CN112723745A - 抗菌净化釉及使用其的釉面砖的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了抗菌净化釉及使用其的釉面砖的制备方法，按照质量份数，抗菌净化釉包括以下原料：长石38～42份、石英8～10份、白云石12～14份、煅烧滑石粉4～6份、碳酸钡4～6份、碳酸锶9～11份、煅烧氧化锌7～9份、熔块A 8～10份、高岭土7～9份和釉用改性材料1～2份。本技术方案提出的一种抗菌净化釉，其烧成获得的釉层表面可释放负离子和辐射远红外线，能有效破坏侵入釉层表面的细菌和分解环境内的有害气体，从而起到抗菌和空气净化作用，以克服现有技术中的不足之处。进而提出了一种使用上述抗菌净化釉的釉面砖的制备方法，其步骤简单，操作性强，有利于提升釉面砖的抗菌能力和空气净化能力。
Description
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种抗菌净化釉及使用其的釉面砖的制备方法。
背景技术
现代社会中，居室污染已严重威胁人类的健康。居室污染主要是指来自建筑装璜材料产生的甲醛、笨、氨，煤、液化气、天然气的燃烧等，污染物破坏家庭日常生活环境，影响人们健康。随着人们生活水平和生活品味的提高，人们对公共场所、居住空间、日用生活及医院设施的环境优化及净化日益关注。
陶瓷制品在人们的生活中应用越来越广泛，一些釉面砖的生产厂家为解决环境优化及净化的问题，尝试在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉，以利用其辐射出远红外线，实现除去室内的苯、甲醛、硫化物、氨等异味的作用。
现有的陶瓷釉料仅仅通过在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉辐射出远红外线来进行灭菌和去除异味，因此其抗菌率和异味去除率较低。为更好地解决环境优化及净化的问题，亟需生产一种异味去除率高的陶瓷釉料运用于陶瓷制品中。
发明内容
本发明的目的在于提出一种抗菌净化釉，其烧成获得的釉层表面可释放负离子和辐射远红外线，能有效破坏侵入釉层表面的细菌和分解环境内的有害气体，从而起到抗菌和空气净化作用，以克服现有技术中的不足之处。
本发明的另一个目的在于提出一种使用上述抗菌净化釉的釉面砖的制备方法，其步骤简单，操作性强，有利于提升釉面砖的抗菌能力和空气净化能力。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
抗菌净化釉，按照质量份数，包括以下原料：长石38～42份、石英8～10份、白云石12～14份、煅烧滑石粉4～6份、碳酸钡4～6份、碳酸锶9～11份、煅烧氧化锌7～9份、熔块A 8～10份、高岭土7～9份和釉用改性材料1～2份；
按照质量百分比，所述釉用改性材料包括以下化学成分：SiO2 48～50％、Al2O320～22％、Fe2O3 0.15～0.2％、TiO2 0.30～0.40％、CaO 9.0～11.8％、MgO3.5～4.0％、K2O 3.5～4.5％、Na2O 3.0～4.0％、ZnO 0.7～1.0％、BaO 5.0～10.0％、SrO 0.06～0.09％、Zr(Hf)O 0.01～0.02％、B2O3 0.05～0.06％和PbO 0.08～0.1％。
优选的，按照质量份数，包括以下原料：钾长石22～24份、钠长石16～18份、石英8～10份、白云石12～14份、煅烧滑石粉4～6份、碳酸钡4～6份、碳酸锶9～11份、煅烧氧化锌7～9份、熔块A 8～10份、高岭土7～9份和釉用改性材料1～2份。
优选的，按照质量百分比，所述熔块A包括以下化学成分：SiO2 54～58％、Al2O316～20％、Fe2O3 0.15～0.2％、TiO2 0.05～0.08％、CaO 12.5～13.8％、MgO 1.5～2％、K2O 2.5～3.5％、Na2O 0.3～0.6％、ZnO 0.7～1.5％、BaO 4.0～5.0％、SrO 0.02～0.04％和Zr(Hf)O 0.1～0.2％。
优选的，按照质量百分比，包括以下化学成分：SiO244.6～46.7％、Al2O310～11％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO2 0.03～0.06％、CaO5～6.5％、MgO 3.3～4.5％、K2O 2.5～4.5％、Na2O 2.0～10％、ZnO 7～9％、BaO 3.0～8.5％、B2O30.05～0.55％、Zr(Hf)O 0.01～0.05％、SrO 6.0～7.5％、Rb2O0.02～0.03％和P2O5 0.2～0.3％。
釉面砖的制备方法，使用上述抗菌净化釉制备而成，包括以下步骤：
A、制备底釉；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯进行烘干和烧制，形成釉面砖。
6.根据权利要求5所述的釉面砖的制备方法，其特征在于：步骤E中，所述抗菌净化釉过325目筛，筛余0.4～0.7％，且所述抗菌净化釉的比重为1.89～1.93g/ml。
优选的，步骤E中，所述抗菌净化釉的施釉量为375～420g/m2。
优选的，步骤F中，所述釉面砖的烧结温度为1190～1200℃，烧结时间为50～60min。
优选的，步骤A中，按照质量份数，所述底釉包括以下原料：钾长石20～23份、钠长石12～14份、石英8～10份、白云石3～4份、煅烧滑石粉3～4份、煅烧高岭土8～10份、煅烧氧化铝18～22份、高岭土7～9份、熔块B 5～8份和硅酸锆6～13份。
优选的，SiO244.6～46.7％、Al2O3 10～11％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO2 0.03～0.06％、CaO5～6.5％、MgO 3.3～4.5％、K2O 2.5～4.5％、Na2O 2.0～10％、ZnO 7～9％、BaO3.0～8.5％、B2O30.05～0.55％、Zr(Hf)O 0.01～0.05％、SrO 6.0～7.5％、Rb2O0.02～0.03％和P2O5 0.2～0.3％。
本发明的有益效果：
1、本技术方案在抗菌净化釉配方中引入了釉用改性材料，其能在烧成过程中与釉料中的其他原料产生化学反应，通过微波和射线转换原理将釉料中的SiO2、K2O、Na2O、ZnO和Al2O3进行改性，使其具备辐射远红外射线和产生负离子的功能。在日光灯和/或阳光的照射下，本技术方案中烧制后的抗菌净化釉层可对接触到其的空气和水分子进行电离，使氧分子变成活性氧，使水产生活性氧自由基，快速侵入和破坏细菌的细胞膜并杀死细菌，同时分解细菌残骸，保持釉面洁净，另外，还可将室内的甲醛分解为二氧化碳和水，起到净化室内空气的作用。
2、本技术方案通过熔块A的添加在抗菌净化釉的配方中引入氧化铝，有利于提高配方成分的Al/Si比，提升其烧制后的釉层耐磨性能，还能进一步提升抗菌净化釉层的抗菌能力和空气净化能力。另一方面，由于本技术方案中使用的熔块A还含有Fe2O3和TiO2，本技术方案使用的釉用改性材料还可以通过微波和射线转换原理将Fe2O3和TiO2进行改性，使其具备辐射远红外射线和产生负离子的功能，从而能更进一步地提升抗菌净化釉层的抗菌能力和空气净化能力。
3、本技术方案对釉面砖的烧结温度和时间进行严格控制，有利于避免抗菌净化釉层受外界自然因素影响而失去其抗菌和净化能力，有效确保釉面砖长效抗菌。
具体实施方式
陶瓷制品在人们的生活中应用越来越广泛，一些釉面砖的生产厂家为解决环境优化及净化的问题，尝试在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉，以利用其辐射出远红外线，实现除去室内的苯、甲醛、硫化物、氨等异味的作用。现有的陶瓷釉料仅仅通过在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉辐射出远红外线来进行灭菌和去除异味，因此其抗菌率和异味去除率较低。
为了提升釉面砖的抗菌能力和空气净化能力，本技术方案提出了一种抗菌净化釉，按照质量份数，包括以下原料：长石38～42份、石英8～10份、白云石12～14份、煅烧滑石粉4～6份、碳酸钡4～6份、碳酸锶9～11份、煅烧氧化锌7～9份、熔块A 8～10份、高岭土7～9份和釉用改性材料1～2份。
具体地，长石的添加在釉料配方中引入了K2O和Na2O，可以起到调节釉层膨胀系数的作用，有利于确保陶瓷砖的砖形平整，石英的添加在釉料配方中引入了SiO2，可有效提高釉料的耐磨性能，白云石中因含碳酸镁，有利于拓宽烧结温度，促进石英熔解；将煅烧滑石粉引入抗菌净化釉的配方结构，一方面可以增加釉层表面的平滑感，另一方面，还可以提升釉层的防污性能；碳酸钡和碳酸锶可有效保证釉面平滑细腻，同时有利于釉面发色稳定；煅烧氧化锌在配方中能有效减少釉面毛孔的产生，提升釉面效果；高岭土在配方中起到粘结、防止釉料品质触变的作用，同时其的添加在釉料配方中引入了ZnO。
进一步地，本技术方案还在抗菌净化釉配方中引入了釉用改性材料，其化学成分包括SiO2 48～50％、Al2O3 20～22％、Fe2O3 0.15～0.2％、TiO2 0.30～0.40％、CaO 9.0～11.8％、MgO 3.5～4.0％、K2O 3.5～4.5％、Na2O 3.0～4.0％、ZnO 0.7～1.0％、BaO 5.0～10.0％、SrO 0.06～0.09％、Zr(Hf)O 0.01～0.02％、B2O3 0.05～0.06％和PbO 0.08～0.1％。本技术方案使用的釉用改性材料在烧成过程中与釉料中的其他原料产生化学反应，通过微波和射线转换原理将釉料中的SiO2、K2O、Na2O、ZnO和Al2O3进行改性，使其具备辐射远红外射线和产生负离子的功能。在日光灯和/或阳光的照射下，本技术方案中烧制后的抗菌净化釉层可对接触到其的空气和水分子进行电离，使氧分子变成活性氧，使水产生活性氧自由基，快速侵入和破坏细菌的细胞膜并杀死细菌，同时分解细菌残骸，保持釉面洁净，另外，还可将室内的甲醛分解为二氧化碳和水，起到净化室内空气的作用。
更进一步说明，按照质量份数，包括以下原料：钾长石22～24份、钠长石16～18份、石英8～10份、白云石12～14份、煅烧滑石粉4～6份、碳酸钡4～6份、碳酸锶9～11份、煅烧氧化锌7～9份、熔块A 8～10份、高岭土7～9份和釉用改性材料1～2份。
由于长石在本技术方案中起到调节釉层膨胀系数的作用，进一步地，本技术方案中将钠长石和钾长石进行配合，钠长石和钾长石在配方体系中进行配合，能更灵活地对釉层膨胀系数进行调整，另外，钠长石和钾长石的配合还可起到降低烧结温度的作用，同时促进莫来石晶体的形成，增强耐磨性，特别地，钠长石的粘度较钾长石小，还可有利于提高整体釉料的高温流动性。
同时，由于本技术方案使用的釉用改性材料在烧成过程中与釉料中的其他原料产生化学反应，通过微波和射线转换原理将釉料中的SiO2、K2O、Na2O、ZnO和Al2O3进行改性，使其具备辐射远红外射线和产生负离子的功能。因此，本技术方案中控制钠长石和钾长石的添加量，有利于进一步提升抗菌净化釉釉层的抗菌能力和空气净化能力。
更进一步说明，按照质量百分比，所述熔块A包括以下化学成分：SiO2 54～58％、Al2O3 16～20％、Fe2O3 0.15～0.2％、TiO2 0.05～0.08％、CaO 12.5～13.8％、MgO 1.5～2％、K2O 2.5～3.5％、Na2O 0.3～0.6％、ZnO 0.7～1.5％、BaO 4.0～5.0％、SrO 0.02～0.04％和Zr(Hf)O 0.1～0.2％。
在本技术方案的一个实施例中，选用化学成分包括SiO2 54～58％、Al2O3 16～20％、Fe2O3 0.15～0.2％、TiO2 0.05～0.08％、CaO 12.5～13.8％、MgO 1.5～2％、K2O 2.5～3.5％、Na2O 0.3～0.6％、ZnO 0.7～1.5％、BaO 4.0～5.0％、SrO 0.02～0.04％和Zr(Hf)O 0.1～0.2％的熔块A。一方面，本技术方案中的熔块A含有较高含量的Al2O3，本技术方案通过熔块A的添加在抗菌净化釉的配方中引入氧化铝，有利于提高配方成分的Al/Si比，提升其烧制后的釉层耐磨性能，还能进一步提升抗菌净化釉层的抗菌能力和空气净化能力。另一方面，由于本技术方案中使用的熔块A还含有Fe2O3和TiO2，本技术方案使用的釉用改性材料还可以通过微波和射线转换原理将Fe2O3和TiO2进行改性，使其具备辐射远红外射线和产生负离子的功能，从而能更进一步地提升抗菌净化釉层的抗菌能力和空气净化能力。
更进一步说明，按照质量百分比，包括以下化学成分：SiO244.6～46.7％、Al2O3 10～11％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO2 0.03～0.06％、CaO5～6.5％、MgO 3.3～4.5％、K2O 2.5～4.5％、Na2O 2.0～10％、ZnO 7～9％、BaO 3.0～8.5％、B2O30.05～0.55％、Zr(Hf)O 0.01～0.05％、SrO 6.0～7.5％、Rb2O0.02～0.03％和P2O5 0.2～0.3％。
本技术方案还提出了一种釉面砖的制备方法，使用上述抗菌净化釉制备而成，包括以下步骤：
A、制备底釉；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯进行烘干和烧制，形成釉面砖。
本技术方案提出的釉面砖的制备方法，步骤简单，操作性强，有利于提升釉面砖的抗菌能力和空气净化能力。
需要说明的是，本技术方案中的砖坯可由常规的陶瓷砖坯体原料制备而成。
更进一步说明，步骤E中，所述抗菌净化釉过325目筛，筛余0.4～0.7％，且所述抗菌净化釉的比重为1.89～1.93g/ml。
更进一步说明，步骤E中，所述抗菌净化釉的施釉量为375～420g/m2。
在本技术方案的一个实施例中，抗菌净化釉过325目筛，筛余0.4～0.7％，且抗菌净化釉的比重为1.89～1.93g/ml，抗菌净化釉的施釉量为375～420g/m2，本技术方案将抗菌净化釉的比重和施釉量进行严格控制，有利于确保釉面砖的抗菌能力和空气净化能力。
更进一步说明，步骤F中，所述釉面砖的烧结温度为1190～1200℃，烧结时间为50～60min。
本技术方案中釉面砖的烧结温度为1190～1200℃，烧结时间为50～60min。釉层的烧成性能与烧结温度和时间有密切关系，温度越高釉层烧得越结实，玻化致密度越高，使得抗菌净化釉层可以不受外界自然因素影响而失去其抗菌和净化能力，有利于釉面砖进行长效抗菌。
在本技术方案的一个优选实施例中，窑炉内以5～15℃/min的升温速率，由常温升温至烧结温度。
更进一步说明，步骤A中，按照质量份数，所述底釉包括以下原料：钾长石20～23份、钠长石12～14份、石英8～10份、白云石3～4份、煅烧滑石粉3～4份、煅烧高岭土8～10份、煅烧氧化铝18～22份、高岭土7～9份、熔块B 5～8份和硅酸锆6～13份。
更进一步说明，按照质量百分比，所述熔块B包括以下化学成分：SiO2 49～51％、Al2O3 18～19％、Fe2O3 0.2～0.3％、TiO2 0.06～0.09％、CaO 9.0～10.5％、MgO 3.0～4.0％、K2O 2.5～3.5％、Na2O 1.5～2.0％、ZnO 3.0～4.0％、BaO 8.5～10.5％、B2O3 0.05～0.07％、Zr(Hf)O 0.1～0.15％、SrO 0.15～0.2％和烧失量0.05～0.06％。
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1-一种釉面砖的制备方法
A、制备底釉，其中，按照质量份数，底釉包括钾长石20份、钠长石12份、石英8份、白云石3份、煅烧滑石粉3份、煅烧高岭土8份、煅烧氧化铝18份、高岭土7份、熔块B 5份和硅酸锆6份；按照质量百分比，熔块B包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.2％、TiO2 0.06％、CaO 10.5％、MgO 4.0％、K2O 3.5％、Na2O 2.0％、ZnO 3.89％、BaO 8.5％、B2O30.05％、Zr(Hf)O 0.1％、SrO0.15％和烧失量0.05％；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得比重为1.89～1.93g/ml的抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层，其中，按照质量份数，抗菌净化釉包括钾长石23份、钠长石17份、石英9份、白云石13份、煅烧滑石粉5份、碳酸钡5份、碳酸锶10份、煅烧氧化锌8份、熔块A 9份、高岭土8份和釉用改性材料1.5份；按照质量百分比，熔块A包括以下化学成分：SiO2 56％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.05％、CaO13.5％、MgO 2％、K2O3.5％、Na2O 0.3％、ZnO 1.5％、BaO 4.9％、SrO 0.02％和Zr(Hf)O0.1％；按照质量百分比，釉用改性材料包括以下化学成分：SiO2 48％、Al2O3 20％、Fe2O30.2％、TiO2 0.4％、CaO 10％、MgO 4.0％、K2O 4.5％、Na2O 3.63％、ZnO 1.0％、BaO 8％、SrO 0.09％、Zr(Hf)O 0.02％、B2O3 0.06％和PbO 0.1％；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯在1190～1200℃的温度下烧制50～60min，形成釉面砖。
实施例2-一种釉面砖的制备方法
A、制备底釉，其中，按照质量份数，底釉包括钾长石20份、钠长石12份、石英8份、白云石3份、煅烧滑石粉3份、煅烧高岭土8份、煅烧氧化铝18份、高岭土7份、熔块B 5份和硅酸锆6份；按照质量百分比，熔块B包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.2％、TiO2 0.06％、CaO 10.5％、MgO 4.0％、K2O 3.5％、Na2O 2.0％、ZnO 3.89％、BaO 8.5％、B2O30.05％、Zr(Hf)O 0.1％、SrO0.15％和烧失量0.05％；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得比重为1.89～1.93g/ml的抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层，其中，按照质量份数，抗菌净化釉包括钾长石23份、钠长石17份、石英9份、白云石13份、煅烧滑石粉5份、碳酸钡5份、碳酸锶10份、煅烧氧化锌8份、熔块A 9份、高岭土8份和釉用改性材料1.5份；按照质量百分比，熔块A包括以下化学成分：SiO2 56％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.05％、CaO13.5％、MgO 2％、K2O3.5％、Na2O 0.3％、ZnO 1.5％、BaO 4.9％、SrO 0.02％和Zr(Hf)O0.1％；按照质量百分比，釉用改性材料包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 21％、Fe2O30.15％、TiO2 0.3％、CaO 11.8％、MgO 3.5％、K2O 3.5％、Na2O 4.0％、ZnO 0.7％、BaO5.85％、SrO 0.06％、Zr(Hf)O 0.01％、B2O3 0.05％和PbO 0.08％；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯在1190～1200℃的温度下烧制50～60min，形成釉面砖。
实施例3-一种釉面砖的制备方法
A、制备底釉，其中，按照质量份数，底釉包括钾长石20份、钠长石12份、石英8份、白云石3份、煅烧滑石粉3份、煅烧高岭土8份、煅烧氧化铝18份、高岭土7份、熔块B 5份和硅酸锆6份；按照质量百分比，熔块B包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.2％、TiO2 0.06％、CaO 10.5％、MgO 4.0％、K2O 3.5％、Na2O 2.0％、ZnO 3.89％、BaO 8.5％、B2O30.05％、Zr(Hf)O 0.1％、SrO0.15％和烧失量0.05％；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得比重为1.89～1.93g/ml的抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层，其中，按照质量份数，抗菌净化釉包括钾长石23份、钠长石17份、石英9份、白云石13份、煅烧滑石粉5份、碳酸钡5份、碳酸锶10份、煅烧氧化锌8份、熔块A 9份、高岭土8份和釉用改性材料1.5份；按照质量百分比，熔块A包括以下化学成分：SiO2 56％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.05％、CaO13.5％、MgO 2％、K2O3.5％、Na2O 0.3％、ZnO 1.5％、BaO 4.9％、SrO 0.02％和Zr(Hf)O0.1％；按照质量百分比，釉用改性材料包括以下化学成分：SiO2 50％、Al2O3 22％、Fe2O30.15％、TiO2 0.3％、CaO 9％、MgO 3.5％、K2O 3.5％、Na2O 3.0％、ZnO 0.7％、BaO 7.65％、SrO 0.06％、Zr(Hf)O 0.01％、B2O3 0.05％和PbO 0.08％；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯在1190～1200℃的温度下烧制50～60min，形成釉面砖。
实施例4-一种釉面砖的制备方法
A、制备底釉，其中，按照质量份数，底釉包括钾长石20份、钠长石12份、石英8份、白云石3份、煅烧滑石粉3份、煅烧高岭土8份、煅烧氧化铝18份、高岭土7份、熔块B 5份和硅酸锆6份；按照质量百分比，熔块B包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.2％、TiO2 0.06％、CaO 10.5％、MgO 4.0％、K2O 3.5％、Na2O 2.0％、ZnO 3.89％、BaO 8.5％、B2O30.05％、Zr(Hf)O 0.1％、SrO0.15％和烧失量0.05％；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得比重为1.89～1.93g/ml的抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层，其中，按照质量份数，抗菌净化釉包括钾长石22份、钠长石16份、石英8份、白云石12份、煅烧滑石粉4份、碳酸钡4份、碳酸锶9份、煅烧氧化锌7份、熔块A 8份、高岭土7份和釉用改性材料1份；按照质量百分比，熔块A包括以下化学成分：SiO2 56％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.05％、CaO13.5％、MgO 2％、K2O 3.5％、Na2O 0.3％、ZnO 1.5％、BaO 4.9％、SrO 0.02％和Zr(Hf)O0.1％；按照质量百分比，釉用改性材料包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 21％、Fe2O30.15％、TiO20.3％、CaO 11.8％、MgO 3.5％、K2O 3.5％、Na2O 4.0％、ZnO 0.7％、BaO5.85％、SrO 0.06％、Zr(Hf)O 0.01％、B2O3 0.05％和PbO 0.08％；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯在1190～1200℃的温度下烧制50～60min，形成釉面砖。
实施例5-一种釉面砖的制备方法
A、制备底釉，其中，按照质量份数，底釉包括钾长石20份、钠长石12份、石英8份、白云石3份、煅烧滑石粉3份、煅烧高岭土8份、煅烧氧化铝18份、高岭土7份、熔块B 5份和硅酸锆6份；按照质量百分比，熔块B包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.2％、TiO2 0.06％、CaO 10.5％、MgO 4.0％、K2O 3.5％、Na2O 2.0％、ZnO 3.89％、BaO 8.5％、B2O30.05％、Zr(Hf)O 0.1％、SrO0.15％和烧失量0.05％；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得比重为1.89～1.93g/ml的抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层，其中，按照质量份数，抗菌净化釉包括钾长石24份、钠长石18份、石英10份、白云石14份、煅烧滑石粉6份、碳酸钡6份、碳酸锶11份、煅烧氧化锌9份、熔块A10份、高岭土9份和釉用改性材料2份；按照质量百分比，熔块A包括以下化学成分：SiO2 56％、Al2O3 18％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.05％、CaO13.5％、MgO 2％、K2O 3.5％、Na2O 0.3％、ZnO 1.5％、BaO 4.9％、SrO 0.02％和Zr(Hf)O0.1％；按照质量百分比，釉用改性材料包括以下化学成分：SiO2 49％、Al2O3 21％、Fe2O30.15％、TiO2 0.3％、CaO 11.8％、MgO 3.5％、K2O 3.5％、Na2O 4.0％、ZnO 0.7％、BaO5.85％、SrO 0.06％、Zr(Hf)O 0.01％、B2O3 0.05％和PbO 0.08％；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯在1190～1200℃的温度下烧制50～60min，形成釉面砖。
分别采用上述实施例的制备方法制备釉面砖，按照JC/T897-2014的检测方法对获得的釉面砖进行大肠杆菌和金葡萄球菌抗菌率测试，并按照常规检测方法检测其NOx净化率和负离子发生量，其结果如下表1：
表1实施例中不同釉面砖的对比性能测试结果
由表1的性能测试结果可以看出，本技术方案制备的釉面砖的大肠杆菌和金葡萄球菌抗菌率均达到90％以上，具有明显的抗菌作用，Nox净化率达80％以上，能有效分解有机物及异味，另外，本技术方案制备的釉面砖产品可产生负离子，负离子发生量至少可达到150个/cm2，具有净化空气的作用。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.抗菌净化釉，其特征在于，按照质量份数，包括以下原料：长石38～42份、石英8～10份、白云石12～14份、煅烧滑石粉4～6份、碳酸钡4～6份、碳酸锶9～11份、煅烧氧化锌7～9份、熔块A 8～10份、高岭土7～9份和釉用改性材料1～2份；
按照质量百分比，所述釉用改性材料包括以下化学成分：SiO2 48～50％、Al2O3 20～22％、Fe2O3 0.15～0.2％、TiO2 0.30～0.40％、CaO 9.0～11.8％、MgO 3.5～4.0％、K2O3.5～4.5％、Na2O 3.0～4.0％、ZnO 0.7～1.0％、BaO 5.0～10.0％、SrO 0.06～0.09％、Zr(Hf)O 0.01～0.02％、B2O3 0.05～0.06％和PbO 0.08～0.1％。
2.根据权利要求1所述的抗菌净化釉，其特征在于，按照质量份数，包括以下原料：钾长石22～24份、钠长石16～18份、石英8～10份、白云石12～14份、煅烧滑石粉4～6份、碳酸钡4～6份、碳酸锶9～11份、煅烧氧化锌7～9份、熔块A 8～10份、高岭土7～9份和釉用改性材料1～2份。
3.根据权利要求1或2所述的抗菌净化釉，其特征在于：按照质量百分比，所述熔块A包括以下化学成分：SiO2 54～58％、Al2O3 16～20％、Fe2O3 0.15～0.2％、TiO2 0.05～0.08％、CaO 12.5～13.8％、MgO 1.5～2％、K2O 2.5～3.5％、Na2O 0.3～0.6％、ZnO 0.7～1.5％、BaO 4.0～5.0％、SrO 0.02～0.04％和Zr(Hf)O 0.1～0.2％。
4.根据权利要求3所述的抗菌净化釉，其特征在于，按照质量百分比，包括以下化学成分：SiO244.6～46.7％、Al2O3 10～11％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO2 0.03～0.06％、CaO5～6.5％、MgO 3.3～4.5％、K2O 2.5～4.5％、Na2O 2.0～10％、ZnO 7～9％、BaO 3.0～8.5％、B2O30.05～0.55％、Zr(Hf)O 0.01～0.05％、SrO 6.0～7.5％、Rb2O0.02～0.03％和P2O5 0.2～0.3％。
5.釉面砖的制备方法，其特征在于，使用权利要求1～4任意一项所述的抗菌净化釉制备而成，包括以下步骤：
A、制备底釉；
B、将抗菌净化釉原料按配比加入球磨机，加水进行球磨，获得抗菌净化釉；
C、将底釉布施在砖坯上，形成底釉层；
D、通过喷墨打印机将陶瓷墨水按照预设图案打印在底釉层上，形成图案装饰层；
E、将抗菌净化釉布施在图案装饰层上，形成抗菌净化釉层；
F、将具有抗菌净化釉层的砖坯进行烘干和烧制，形成釉面砖。
6.根据权利要求5所述的釉面砖的制备方法，其特征在于：步骤E中，所述抗菌净化釉过325目筛，筛余0.4～0.7％，且所述抗菌净化釉的比重为1.89～1.93g/ml。
7.根据权利要求5所述的釉面砖的制备方法，其特征在于：步骤E中，所述抗菌净化釉的施釉量为375～420g/m2。
8.根据权利要求5所述的釉面砖的制备方法，其特征在于：步骤F中，所述釉面砖的烧结温度为1190～1200℃，烧结时间为50～60min。
9.根据权利要求5所述的釉面砖的制备方法，其特征在于：步骤A中，按照质量份数，所述底釉包括以下原料：钾长石20～23份、钠长石12～14份、石英8～10份、白云石3～4份、煅烧滑石粉3～4份、煅烧高岭土8～10份、煅烧氧化铝18～22份、高岭土7～9份、熔块B 5～8份和硅酸锆6～13份。
10.根据权利要求9所述的釉面砖的制备方法，其特征在于：按照质量百分比，所述熔块B包括以下化学成分：SiO2 49～51％、Al2O3 18～19％、Fe2O3 0.2～0.3％、TiO2 0.06～0.09％、CaO 9.0～10.5％、MgO 3.0～4.0％、K2O 2.5～3.5％、Na2O 1.5～2.0％、ZnO 3.0～4.0％、BaO 8.5～10.5％、B2O3 0.05～0.07％、Zr(Hf)O 0.1～0.15％、SrO 0.15～0.2％和烧失量0.05～0.06％。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115925443A (zh) * | 2022-12-30 | 2023-04-07 | 中南大学 | 一种具有宽烧成范围的固废基陶瓷膜支撑体原料及固废基陶瓷膜支撑体 |
| CN116262668A (zh) * | 2021-12-15 | 2023-06-16 | 泉州市德化县恒峰陶瓷有限公司 | 一种抗菌高强陶瓷的制备工艺 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105837258A (zh) * | 2016-03-28 | 2016-08-10 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种抗菌外墙瓷砖的生产方法 |
| CN106045572A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-10-26 | 佛山市高明安华陶瓷洁具有限公司 | 一种纳米釉料及其制备方法和使用方法 |
| CN106348792A (zh) * | 2016-08-26 | 2017-01-25 | 高名胜 | 一种抗菌瓷砖的制造方法 |
| CN111153714A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-15 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种防污防滑仿古砖及其制备方法 |
| CN111333430A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-06-26 | 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 | 一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 |
| CN111333433A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-06-26 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法 |
| CN111484355A (zh) * | 2019-09-05 | 2020-08-04 | 广东嘉俊陶瓷有限公司 | 一种多功能环境净化砖及制造方法 |
| CN111517649A (zh) * | 2020-07-06 | 2020-08-11 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 抗菌釉粉、抗菌岩板及其制备方法 |
-
2020
- 2020-12-24 CN CN202011548333.XA patent/CN112723745A/zh active Pending
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105837258A (zh) * | 2016-03-28 | 2016-08-10 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种抗菌外墙瓷砖的生产方法 |
| CN106045572A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-10-26 | 佛山市高明安华陶瓷洁具有限公司 | 一种纳米釉料及其制备方法和使用方法 |
| CN106348792A (zh) * | 2016-08-26 | 2017-01-25 | 高名胜 | 一种抗菌瓷砖的制造方法 |
| CN111484355A (zh) * | 2019-09-05 | 2020-08-04 | 广东嘉俊陶瓷有限公司 | 一种多功能环境净化砖及制造方法 |
| CN111153714A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-15 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种防污防滑仿古砖及其制备方法 |
| CN111333430A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-06-26 | 佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 | 一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法 |
| CN111333433A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-06-26 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法 |
| CN111517649A (zh) * | 2020-07-06 | 2020-08-11 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 抗菌釉粉、抗菌岩板及其制备方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116262668A (zh) * | 2021-12-15 | 2023-06-16 | 泉州市德化县恒峰陶瓷有限公司 | 一种抗菌高强陶瓷的制备工艺 |
| CN115925443A (zh) * | 2022-12-30 | 2023-04-07 | 中南大学 | 一种具有宽烧成范围的固废基陶瓷膜支撑体原料及固废基陶瓷膜支撑体 |
| CN115925443B (zh) * | 2022-12-30 | 2023-07-04 | 中南大学 | 一种具有宽烧成范围的固废基陶瓷膜支撑体原料及固废基陶瓷膜支撑体 |
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