素电路中数据信号的传输,因数据线通常与薄膜晶体管的源极电连接,为方便数据线与薄膜晶体管源极的连接,数据线与薄膜晶体管的源极可位于同层,因此在非显示区NAA,可以包括第三金属层170,在显示面板的制作过程中,可同时在显示区AA和非显示区NAA形成第三金属层170,然后图案化得到显示区AA中的图案结构和非显示区NAA的图案结构。第三金属层170还可包括电源线,该电源线可以从非显示区NAA延伸至显示区AA并连接至像素电路,进而实现电源信号的传输。
现有技术中,第二金属层140与第三金属层170之间的绝缘层通常被称之为层间绝缘层。其中,层间绝缘层通常包括两层无机层,即自第二金属层140至第三金属层170层叠设置的第一无机层和第二无机层,其中第一无机层通常为氧化硅层,第二无机层为氮化硅层。而氮化硅层的结构致密,材质较硬,使得在卷曲过程中容易出现断裂。参考图2,与现有技术不同的是,本实施例中,第一平坦化层161延伸至显示区AA作为显示区AA的第二绝缘层160,因此第二绝缘层160为有机层,有机层的柔性性能相对与无机层佳,因此可以减少显示面板卷曲过程中第二绝缘层160的断裂,提升显示面板的柔性性能。并且,因在显示区AA的部分位置,第二绝缘层160与第一绝缘层130直接接触,在第一绝缘层130为无机层时,第二绝缘层160可以对第一绝缘层130中的应力起到一定的缓冲释放作用,进而使得第一绝缘层130也不容易发生断裂,进一步保证显示面板的柔性性能。
其中,图2所示显示面板制作时,可以在形成第二金属层140后,将在显示区AA中膜层结构制作过程中,非显示区NAA中被同时制作出的膜层刻蚀掉,然后同时在第二金属层140上,且在显示区AA和非显示区NAA形成整层第一平坦化层161的有机材料,并对该整层有机材料同时进行图案化,得到显示区AA的第二绝缘层160和非显示区NAA的第一平坦化层161。
继续参考图2,在上述技术方案的基础上,可选的,第一绝缘层130包括氮化硅层。
如上述实施例中所述的,现有技术中层间绝缘层(第二绝缘层160)中包括氮化硅层,氮化硅层可以在氢化过程中提供氢原子,在有源层101为多晶硅时,可以为薄膜晶体管的沟道提供氢原子,具体的,氮化硅层所提供的氢原子可以穿过氮化硅层之间的膜层到达薄膜晶体管有源层101的沟道区;并且,因第二绝缘层160在制作完成后,需要形成贯穿第二绝缘层160和第一绝缘层130的过孔,以使得第三金属层170的源漏极可以连接至薄膜晶体管有源层101的掺杂区,因此氮化硅层提供的氢原子也可通过过孔到达有源层101,并进入到薄膜晶体管有源层101的沟道区,进而提高薄膜晶体管沟道的空穴迁移率。本实施例的技术方案中,将第二绝缘层160替换为有机层后,为避免薄膜晶体管沟道的空穴迁移率降低,可以将第一绝缘层130设置为氮化硅层,使得在氢化过程中,第一绝缘层130的氮化硅可以提供氢原子,进而保证薄膜晶体管沟道的较高的空穴迁移率。并且可选的,相比于现有技术中第一绝缘层130的厚度,本实施例中第一绝缘层130的厚度可以更大,进而弥补第二绝缘层160替换为有机层而无法提供的氢原子,保证薄膜晶体管沟道的空穴迁移率。因第一绝缘层130在第一金属层120和第二金属层140之间,第一金属层120中包括电容的一个极板,第二金属层140中包括电容的另一个极板,将第一绝缘层130的厚度增大后,电容值将会变小,为保证电容值不变,可选的,将第一金属层120中电容极板和第二金属层140中电容极板中的正对面积增大,进而保证像素电路的性能不变。即当将非显示区NAA的第一平坦化层161延伸至显示区AA作为第二绝缘层160时,相比于现有技术,可以将第一绝缘层130的厚度增大,以及将电容极板的正对面积增大。
图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图,参考图3,可选的,在显示区AA,还包括第三绝缘层180,第三绝缘层180位于第二金属层140和第三金属层170之间,且第二绝缘层160靠近或远离第二金属层140的一侧;可选的,第三绝缘层180为氧化硅层。
其中,图3中示意性地示出了第三绝缘层180位于第二绝缘层160靠近第二金属层140的一侧的结构。
具体的,层间绝缘层中,相对于氮化硅层,氧化硅层的膜层结构相对稀松,因此具有一定的柔性性能。因此可以将层间绝缘层中的氮化硅层替换为有机层,而氧化硅层仍然保留。即本实施例中,第二绝缘层160所在位置相当于现有技术显示面板的层间绝缘层中氮化硅层所在的位置,将非显示区NAA的第一平坦化层161延伸至显示区AA作为第二绝缘层160,而无需原有的氮化硅层,进而提升显示面板的柔性性能。并且,保留原有的氧化硅层后,层间绝缘层形成了有机和无机的层叠结构,因此可以起到一定阻隔水氧的作用,有利于进一步延长显示面板的使用寿命。对于第二绝缘层160和第三绝缘层180(氧化硅层)的相对位置,本实施例在此不做具体限定。
图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图,参考图4,可选的,在非显示区NAA,显示面板还包括第二金属层140和第二平坦化层131,其中,第二平坦化层131、第二金属层140、第一平坦化层161、第三金属层170自基底110一侧层叠设置;
第一绝缘层130与第二平坦化层131为同一膜层,第二平坦化层131延伸至显示区AA作为显示区AA的第一绝缘层130。
具体的,在非显示区NAA中的走线较多,因此非显示区NAA中走线均设置在一层时,可能会造成非显示区NAA走线布线困难。本实施例中,设置非显示区NAA中还包括第二金属层140,在至少部分位置,第三金属层170可以通过第二金属层140进行换线;并且,可选的,在非显示区NAA,第二金属层140的走线也可不需第三金属层170进行连接,本实施例在此不做具体限定。即在显示区AA中设置两层布线结构,使得每层金属层中的走线数量都不会过多,进而简化布线。第二金属层140靠近基底110的一侧包括第二平坦化层131,该第二平坦化层131延伸至显示区AA作为显示区AA的第一绝缘层130,即第一绝缘层130为有机层,进而进一步提升显示面板的柔性性能。并且,在制作该第二平坦化层131时,即可在显示区AA和非显示区NAA同时进行铺设和图案化,图案化后即可同时形成显示区AA中的第一绝缘层130和非显示区NAA的第二平坦化层131,进而简化显示面板的制备工艺。
图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图,参考图5,可选的,在显示区AA,显示面板还包括第四金属层191和第四绝缘层192,其中,第四金属层191位于第三金属层170远离基底110的一侧,第四绝缘层192位于第三金属层170和第四金属层191之间;
在非显示区NAA,还包括第四金属层191和第三平坦化层193,其中,第三平坦化层193设置于第三金属层170和第四金属层191之间;
第四绝缘层192与第三平坦化层193为同一膜层,第三平坦化层193延伸至显示区AA作为显示区AA的第四绝缘层192。
具体的,因第三金属层170包括薄膜晶体管的源极、漏极的结构,将数据线和电源线均制备在第三金属层170,会使得第三金属层170所包括的走线和电路结构较多,布线困难。因此,本实施例中,设置第四金属层191,该第四金属层191可以包括部分电源线和/或数据线,进而简化第三金属层170中的布线。在非显示区NAA中,第四金属层191和第三金属层170之间包括第三平坦化层193,该第三平坦化层193延伸至显示面板的显示区AA作为第四绝缘层192,即第一绝缘层130为有机层,进而进一步提升显示面板的柔性性能。并且,在制作该第三平坦化层193时,即可在显示区AA和非显示区NAA同时进行铺设和图案化,图案化后即可同时形成显示区AA中的第四绝缘层192和非显示区NAA的第三平坦化层193,进而简化显示面板的制备工艺。
在上述各技术方案的基础上,对于非显示区中的任一金属层,可选的,在非显示区NAA的金属层的靠近基底110的一侧和远离基底110的一侧均包括平坦化层。
具体的,在非显示区NAA的金属层的靠近基底110的一侧和远离基底110的一侧均包括平坦化层,平坦化层可以与金属层接触,进而使得非显示区NAA弯折时,靠近基底110的一侧和远离基底110的一侧的平坦化层均可以缓解应力,进而进一步提高显示面板非显示区NAA的柔性性能。
在上述各技术方案的基础上,参考图1-图5,可选的,显示面板还包括显示功能层150,显示功能层150位于显示区AA中最远离基底110的金属层远离基底110的一侧。显示功能层150可以是有机发光二极管OLED显示功能层150、液晶显示功能层150、量子点发光二极管QLED显示功能层150、微发光二极管microLED显示功能层150等,本发明在此不做具体限定。以显示功能层150为OLED显示功能层150为例进行说明,OLED显示功能层150可以包括自下而上设置的第一电极、空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层、电子注入层和第二电极,其中,第一电极可以是阳极,第二电极可以是阴极。电子和空穴分别从阴极和阳极向电子注入层和空穴注入层注入,并分别通过电子传输层和空穴传输层向发光层迁移,二者在发光材料层复合后使发光材料发光。
本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,该制作方法用于制作本发明上述任意实施例提供的显示面板。图6是本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图,参考图6,该显示面板的制作方法包括:
步骤210、在显示区,在基底的一侧形成层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;
步骤220、在非显示区,在基底的一侧形成包括至少一层金属层,以及非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层,平坦化层为有机层;
其中,显示区的至少一层绝缘层与非显示区的至少一层平坦化层为同时制作的同一膜层。
本实施例提供的显示面板的制备方法,通过在显示区,在基底的一侧形成层叠设置的至少两层金属层以及相邻金属层之间的绝缘层;在非显示区,在基底的一侧形成包括至少一层金属层,以及非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层;其中,显示区的至少一层绝缘层与非显示区的至少一层平坦化层为同时制作的同一膜层。即非显示区中的至少一层平坦化层延伸至显示面板的显示区作为显示区中的绝缘层,平坦化层为有机层,因此显示面板的显示区的柔性性能可以被相应提升,进而减少显示区中卷曲或弯折过程中显示区中绝缘层的断裂,有利于延长显示面板的使用寿命;显示区中绝缘层与非显示区的平坦化层为同一膜层时,该显示区中的绝缘层与非显示区的平坦化层在相同的工序中制作完成即可,可以简化显示面板的制作流程。
本发明实施例还提供了一种显示装置,图7是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图,参考图7,本发明实施例提供的显示装置10包括本发明上述任意实施例提供的显示面板100。显示装置可以为图7所示的手机,也可以为电脑、电视机、智能穿戴显示装置等,本发明实施例对此不作特殊限定。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (10)
1.一种显示面板,包括显示区和所述显示区周边的非显示区,其特征在于,所述显示面板包括基底;
在所述显示区,所述显示面板包括自所述基底一侧层叠设置的至少两层金属层以及相邻所述金属层之间的绝缘层;
在所述非显示区,所述显示面板包括所述基底一侧的至少一层金属层,以及所述非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层,所述平坦化层为有机层;
其中,所述显示区的至少一层绝缘层与所述非显示区的至少一层平坦化层为同一膜层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
在所述显示区,所述显示面板包括自所述基底一侧层叠设置的有源层、第一金属层、第一绝缘层、第二金属层、第二绝缘层和第三金属层;
在所述非显示区,所述显示面板至少包括自所述基底一侧层叠设置的第一平坦化层和所述第三金属层;
其中,所述第二绝缘层与所述第一平坦化层为同一膜层,所述第一平坦化层延伸至所述显示区作为所述显示区的所述第二绝缘层。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层包括氮化硅层。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,在所述显示区,还包括第三绝缘层,所述第三绝缘层位于所述第二金属层和所述第三金属层之间,且位于所述第二绝缘层靠近或远离所述第二金属层的一侧;
优选的,所述第三绝缘层为氧化硅层。
5.根据权利要求2或4所述的显示面板,其特征在于,在所述非显示区,所述显示面板还包括所述第二金属层和第二平坦化层,其中,所述第二平坦化层、所述第二金属层、所述第一平坦化层、所述第三金属层自基底一侧层叠设置;
所述第一绝缘层与所述第二平坦化层为同一膜层,所述第二平坦化层延伸至所述显示区作为所述显示区的所述第一绝缘层。
6.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,在所述显示区,所述显示面板还包括第四金属层和第四绝缘层,其中,所述第四金属层位于所述第三金属层远离所述基底的一侧,所述第四绝缘层位于所述第三金属层和所述第四金属层之间;
在所述非显示区,还包括所述第四金属层和第三平坦化层,其中,所述第三平坦化层设置于所述第三金属层和所述第四金属层之间;
所述第四绝缘层与所述第三平坦化层为同一膜层,所述第三平坦化层延伸至所述显示区作为所述显示区的所述第四绝缘层。
7.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,在所述显示区包括多个薄膜晶体管和电容,其中所述第一金属层包括所述薄膜晶体管的栅极和所述电容的第一极板,所述第二金属层包括所述电容的第二极板,所述第三金属层包括所述薄膜晶体管的源极和漏极。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,在所述非显示区的金属层的靠近所述基底的一侧和远离所述基底的一侧均包括所述平坦化层。
9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在显示区,在基底的一侧形成层叠设置的至少两层金属层以及相邻所述金属层之间的绝缘层;
在非显示区,在基底的一侧形成包括至少一层金属层,以及所述非显示区的金属层的至少一侧的平坦化层,所述平坦化层为有机层;
其中,所述显示区的至少一层绝缘层与所述非显示区的至少一层平坦化层为同时制作的同一膜层。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的显示面板。
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