CN112768494A - 基于金属网的改善串扰的微显示器结构以及制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种基于金属网的改善串扰的微显示器结构以及制备方法，其中，所述微显示器结构包括：微显示发光本体、金属网格层和滤光片层；所述金属网格层设置在所述微显示发光本体中封装层的上表面，所述金属网格层呈网格状，且中部均匀地形成有多个间隔，所述滤光片层设置在所述间隔内。该微显示器结构克服现有技术中的微显示器随着像素尺寸的减小，像素间的光学串扰和电学串扰越来越严重的问题。
Description
技术领域
本发明涉及微显示器技术领域，具体地，涉及一种基于金属网的改善串扰的微显示器结构以及制备方法。
背景技术
在微显示器中，随着像素尺寸的减小，像素间的光学串扰和电学串扰越来越严重；其中，光学串扰是指光在金属阳极上的反射会使光线串扰到邻近像素，导致邻近暗态的像素发光，或由于像素边缘交叠发光强度更强导致像素边缘更亮。电学串扰是指电流的横向扩散会使阳极间隔处发光，严重的情况下甚至会导致邻近像素发光，两种串扰都会导致色域偏低。
因此，提供一种在使用过程中可以有效地改善光学串扰和电学串扰的基于金属网的改善串扰的微显示器结构以及制备方法是本发明亟需解决的问题。
发明内容
针对上述技术问题，本发明的目的是克服现有技术中的微显示器随着像素尺寸的减小，像素间的光学串扰和电学串扰越来越严重；其中，光学串扰是指光在金属阳极上的反射会使光线串扰到邻近像素，导致邻近暗态的像素发光，或由于像素边缘交叠发光强度更强导致像素边缘更亮。电学串扰是指电流的横向扩散会使阳极间隔处发光，严重的情况下甚至会导致邻近像素发光，两种串扰都会导致色域偏低的问题，从而提供一种在使用过程中可以有效地改善光学串扰和电学串扰的基于金属网的改善串扰的微显示器结构以及制备方法。
为了实现上述目的，本发明提供了一种基于金属网的改善串扰的微显示器结构，所述微显示器结构包括：微显示发光本体、金属网格层和滤光片层；所述金属网格层设置在所述微显示发光本体中封装层的上表面，所述金属网格层呈网格状，且中部均匀地形成有多个间隔，所述滤光片层设置在所述间隔内。
优选地，所述金属网格层的材质为铝、钛、钼和钨中的任意一种。
优选地，所述微显示发光本体包括：自下而上依次设置的驱动电路板、阳极层、发光层、阴极层和封装层；其中，所述阳极层上间隔设置有多个与所述滤光片层相配合的空洞，每个所述空洞中都设置有像素定义层。
优选地，所述滤光片层包括：红色滤光片、绿色滤光片以及蓝色滤光片，三种滤光片分别均匀地设置在所述金属网格层上的多个间隔中。
优选地，所述滤光片层的上方还设置有滤光片保护层。
本发明还提供了一种基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法，所述方法包括：
制备微显示发光本体；
在所述微显示发光本体的封装层上沉积金属层；
对所述金属层进行光刻、刻蚀和剥离以形成金属网格层；
在所述金属网格层上的多个间隔中制备滤光片层。
优选地，所述制备微显示发光本体的方法包括：
在驱动电路板上制备阳极层，且所述阳极层上间隔设置有多个与所述滤光片层相配合的空洞；
在所述空洞中制备像素定义层；
在所述阳极层上分别依次蒸镀发光层和阴极层；
在所述阴极层上沉积封装层。
优选地，在所述金属网格层上的多个间隔中制备滤光片层之后，所述方法还包括：
在所述滤光片层上制备滤光片保护层。
优选地，所述滤光片层包括：红色滤光片、绿色滤光片以及蓝色滤光片。
优选地，所述金属网格层的材质为铝、钛、钼和钨中的任意一种。
根据上述技术方案，本发明提供的基于金属网的改善串扰的微显示器结构及其制备方法在使用过程中的有益效果为：通过使用金属网格层取代黑色光刻胶材料，使用高分辨率光刻胶图形化金属以使其呈网格状，该结构既能够实现遮挡光线改善光学串扰和电学串扰的目的，又能满足很小的线宽需求，用于高分辨率显示，解决普通黑色光刻胶分辨率低不能满足高分辨率需求的问题。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明；而且本发明中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是本发明的一种优选的实施方式中提供的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的结构示意图；
图2是本发明的一种优选的实施方式中提供的滤光片层与金属网格层的结构示意图；
图3是本发明的一种优选的实施方式中提供的滤光片层与金属网格层的截面图；
图4是本发明的一种优选的实施方式中提供的金属网格层的顶视图；
图5是本发明的一种优选的实施方式中提供的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法的流程图；
图6是本发明的一种优选的实施方式中提供的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法的流程图；
图7是本发明的一种优选的实施方式中提供的制备微显示发光本体的方法的流程图。
附图标记说明
1驱动电路板 2阳极层
3像素定义层 4发光层
5阴极层 6封装层
7金属网格层 8封装层
9滤光片层 10空洞
11滤光片保护层
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
在本发明中，在未作相反说明的情况下，“上、下、内、外”等包含在术语中的方位词仅代表该术语在常规使用状态下的方位，或为本领域技术人员理解的俗称，而不应视为对该术语的限制。
如图1和图2所示，本发明提供了一种基于金属网的改善串扰的微显示器结构，所述微显示器结构包括：微显示发光本体、金属网格层7和滤光片层9；所述金属网格层7设置在所述微显示发光本体中封装层8的上表面，所述金属网格层7呈网格状，且中部均匀地形成有多个间隔。
在上述方案中，所述滤光片层9包括：红色滤光片91、绿色滤光片92以及蓝色滤光片93，三种滤光片分别均匀地设置在所述金属网格层7上的多个间隔中。该结构实现了两种滤光片间隔设置的结构，而且所述金属网格层7是不透光金属材质，能够实现遮挡光线的效果，微显示发光本体发出的白色光线从所述金属网格层7射出后，金属网格层7对其进行部分遮挡操作，其余部分从所述金属网格层7的多个间隔中射出，在经过间隔时会穿过所述滤光片层9，从而实现光线过滤效果，以生成三基色，而且达到改善光学串扰和电学串扰的目的，又能满足很小的线宽需求，用于高分辨率显示，解决黑色光刻胶分辨率低不能满足高分辨率需求的问题。
在本发明的一种优选的实施方式中，所述金属网格层7的材质为铝、钛、钼和钨中的任意一种。
在上述方案中，这些金属可以达到不透光的效果，从而实现光线遮挡的目的。
在本发明的一种优选的实施方式中，所述微显示发光本体包括：自下而上依次设置的驱动电路板1、阳极层2、发光层4、阴极层5和封装层6；其中，所述阳极层2上间隔设置有多个与所述滤光片层9相配合的空洞10，每个所述空洞10中都设置有像素定义层3。
在上述方案中，由所述发光层4等结构功能层构成的微显示发光本体发射出光线，一般为白色光线，在滤光片层9进行过滤以实现三基色光的生成。
在本发明的一种优选的实施方式中，所述滤光片层9的上方还设置有滤光片保护层11。所述滤光片保护层11主要是对所述滤光片层9进行保护，以延长其使用寿命。
根据上述内容，本发明提供的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的工作原理为：本发明使用铝、钛、钼和钨中的任意一种制成金属网格层7，这些金属都属于不透光金属，微显示发光本体发出的光线射向所述金属网格层7中时，会产生部分的遮挡，射向间隔的光线会经过滤光片层9进行过滤，正常的生成三基色，以实现全彩显示效果。而金属网格层7遮挡光线改善光学串扰和电学串扰的目的同时，又能满足小的线宽需求，用于高分辨率显示，解决普通黑色光刻胶图形化工艺分辨率低不能满足高分辨率需求的问题。
对于所述金属网格层7的结构可以通过图4清楚的获知，其呈网格层状，所述金属网格层7上会有多个间隔，所述滤光片层9嵌入设置在所述多个间隔中，一般是按照红色滤光片91、绿色滤光片92以及蓝色滤光片93的顺序进行周期性设置，如图2所示，以形成一个整体层状结构，每两个滤光片之间呈间隔设置的结构。
如图5-7所示，本发明还提供了一种基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法，所述方法包括：
制备微显示发光本体；
在所述微显示发光本体的封装层6上沉积金属层；
对所述金属层进行光刻、刻蚀和剥离以形成金属网格层7；
在所述金属网格层7上的多个间隔中制备滤光片层9。
在上述方案中，所述滤光片层9包括：红色滤光片91、绿色滤光片92以及蓝色滤光片93，三种滤光片分别均匀地设置在所述金属网格层7上的多个间隔中。该结构实现了两种滤光片间隔设置的结构，而且所述金属网格层7是不透光金属材质，能够实现遮挡光线的效果，微显示发光本体发出的白色光线从所述金属网格层7射出后，金属网格层7对其进行部分遮挡操作，其余部分从所述金属网格层7的多个间隔中射出，在经过间隔时会穿过所述滤光片层9，从而实现光线过滤效果，以生成三基色，而且达到改善光学串扰和电学串扰的目的，又能满足很小的线宽需求，用于高分辨率显示，解决黑色光刻胶分辨率低不能满足高分辨率需求的问题。
在本发明的一种优选的实施方式中，所述制备微显示发光本体的方法包括：
在驱动电路板1上制备阳极层2，且所述阳极层2上间隔设置有多个与所述滤光片层9相配合的空洞10；
在所述空洞10中制备像素定义层3；
在所述阳极层2上分别依次蒸镀发光层4和阴极层5；
在所述阴极层5上沉积封装层6。
在本发明的一种优选的实施方式中，在所述金属网格层7上的多个间隔中制备滤光片层9之后，所述方法还包括：
在所述滤光片层9上制备滤光片保护层11。
在本发明的一种优选的实施方式中，所述滤光片层9包括：红色滤光片91、绿色滤光片92以及蓝色滤光片93。
在本发明的一种优选的实施方式中，所述金属网格层7的材质为铝、钛、钼和钨中的任意一种。
根据上述内容，本发明提供的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法的工作原理为：本发明使用铝、钛、钼和钨中的任意一种制成金属网格层7，这些金属都属于不透光金属，微显示发光本体发出的光线射向所述金属网格层7中时，会产生部分的遮挡，射向间隔的光线会经过滤光片层9进行过滤，正常的生成三基色，以实现全彩显示效果。而金属网格层7遮挡光线改善光学串扰和电学串扰的目的同时，又能满足小的线宽需求，用于高分辨率显示，解决普通黑色光刻胶图形化工艺分辨率低不能满足高分辨率需求的问题。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。
Claims (10)
1.一种基于金属网的改善串扰的微显示器结构，其特征在于，所述微显示器结构包括：微显示发光本体、金属网格层(7)和滤光片层(9)；所述金属网格层(7)设置在所述微显示发光本体中封装层(8)的上表面，所述金属网格层(7)呈网格状，且中部均匀地形成有多个间隔，所述滤光片层(9)设置在所述间隔内。
2.根据权利要求1所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构，其特征在于，所述金属网格层(7)的材质为铝、钛、钼和钨中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构，其特征在于，所述微显示发光本体包括：自下而上依次设置的驱动电路板(1)、阳极层(2)、发光层(4)、阴极层(5)和封装层(6)；其中，所述阳极层(2)上间隔设置有多个与所述滤光片层(9)相配合的空洞(10)，每个所述空洞(10)中都设置有像素定义层(3)。
4.根据权利要求1所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构，其特征在于，所述滤光片层(9)包括：红色滤光片(91)、绿色滤光片(92)以及蓝色滤光片(93)，三种滤光片分别均匀地设置在所述金属网格层(7)上的多个间隔中。
5.根据权利要求1所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构，其特征在于，所述滤光片层(9)的上方还设置有滤光片保护层(11)。
6.一种权利要求1-5中任一项所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
制备微显示发光本体；
在所述微显示发光本体的封装层(6)上沉积金属层；
对所述金属层进行光刻、刻蚀和剥离以形成金属网格层(7)；
在所述金属网格层(7)上的多个间隔中制备滤光片层(9)。
7.根据权利要求6所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法，其特征在于，所述制备微显示发光本体的方法包括：
在驱动电路板(1)上制备阳极层(2)，且所述阳极层(2)上间隔设置有多个与所述滤光片层(9)相配合的空洞(10)；
在所述空洞(10)中制备像素定义层(3)；
在所述阳极层(2)上分别依次蒸镀发光层(4)和阴极层(5)；
在所述阴极层(5)上沉积封装层(6)。
8.根据权利要求6所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法，其特征在于，在所述金属网格层(7)上的多个间隔中制备滤光片层(9)之后，所述方法还包括：
在所述滤光片层(9)上制备滤光片保护层(11)。
9.根据权利要求6所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法，其特征在于，所述滤光片层(9)包括：红色滤光片(91)、绿色滤光片(92)以及蓝色滤光片(93)。
10.根据权利要求6所述的基于金属网的改善串扰的微显示器结构的制备方法，其特征在于，所述金属网格层(7)的材质为铝、钛、钼和钨中的任意一种。
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