CN112750969B - 一种显示方法、显示组件及电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示方法、显示组件及电子设备，该显示方法包括：对电子设备的壳体进行平面处理；在显示基板上制作绝缘的间壁，在显示基板的所述间壁之间进行金属阴极的光刻布线，并在金属阴极上方蒸镀形成第一有机导电薄膜；在金属阴极上方蒸镀N型有机发光材料；在电子传输层上方蒸镀有机发光材料；在发光层上方蒸镀P型有机发光材料；在空穴传输层的上方蒸镀形成第二有机导电薄膜，第二有机导电薄膜的顶表面与所述间壁的顶表面平齐；在第二有机导电薄膜上方进行阳极的光刻布线，其中同一像素中的阳极之间绝缘；利用液态透明封装体进行整体封装。本发明能够将显示模组与电子设备外壳一体化设计，满足多种设备尺寸及形状的显示，灵活性高。

Description

一种显示方法、显示组件及电子设备

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示方法、显示组件及电子设备。

背景技术

OLED（Organic Light-Emitting Diode，有机发光耳机二管）属于一种电流型的有机发光器件，是通过载流子的注入和复合而致发光的现象。

传统显示限于OLED制造工艺，主要在ITO玻璃基板上进行ITO透明阳极光刻布线后，再按照排布规则以真空热蒸镀的方式依次镀上P型有机发光材料（以形成空穴传输层）、有机发光材料（以形成发光层）及N型有机发光材料（以形成电子传输层），最后进行低功函数金属阴极的光刻布线及有机镀膜。由于有机材料易与水气和或氧气作用，产生暗点而使OLED元件不发亮，因此，此OLED元件与真空镀膜完毕后，必须于无水及氧气的环境下进行封装。其中在蒸镀有机薄膜和金属阴极之前，在ITO玻璃基板上制作绝缘的间壁，将器件的不同像素隔开，实现像素阵列。

虽然传统显示技术因透明玻璃基板的进步，可以做到柔性弯折效果（即柔性屏），但是对于一些不规则表面成像仍具有一定的局限性，而且当前玻璃基板材质尺寸和曲面延展性在很大程度上限制了柔性屏显示的发展。

而且，当前可视化呈现还受限于平面显示技术，通过一定技术手段达到立体3D和曲面视角功能，机构复杂、成本较高，导致使用范围窄。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种显示方法，利用电子设备壳体为显示基板，将显示模组与电子设备外壳一体化设计，满足多种产品尺寸及形状的显示，灵活性高且使用范围广。

为了解决上述技术问题，本发明所提出如下技术方案予以解决：

本申请涉及一种显示方法，用于电子设备，其特征在于，包括如下步骤：对所述电子设备的壳体进行平面处理，以形成显示基板；在所述显示基板上制作绝缘的间壁，在所述显示基板的所述间壁之间进行金属阴极的光刻布线，并在所述金属阴极上方蒸镀形成第一有机导电薄膜；在所述第一有机导电薄膜上方蒸镀N型有机发光材料，以形成电子传输层；在所述电子传输层上方蒸镀有机发光材料，以形成发光层；在所述发光层上方蒸镀P型有机发光材料，以形成空穴传输层；在所述空穴传输层的上方蒸镀形成第二有机导电薄膜，所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述间壁的顶表面平齐；在所述第二有机导电薄膜上方进行ITO阳极的光刻布线，其中同一像素中的ITO阳极之间绝缘；利用液态透明玻璃体进行整体封装。

在本申请中，所述间壁包括第一绝缘层和阴极隔离柱；在所述显示基板上制作用于隔离同一像素的第一绝缘层；在所述第一绝缘层上方制备所述阴极隔离柱，用于隔离不同像素，所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述阴极隔离柱的顶表面平齐。

在本申请中，在所述阴极隔离柱的顶表面还制作有第二绝缘层，所述第二绝缘层的顶表面与所述ITO阳极的顶表面平齐。

在本申请中，所述第一绝缘层、阴极隔离柱及第二绝缘层采用旋涂法工艺形成；所述第一绝缘层、阴极隔离柱及第二绝缘层均采用光敏有机绝缘材料。

在本申请中，在所述P型有机发光材料的上方蒸镀形成第二有机导电薄膜，具体为：在所述P型有机发光材料的上方蒸镀形成有机导电薄膜，所述有机导电薄膜覆盖所述P型有机发光材料及对应的阴极隔离柱的顶表面；对所述有机导电薄膜进行膜面消减及平面处理，形成所述第二有机导电薄膜，其中所述有机导电薄膜平整且由所述阴极隔离柱分隔，且所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述阴极隔离柱的顶表面平齐。

在本申请中，所述第一有机导电薄膜、N型有机发光材料、有机发光材料、P型有机发光材料及第二有机导电薄膜分别采用真空蒸镀法沉积成膜。

在本申请中，对所述电子设备壳体的平面处理具体为：通过化学方式和物理方式对所述壳体进行处理，使所述壳体形成适于电路蒸镀的平面载体；所述化学方法至少包括酸碱处理，所述物理方式至少包括等离子清洗和惰性气体溅射。

在本申请中，所述显示方法还包括：在封装完成后的液态透明玻璃体的外侧加覆透明保护材料。

本发明提供的显示方法，具有如下有益效果和优点：

（1）利用电子设备的壳体作为显示基板，不受限ITO玻璃基板的设计要求，节省物料的同时拓宽使用范围；

（2）相比传统显示模组与产品之间产生组装偏差，本申请中的显示模组与壳体一体化设计，能够提升整个产品的显示可靠性及整体质量；

（3）壳体和显示模组一体化设计，能够根据壳体形状及大小进行相应显示模组的设计，满足多种产品尺寸及形状的显示，灵活性高，提升用户使用体验。

本发明的目的之二在于提供一种显示组件，利用电子设备壳体为显示基板，将显示模组与电子设备外壳一体化设计，使得显示模组满足各种产品尺寸及形状的显示，使用范围广。

为了解决上述技术问题，本发明所提出如下技术方案予以解决：

一种显示组件，其包括壳体，其特征在于，所述壳体被处理为具有平面；所述显示组件还包括：绝缘的间壁，其设置在所述壳体的平面上；金属阴极，其光刻布线在所述平面的所述间壁之间；第一有机导电薄膜，其形成在所述金属阴极上方；电子传输层，其在所述第一有机导电薄膜上方蒸镀N型有机发光材料形成；发光层，其在所述电子传输层上方蒸镀有机发光材料形成；空穴传输层，其在所述发光层上方蒸镀P型有机发光材料形成；第二有机导电薄膜，其在所述空穴传输层上方蒸镀形成，且所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述间壁的顶表面平齐；ITO阳极，其光刻布线在所述第二有机导电薄膜上方，其中同一像素中的ITO阳极之间绝缘；液态透明封装体，其用于整体封装。

在本申请中，所述液态透明封装体采用液态透明玻璃体。

本发明的目的之三在于提供一种电子设备，其具有如上所述的显示组件，能够利用电子设备壳体为显示基板，将显示模组与电子设备外壳一体化设计，使得显示模组满足各种产品尺寸及形状的显示，提高电子设备的市场竞争力及卖点。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对本发明实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简要介绍，显而易见地，下面描述的附图是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图。

图1为本发明提出的显示方法一个实施例的流程图；

图2为本发明提出的显示组件的显示模组及壳体装配的局部结构图一；

图3为本发明提出的显示组件的显示模组及壳体装配的局部结构图二；

图4为本发明提出的显示组件的显示模组及壳体装配的局部结构图三；

图5为本发明提出的显示组件的显示模组及壳体装配的局部结构图四;

图6为本发明提出的显示组件的显示模组及壳体装配的结构图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一：为了实现各种（形状及尺寸的）电子设备的显示，本申请涉及一种显示方法，其基于电子设备的壳体为显示基板，不受限于传统的ITO玻璃基板。

参考图1至图6，对本申请涉及的显示方法进行描述。

S1：对电子设备的壳体进行平面处理，以形成显示基板。

在利用壳体之前，需要对壳体的局部或整体进行平面处理，以形成显示基板10。

壳体表面的污染物直接影响器件的效率、寿命和稳定性，在本申请中，可以通过化学方法（例如酸碱处理）和物理方法（例如等离子清洗、惰性气体溅射等方式），使电子设备的壳体得到适合金属阴极蒸镀的平面载体。

采用壳体作为显示基板10，可操控性好，便于将显示模组和壳体通过工艺过程结合一起，成为一体化显示系统，适用规模应用设备功能显示，且避免使用传统玻璃基板，实现节约生产成本。

S2：在显示基板上制作绝缘的间壁，在显示基板的间壁之间进行金属阴极的光刻布线，并在金属阴极上方蒸镀形成第一有机导电薄膜。

参见图2，首先在显示基板10上制作绝缘的间壁20，用于避免同一像素之间的短路问题以及不同像素之间的短路问题，实现像素阵列。

间壁20包括第一绝缘层21和位于第一绝缘层21上方的阴极隔离柱22。

第一绝缘层21制作于显示基板10上，用于绝缘隔离同一像素。

阴极隔离柱22制作于第一绝缘层21上方，用于绝缘隔离不同像素。

第一绝缘层21和阴极隔离柱22采用旋涂法实现，首先，在显示基板10上旋涂第一层光敏有机绝缘材料（一般为光敏型有机聚合物材料，即第一绝缘层21），前烘后曝光，曝光图形为网状结构或条状结构，线条的宽度由显示分辨率即像素之间间隔决定，显影后进行后烘。其次，在有机绝缘材料上旋涂第二层光敏型有机绝缘材料（即阴极隔离柱22），一般为进行光刻后线条横截面能形成上小下大梯形形状的光刻胶中的一种（一般为负型光刻胶），前烘后对第二层有机绝缘材料进行曝光，曝光图形为直线条。

金属阴极30采用真空蒸镀法沉积成膜，利用气化原子或分子在蒸发源和显示基板10之间的输送，使原子或分子在显示基板10的表面上沉积，以形成金属阴极电路层。

金属阴极30通常使用低功函数的活泼金属，为防止下一步有机发光材料损害金属阴极30的活性，需要在完成金属阴极30的光刻布线后，在金属阴极30的上方额外沉积一层有机导电薄膜，记为第一有机导电薄膜40，此膜不影响金属阴极30到有机发光材料的电路导通特性。

第一有机导电薄膜40采用真空蒸镀法沉积成膜，利用气化原子或分子在蒸发源和金属阴极30之间的输送，使原子或分子在金属阴极30的表面上沉积形成。

S3：在第一有机导电薄膜的上方依次蒸镀N型有机发光材料、（例如特定色彩）有机发光材料和P型有机发光材料。

N型有机发光材料50、有机发光材料60和P型有机发光材料70蒸镀工艺需要在真空环境下进行。

参见图2，首先在第一有机导电薄膜40上方蒸镀N型有机发光材料50，以形成电子传输层；其次，在电子传输层上方蒸镀有机发光材料60，以形成发光层；再者，在发光层上方蒸镀P型有机发光材料70，以形成空穴传输层。

N型有机发光材料、有机发光材料及P型有机发光材料也采用真空蒸镀法沉积成膜。

S4：在P型有机发光材料的上方蒸镀形成第二有机导电薄膜，第二有机导电薄膜的顶表面与间壁的顶表面平齐。

在三层有机发光材料完成蒸镀后，要进行加模保护，防止有机发光材料损失活性。

参见图3和图4，在最外层的P型有机发光材料的上方蒸镀形成第二有机导电薄膜40'，以对三层有机发光材料进行保护。

具体地，对三层有机发光材料加膜采用旋涂工艺，以形成较厚的有机导电薄膜40''，从而将完全覆盖有机发光材料和阴极隔离柱22，参见图3，这样，在对有机导电薄膜40''进行处理时，才更有有利于得到一个平整的平面。

参见图4，对有机导电薄膜40''进行膜面消减和平面处理，使处理后形成的第二有机导电薄膜40'能够是平整的且由阴极隔离柱22分隔，即，第二有机导电薄膜40'的顶表面与阴极隔离柱22的顶表面平齐。

平整的第二有机导电薄膜40'有利于金属阳极80的光刻布线。

S5：在第二有机导电薄膜上方进行ITO阳极的光刻布线，其中同一像素中的ITO阳极之间绝缘。

参见图5，在第二有机导电薄膜40'上方进行ITO阳极80的光刻布线和蒸镀，以形成ITO阳极电路层。

如上所述，由于第二有机导电薄膜40'的顶表面与阴极隔离柱22的顶表面平齐，因此，在光刻布线ITO阳极80时，若没有绝缘层进行绝缘，则会发生同一像素间的短路问题，因此，需要设置隔绝同一像素中的ITO阳极的绝缘层。

参见图5，在阴极隔离柱22的顶表面还制作有机绝缘材料，以形成第二绝缘层90，第二绝缘层90的顶表面与ITO阳极80的顶表面平齐。

在图2至图5中，均仅标记一个像素中R或G或B中一侧的间壁20和第二绝缘层90作为示例进行说明。

S6：利用液态透明玻璃体进行整体封装。

参见图6，整体封装工艺采用真空旋涂液态透明封装体（例如液态透明玻璃体），待封装材料均匀覆盖ITO阳极电路表面及阴极隔离柱22顶表面，绝对真空环境下固化后形成镜面效果。

如此，完成电子设备的显示屏制备，图6中箭头方向指光输出的方向。

将显示模组和壳体形成一体化的稳定结构，避免产品组装，减少组装环节且提高显示屏显示可靠性。

此外，根据电子设备要求，可以在封装完成后在最外侧加覆其他材料的例如硬质透明保护材料，进行整个显示屏的外部保护。

实施例二：本申请还涉及一种显示组件，其包括壳体和设置在壳体上的显示模组，该显示模组包括如上所述的绝缘的间壁20、金属阴极30、第一有机导电薄膜40、电子传输层50、发光层60、空穴传输层70、第二有机导电薄膜40'、ITO阳极80和液态透明封装体90'，其中同一像素中的ITO阳极之间绝缘。

采用如上所述的显示模组进行显示。

根据实际显示屏设计金属阴极电路及ITO阳极电路的生产工艺不同，电子设备中用于驱动显示的方式包括有源驱动（即，Active Matrix OLED，就是主动驱动式OLED）和无源驱动（Passive Matrix OLED被动驱动式OLED）。

控制显示屏输出显示的技术（例如三色发光层法）属于本领域中常用的使用技术，在此不做赘述。

且与传统OLED显示相同，通过对金属阴极电路及阳极电路控制，形成单一电场，有机发光材料在电场下发出光源，形成逻辑化显示输出。

通过采用显示模组与电子设备的壳体一体化形成的显示屏，能够满足不同尺寸及形状的电子设备的显示，使用灵活性高；且避免传统上显示模组组装至电子设备上的组装步骤，减少组装工序；且一体化结构避免产生组装偏差，提高显示模组显示可靠性。

实施例三：本申请还涉及一种电子设备，其包括如实施例二中所述的显示组件，具体显示组件的结构可以参见实施例一和实施例二的描述。

该电子设备具有显示模组和壳体集成一体的结构，能够根据用户需求，根据电子设备的壳体设计对应大尺寸屏显示的电子设备，满足用于大屏显示需求，提升产品卖点。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种显示方法，用于电子设备，其特征在于，包括如下步骤：

对所述电子设备的壳体进行平面处理，以形成显示基板；

在所述显示基板上制作绝缘的间壁，在所述显示基板的所述间壁之间进行金属阴极的光刻布线，并在所述金属阴极上方蒸镀形成第一有机导电薄膜；

在所述第一有机导电薄膜上方蒸镀N型有机发光材料，以形成电子传输层；

在所述电子传输层上方蒸镀有机发光材料，以形成发光层；

在所述发光层上方蒸镀P型有机发光材料，以形成空穴传输层；

在所述空穴传输层的上方蒸镀形成第二有机导电薄膜，所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述间壁的顶表面平齐；

在所述第二有机导电薄膜上方进行ITO阳极的光刻布线，其中同一像素中的ITO阳极之间绝缘；

利用液态透明封装体进行整体封装。

2.根据权利要求1所述的显示方法，其特征在于，所述间壁包括第一绝缘层和阴极隔离柱；

在所述显示基板上制作用于隔离同一像素的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上方制备所述阴极隔离柱，用于隔离不同像素，所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述阴极隔离柱的顶表面平齐。

3.根据权利要求2所述的显示方法，其特征在于，

在所述阴极隔离柱的顶表面还制作有第二绝缘层，所述第二绝缘层的顶表面与所述ITO阳极的顶表面平齐。

4.根据权利要求3所述的显示方法，其特征在于，

所述第一绝缘层、阴极隔离柱及第二绝缘层采用旋涂法工艺形成；

所述第一绝缘层、阴极隔离柱及第二绝缘层均采用光敏有机绝缘材料。

5.根据权利要求2所述的显示方法，其特征在于，在所述P型有机发光材料的上方蒸镀形成第二有机导电薄膜，具体为：

在所述P型有机发光材料的上方蒸镀形成有机导电薄膜，所述有机导电薄膜覆盖所述P型有机发光材料及对应的阴极隔离柱的顶表面；

对所述有机导电薄膜进行膜面消减及平面处理，形成所述第二有机导电薄膜，其中所述有机导电薄膜平整且由所述阴极隔离柱分隔，且所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述阴极隔离柱的顶表面平齐。

6.根据权利要求5所述的显示方法，其特征在于，

所述第一有机导电薄膜、N型有机发光材料、有机发光材料、P型有机发光材料及第二有机导电薄膜分别采用真空蒸镀法沉积成膜。

7.根据权利要求1所述的显示方法，其特征在于，对所述电子设备壳体的平面处理具体为：

通过化学方式和物理方式对所述壳体进行处理，使所述壳体形成适于电路蒸镀的平面载体；

所述化学方式至少包括酸碱处理，所述物理方式至少包括等离子清洗和惰性气体溅射。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的显示方法，其特征在于，所述显示方法还包括：

在封装完成后的液态透明玻璃体的外侧加覆透明保护材料。

9.一种显示组件，其包括壳体，其特征在于，所述壳体被处理为具有平面；所述显示组件还包括：

绝缘的间壁，其设置在所述壳体的平面上；

金属阴极，其光刻布线在所述平面的所述间壁之间；

第一有机导电薄膜，其形成在所述金属阴极上方；

电子传输层，其在所述第一有机导电薄膜上方蒸镀N型有机发光材料形成；

发光层，其在所述电子传输层上方蒸镀有机发光材料形成；

空穴传输层，其在所述发光层上方蒸镀P型有机发光材料形成；

第二有机导电薄膜，其在所述空穴传输层上方蒸镀形成，且所述第二有机导电薄膜的顶表面与所述间壁的顶表面平齐；

ITO阳极，其光刻布线在所述第二有机导电薄膜上方，其中同一像素中的ITO阳极之间绝缘；

液态透明封装体，其用于整体封装。

10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求9所述的显示组件。