CN112698431A - 窗口、窗口制造方法以及显示装置 - Google Patents

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尹贤敬
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Abstract

公开一种窗口、窗口制造方法以及显示装置。窗口制造方法可以包括准备基材层的步骤;在所述基材层上形成第一硬涂层的步骤;以及在所述第一硬涂层上形成第二硬涂层的步骤。形成所述第二硬涂层的步骤可以在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下进行。

Description

窗口、窗口制造方法以及显示装置
技术领域
本公开涉及一种可靠性提高的窗口、窗口制造方法以及显示装置。
背景技术
已经开发出用于电视机、手机、导航仪、电脑显示器或者游戏机之类多媒体装置的各种显示装置。显示装置可以包括用于向用户提供具有预定信息的图像的显示面板以及用于保护显示面板的窗口。
窗口可以包括塑料窗口。塑料窗口重量轻且可以破裂担忧少。由塑料构成的窗口可以使显示装置薄型化,并且可以提高显示装置的表面硬度、耐冲击性以及加工性等。
发明内容
本公开的目的在于提供一种可靠性提高的窗口、窗口制造方法以及显示装置。
可以是,根据本公开的一实施例的窗口制造方法包括准备基材层的步骤;在所述基材层上形成第一硬涂层的步骤;以及在所述第一硬涂层上形成第二硬涂层的步骤。可以是,形成所述第二硬涂层的步骤在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下进行。
可以是,形成所述第一硬涂层的步骤包括:在所述基材层上涂布包含丙烯酸以及环氧的第一液的步骤;干燥所述第一液的步骤;以及固化所述第一液的步骤。
可以是,形成所述第二硬涂层的步骤包括:在所述第一硬涂层上涂布包含氟的第二液的步骤;干燥所述第二液的步骤;以及固化所述第二液的步骤。
可以是,固化所述第二液的步骤包括:将包括所述基材层、在所述基材层上形成的第一硬涂层以及在所述第一硬涂层上涂布的第二液的预制窗口布置在第一腔室内的步骤;调整所述第一腔室内的氧比率的步骤;将所述第一腔室布置在提供紫外线的第二腔室内的步骤;以及将所述预制窗口用紫外线固化的步骤。
可以是,调整所述氧比率的步骤使得第一腔室内的氧浓度具有0.01%以上且0.1%以下的范围。
可以是,调整所述第一腔室内的氧比率的步骤包括:向所述第一腔室内注入氮气的步骤。
可以是,所述紫外线具有800mJ以上且1000mJ以下的能量。
可以是,所述第二硬涂层具有75%以上且85%以下的固化率,并具有450MPa以上且550MPa以下的硬度,并且具有100度以上且120度以下的表面接触角。
可以是,根据本公开的一实施例的窗口包括:基材层;第一硬涂层,布置在所述基材层上;以及第二硬涂层,布置在所述第一硬涂层上。可以是,所述第二硬涂层具有75%以上且85%以下的固化率,并具有100度以上且120度以下的表面接触角。
可以是,所述第二硬涂层具有450MPa以上且550MPa以下的硬度。
可以是,所述第二硬涂层具有7H至9H的铅笔硬度。
可以是,所述第一硬涂层包含环氧以及丙烯酸。
可以是,所述第二硬涂层包含氟。
可以是,所述基材层的厚度大于所述第一硬涂层的厚度,所述第一硬涂层的厚度大于所述第二硬涂层的厚度。
可以是,根据本公开的一实施例的显示装置包括:显示面板;以及窗口,布置在所述显示面板上。可以是,所述窗口包括:基材层;第一硬涂层,布置在所述基材层上;以及第二硬涂层,布置在所述第一硬涂层上,所述第二硬涂层具有75%以上且85%以下的固化率,并具有450MPa以上且550MPa以下的硬度,并且具有100度以上且120度以下的表面接触角。
可以是,所述窗口的至少一端被弯折。
可以是,所述基材层的厚度大于所述第一硬涂层的厚度,所述第一硬涂层的厚度大于所述第二硬涂层的厚度。
可以是,所述第一硬涂层包含环氧以及丙烯酸。
可以是,所述第二硬涂层包含氟。
可以是,所述第二硬涂层具有7H至9H的铅笔硬度。
(公开效果)
根据本公开的窗口制造方法可以在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下制造窗口。可以提高窗口的初始表面接触角而提高耐指纹性。耐指纹性提高的窗口可以在表面上不易沾染指纹痕迹,即使沾染有指纹痕迹也可以容易擦拭,从而可以提高显示装置的可识别性。另外,由于窗口的耐磨性提高,窗口可以耐划痕。即使在耐磨性评价之后,窗口也可以具有耐指纹性。因此,可以提供可靠性提高的窗口以及显示装置。
附图说明
图1是示出根据本公开的一实施例的显示装置的立体图。
图2是根据本公开的一实施例的显示装置的截面图。
图3是根据本公开的一实施例的显示装置的截面图。
图4是根据本公开的一实施例的显示装置的截面图。
图5是示出根据本公开的一实施例的窗口制造方法的流程图。
图6是示出根据本公开的一实施例的形成第一硬涂层的步骤的截面图。
图7是示出根据本公开的一实施例的形成第一硬涂层的步骤的截面图。
图8是示出根据本公开的一实施例的形成第二硬涂层的步骤的截面图。
图9是示出根据本公开的一实施例的调整氧比率的步骤的立体图。
图10是示出根据本公开的一实施例的形成第二硬涂层的步骤的截面图。
图11是示出根据本公开的一实施例的窗口的截面图。
图12是根据本公开的一实施例的红外光谱分析曲线图。
(附图标记说明)
DD:显示装置 DP:显示面板
WM:窗口 PW:基材层
HC1:第一硬涂层 HC2:第二硬涂层
CM1:第一腔室 CM2:第二腔室
具体实施方式
在本说明书中,当提及某构成要件(或区域、层、部分等)“在”另外构成要件“上”、“连接于”或“结合于”另外构成要件时,意指某构成要件可以直接配置/连接/结合在另外构成要件上,或者也可以在它们之间配置有第三构成要件。
相同的附图标记指代相同的构成要件。另外,在附图中,构成要件的厚度、比例及尺寸是为了技术内容的有效说明而放大的。
“及/或”将相关的构成所能定义的一个以上的组合全部包括。
第一、第二等术语可用于说明多种构成要件,但上述构成要件并不被上述术语所限制。上述术语仅用于将一个构成要件与另外构成要件区分的目的。例如,在不脱离本公开的权利范围的情况下,第一构成要件可命名为第二构成要件,类似地,第二构成要件也可命名为第一构成要件。只要在文脉上没有明确表示为不同,单数表达包括复数表达。
另外,“下方”、“下侧”、“上方”、“上侧”等术语用于说明附图中示出的构成的关联关系。上述术语是相对性概念,以附图中表示的方向为基准进行说明。
只要没有不同地定义,本说明书中使用的所有术语(包括技术术语及科学术语)具有与本公开所属技术领域的人员通常所理解的含义相同的含义。另外,通常使用的词典中所定义的术语之类的术语应解释为具有与相关技术的脉络上含义相同的含义,只要没有解释为理想或过于形式化的含义,可以明确性地在此定义。
“包括”或“具有”等术语应理解为用于指定说明书中所记载的特征、数字、步骤、动作、构成要件、部件或它们的组合的存在,并不是预先排除一个或其以上的其他特征,或者数字、步骤、动作、构成要件、部件或它们的组合的存在或附加可能性。
以下,参照附图说明本公开的实施例。
图1是示出根据本公开的一实施例的显示装置的立体图,图2是根据本公开的一实施例的显示装置的截面图。
参照图1以及图2,显示装置DD可以包括显示面板DP以及窗口WM。显示装置DD可以通过显示面IS显示图像IM。显示面IS可以平行于由第一方向DR1以及第二方向DR2定义的面。显示面IS的法线方向,即显示装置DD的厚度方向可以是第三方向DR3。第三方向DR3可以是与第一方向DR1以及第二方向DR2交叉的方向。第一方向DR1、第二方向DR2以及第三方向DR3可以彼此正交。
另一方面,第一方向DR1、第二方向DR2以及第三方向DR3所指示的方向作为相对概念可以转换成其它方向。另外,在本说明书中,可以将由第一方向DR1和第二方向DR2定义的面定义为平面,“在平面上观察”可以定义为在第三方向DR3上观察的。
显示面板DP可以显示图像IM。在图1中,作为图像IM的例示,示出时间窗以及图标。根据本公开的一实施例的显示面板DP可以包括受光型或者发光型显示面板。所述受光型显示面板可以是例如液晶显示面板。所述发光型显示面板可以是例如有机发光显示面板或者量子点发光显示面板。所述有机发光显示面板的发光层可以包括有机发光物质。量子点发光显示面板的发光层可以包括量子点或者量子棒等。
窗口WM可以布置在显示面板DP上。从显示面板DP提供的图像IM可以透射窗口WM被用户识别。窗口WM的上面WM-U可以是平坦的。
图3是根据本公开的一实施例的显示装置的截面图。
参照图3,显示装置DD-1可以包括窗口WM-1以及布置在窗口WM-1下的显示面板DP。窗口WM-1可以包括第一透射区域TA1、第二透射区域TA2以及第三透射区域TA3。第一透射区域TA1的上面可以是平坦的。
第二透射区域TA2可以与第一透射区域TA1相邻布置。第二透射区域TA2的上面可以包括曲面。第二透射区域TA2的上面可以是斜率随着沿第一方向DR1靠近第一透射区域TA1而减小。
第三透射区域TA3可以将第一透射区域TA1置于中间与第二透射区域TA2隔开。第三透射区域TA3的上面可以包括曲面。第三透射区域TA3的上面的斜率可以随着沿第一方向DR1靠近第一透射区域TA1而减小。
图4是根据本公开的一实施例的显示装置的截面图。
参照图4,显示装置DD-2可以包括窗口WM-2以及布置在窗口WM-2下的显示面板DP-1。
窗口WM-2可以包括第一透射区域TA1-1、第二透射区域TA2-1以及第三透射区域TA3-1。显示面板DP-1可以包括第一显示区域DA1、第二显示区域DA2以及第三显示区域DA3。第一透射区域TA1-1可以与第一显示区域DA1面对。第一显示区域DA1可以通过第一透射区域TA1-1向第三方向DR3显示图像IM(参照图1)。
第二透射区域TA2-1可以与第一透射区域TA1-1相邻。第二透射区域TA2-1可以与第二显示区域DA2面对。第二显示区域DA2可以通过第二透射区域TA2-1向与第三方向DR3交叉的方向显示图像IM(参照图1)。例如,从窗口WM-2的上面WM-U1延伸的直线和从第一侧面WM-S1延伸的直线所构成的角度为90度时,所述交叉的方向可以是第一方向DR1。
第三透射区域TA3-1可以与第一透射区域TA1-1相邻布置。第三透射区域TA3-1可以与第三显示区域DA3面对。第三显示区域DA3可以通过第三透射区域TA3-1向与第三方向交叉的方向显示图像IM(参照图1)。例如,从窗口WM-2的上面WM-U1延伸的直线和从第二侧面WM-S2延伸的直线所构成的角度为90度时,所述交叉的方向可以是第一方向DR1。
图5是示出根据本公开的一实施例的窗口制造方法的流程图,图6是示出根据本公开的一实施例的形成第一硬涂层的步骤的截面图,图7是示出根据本公开的一实施例的形成第一硬涂层的步骤的截面图。
参照图5至图7,可以在基材层PW上形成第一硬涂层HC1(S100)。基材层PW可以包括具有透光性的塑料。基材层PW可以包括聚乙烯(PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚甲醛(POM)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚碳酸酯共混物系列、纤维素、防潮玻璃纸以及低折射率树脂中的至少一个。然而,其为示例性的,根据本公开的一实施例的基材层PW不限于此。
第一液SOL-1可以涂布在基材层PW上。第一液SOL-1可以包括有机物质。所述有机物质可以包括丙烯酸以及环氧。
第一液SOL-1可以涂布在基材层PW上之后被干燥。涂布有第一液SOL-1的基材层PW可以通过第一紫外线UV-1固化。通过第一紫外线UV-1固化的第一液SOL-1可以是第一硬涂层HC1。
第一硬涂层HC1可以包括有机物质以及无机物质。第一硬涂层HC1可以具有强硬度。所述有机物质可以包括丙烯酸以及环氧。第一硬涂层HC1可以通过包括无机物质、丙烯酸以及环氧的物质的固化来制造。通过第一紫外线UV-1固化的丙烯酸可以收缩,通过第一紫外线UV-1固化的环氧可以膨胀。
可以根据丙烯酸和环氧之间的组合比率控制第一硬涂层HC1的弯曲程度。例如,所述丙烯酸和环氧之间的组合比率可以是7:3。然而,其为示例性的,根据本公开的一实施例的丙烯酸和环氧之间的组合比率只要是能够防止第一硬涂层HC1的弯曲的比率则不受限制。
丙烯酸可以增加第一硬涂层HC1的结合力以及密度。环氧可以增加第一硬涂层HC1的耐热性、耐化学性、耐水性、粘合性以及机械硬度。
图8是示出根据本公开的一实施例的形成第二硬涂层的步骤的截面图。
参照图5以及图8,可以在第一硬涂层HC1上形成第二硬涂层HC2(参照图11)(S200)。预制窗口WM-P可以包括基材层PW、第一硬涂层HC1以及第二液SOL-2。第二液SOL-2可以涂布在第一硬涂层HC1上。第二液SOL-2可以包含氟。添加所述氟的层的硬度以及耐指纹性可以提高。
第二液SOL-2可以涂布在第一硬涂层HC1上之后被干燥。
图9是示出根据本公开的一实施例的调整氧比率的步骤的立体图。
参照图8以及图9,氧比率控制装置OCD可以包括第一腔室CM1、第一阀VV1以及第二阀VV2。
预制窗口WM-P可以布置在第一腔室CM1内。与第二液SOL-2面对的第一腔室CM1的上面可以透明。
气体可以通过第一阀VV1注入到第一腔室CM1内部。所述气体可以是氮气。第一腔室CM1内部的空气可以通过第二阀VV2排出。
通过第一阀VV1注入的氮气可以填充第一腔室CM1内部的同时第一腔室CM1内部的空气通过第二阀VV2排出。所述氮气可以注入50秒以上且80秒以下的时间。此时,通过所述氮气,第一腔室CM1内部的氧浓度可以降低。
所述氧浓度可以具有0.01%以上且0.1%以下的范围。当所述氧浓度大于0.1%时,通过紫外线固化预制窗口WM-P时难以期待要后述的第二硬涂层HC2(参照图11)的硬度以及耐指纹性。当所述氧浓度小于0.01%时,为了确保0.01%以下的氧浓度,增加注入所述氮气的时间,因此工艺效率性可能会降低。
根据本公开的窗口制造方法可以在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下制造窗口WM。窗口WM的初始表面接触角提高而可以提高耐指纹性。耐指纹性提高的窗口WM在表面上不沾染指纹痕迹或者即使沾染有指纹痕迹也可以简单地擦拭,从而可以提高显示装置DD(参照图1)的可识别性。因此,可以提供可靠性提高的窗口WM。
图10是示出根据本公开的一实施例的形成第二硬涂层的步骤的截面图。
参照图9以及图10,布置有预制窗口WM-P的第一腔室CM1可以布置在第二腔室CM2内。
预制窗口WM-P可以通过第二紫外线UV-2固化。通过第二紫外线UV-2固化的第二液SOL-2(参照图8)可以是第二硬涂层HC2(参照图11)。第一硬涂层HC1可以通过第二紫外线UV-2二次固化。
第二紫外线UV-2可以具有800mJ以上且1000mJ以下的能量。当第二紫外线UV-2的能量小于800mJ时,不能传递用于形成第二硬涂层HC2(参照图11)的足够的能量,因此难以期待要后述的第二硬涂层HC2(参照图11)的固化率以及硬度。当第二紫外线UV-2的能量大于1000mJ时,因高的能量,窗口WM可能变形或者寿命降低。
图11是示出根据本公开的一实施例的窗口的截面图。
参照图11,窗口WM可以包括基材层PW、第一硬涂层HC1以及第二硬涂层HC2。
基材层PW的第一厚度TH1可以大于第一硬涂层HC1的第二厚度TH2。第一硬涂层HC1的第二厚度TH2可以大于第二硬涂层HC2的第三厚度TH3。例如,第一厚度TH1可以是500μm以上且800μm以下,第二厚度TH2可以是30μm以上且50μm以下,第三厚度TH3可以是5μm以上且7μm以下。
第二硬涂层HC2可以具有7H至9H的铅笔硬度。所述铅笔硬度可以是对铅笔施加载荷并以45度的角度进行刮擦时表面未损伤的最硬的铅笔的浓度符号。例如,所述载荷可以是0.75kg。然而,其为示例性的,根据本公开的一实施例的所述载荷不限于此。例如,所述载荷也可以是1kg。
若第二硬涂层HC2的铅笔硬度小于7H,则第二硬涂层HC2的硬度低而无法确保能够承受外力的耐久性,难以保护基材层PW以及第一硬涂层HC1。若第二硬涂层HC2的铅笔硬度大于9H,则第二硬涂层HC2的硬度高而无法确保第二硬涂层HC2的柔软性,因此当受到外力或者窗口WM弯折时可能容易发生裂纹。
第二硬涂层HC2可以具有75%以上且85%以下的固化率。例如,所述固化率可以通过红外光谱分析方法(FT-IR,Fourier Transform Infrared Analysis;傅里叶变换红外光谱分析)测定。所述红外光谱分析方法是注入红外线区域的能量而激发分子振动后测定通过分子振动所吸收的能量之差来获得键相关信息的方法。可以通过利用所述键相关信息来获得第二硬涂层HC2的固化相关信息。
例如,第二硬涂层HC2的丙烯酸中的碳双键峰可以在800cm-1至820cm-1处测定。所述碳双键可以通过第二紫外线UV-2转换为碳单键而实现固化。此时,碳双键减小,800cm-1至820cm-1之间的峰可以减小。通过碳双键的峰变化可以获得第二硬涂层HC2的固化相关信息。所述固化率可以通过数学式1算出。
[数学式1]
固化率(%)=((碳双键的固化前峰值-碳双键的固化后峰值)/(碳双键的固化前峰值))*100
另外,红外光谱分析方法可以以未参与固化反应的参考峰(reference peak)为基准比较参与固化反应的峰的固化前/后强度来算出窗口WM的相对固化度。例如,未参与所述固化反应的参考峰可以是碳及氧的双键峰,参与所述固化反应的峰可以是碳双键峰。例如,所述碳及氧的双键峰可以在1650cm-1至1800cm-1处测定。所述固化度越低,窗口WM可以越是进一步固化的。所述固化度可以通过数学式2算出。
[数学式2]
固化度=(碳双键的峰值)/(碳及氧的双键的峰值)
表1是对利用根据本公开的一实施例的图5至图10的工艺来形成的窗口和比较例进行比较的表,图12是根据本公开的一实施例的红外光谱分析图。
[表1]
固化度(C=C/C=O峰面积比) 固化率(%)
实施例1-1 0.044 76.71
比较例1-1 0.050 73.38
参照表1以及图12,图12是对实施例1-1以及比较例1-1分析红外光谱而按照波数测定吸光度的曲线图。
实施例1-1可以是基于本公开的窗口制造方法形成的窗口WM。例如,实施例1-1可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下制造的窗口WM。实施例1-1可以具有第一曲线图GP1的形状。
比较例1-1可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为21%的环境下制造的窗口。比较例1-1可以具有第二曲线图GP2的形状。
在第一区域A中可以出现碳及氧的双键峰。例如,第一区域A可以具有1650cm-1至1800cm-1之间的波数。在第二区域B中可以出现碳双键峰。例如,第二区域B可以具有800cm-1至820cm-1之间的波数。在第二区域B中,实施例1-1的碳双键峰值可以小于比较例1-1的碳双键峰值。
实施例1-1的固化度可以是0.044。比较例1-1的固化度可以是0.050。实施例1-1的固化度可以低于比较例1-1的固化度。实施例1-1的固化率为76.71%,大于比较例1-1的固化率即73.38%。因此,与比较例1-1相比,实施例1-1可以是进一步固化的窗口WM。
参照图11,第二硬涂层HC2可以具有450MPa以上且550MPa以下的硬度。例如,所述硬度可以通过纳米压痕测试方法测定。所述纳米压痕测试是通过分析压痕载荷-位移曲线来测定硬度的方法,所述压痕载荷-位移曲线是通过利用具有一定几何形状的压头向第二硬涂层HC2的表面施加载荷并连续记录所述载荷和压痕的深度而获得的。所述硬度可以是通过将所述载荷除以压痕痕迹的面积而获得的值。
若第二硬涂层HC2的硬度小于450MPa,则第二硬涂层HC2的硬度低而无法确保能够承受外力的耐久性,难以保护基材层PW以及第一硬涂层HC1。若第二硬涂层HC2的硬度大于550MPa,则第二硬涂层HC2的硬度高而无法确保第二硬涂层HC2的柔软性,因此当受到外力或者窗口WM弯折时可能容易发生裂纹。
表2是对利用根据本公开的一实施例的图5至图10的工艺来形成的窗口和比较例进行比较的表。
[表2]
硬度(MPa) 固化率(%)
实施例1-2 510.6 84.8
比较例1-2 421.7 79.7
比较例2-2 444.6 84.3
参照表2,实施例1-2可以是基于本公开的窗口制造方法形成的窗口WM。例如,实施例1-2可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下进行并在第二紫外线UV-2(参照图10)具有1000mJ的能量的状态下制造的窗口WM。
比较例1-2可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为21%的环境下进行并在第二紫外线UV-2(参照图10)具有1000mJ的能量的状态下制造的窗口。
比较例2-2可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为21%的环境下进行并在第二紫外线UV-2(参照图10)具有1600mJ的能量的状态下制造的窗口。
实施例1-2的硬度为510.6MPa,大于比较例1-2的硬度即421.7MPa以及比较例2-2的硬度即444.6MPa。
实施例1-2的固化率为84.8%,大于比较例1-2的固化率即79.7%。比较例2-2通过提高第二紫外线UV-2(参照图10)的能量而将固化率以84.3%接近实施例1-2,但是比较例2-2的硬度小于实施例1-2的硬度。另外,比较例2-2是第二紫外线UV-2(参照图10)的能量为1600mJ而大于1000mJ,因此窗口WM可能变形或者寿命降低。
根据本公开的窗口制造方法可以在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下制造窗口WM。窗口WM的硬度以及固化率可以提高。硬度以及固化率提高的窗口WM可以确保能够承受外力的耐久性。窗口WM保护显示面板DP(参照图1),从而可以提供耐久性提高的显示装置DD(参照图1)。因此,可以提供可靠性提高的窗口WM。
参照图11,第二硬涂层HC2可以包括氟。第二硬涂层HC2可以具有耐指纹性。第二硬涂层HC2可以防止用户的指纹沾染在窗口WM而被用户识别。
第二硬涂层HC2可以具有100度以上且120度以下的表面接触角。例如,所述表面接触角可以通过将水(H2O)滴在窗口WM的表面上来测定。所述表面接触角可以是所述水与所述表面所构成的斜率之间的角度中窗口WM的所述表面与所述水相邻的角度。
若第二硬涂层HC2的表面接触角小于100度,则第二硬涂层HC2难以具有耐指纹性,若第二硬涂层HC2的表面接触角大于120度,则可能发生透射窗口WM而被识别的图像的折射。
表3是对利用根据本公开的一实施例的图5至图10的工艺来形成的窗口和比较例进行比较的表。
[表3]
初始表面接触角(°) 耐磨性评价后表面接触角(°)
实施例1-3 113 103
比较例1-3 106 76
参照表3,窗口WM可以进行耐磨性评价。例如,所述耐磨性评价可以通过将工业用橡皮擦在窗口WM的表面上摩擦3000次来进行,此时,速度为40rpm,并在施加载荷1kgf的状态下进行。在所述耐磨性评价之后,可以将水滴在窗口WM的表面上来测定耐磨性评价后表面接触角。
实施例1-3可以是基于本公开的窗口制造方法形成的窗口WM。例如,实施例1-3可以是在形成第二硬涂层的步骤中在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下制造的窗口WM。实施例1-3的初始表面接触角可以是113°。实施例1-3的耐磨性评价后表面接触角可以是103°。
比较例1-3可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为21%的环境下制造的窗口。比较例1-3的初始表面接触角可以是106°。比较例1-3的耐磨性评价后表面接触角可以是76°。
实施例1-3的初始表面接触角可以大于比较例1-3的初始表面接触角。实施例1-3可以是耐指纹性高于比较例1-3。
实施例1-3的耐磨性评价后表面接触角可以高于比较例1-3的耐磨性评价后表面接触角。耐磨性评价之后,实施例1-3可以是耐指纹性高于比较例1-3。
根据本公开的窗口制造方法可以在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下制造窗口WM。窗口WM在耐磨性评价之后也可以具有耐指纹性。窗口WM的耐磨性可以提高。窗口WM可以耐划痕。因此,可以提供可靠性提高的窗口WM。
表4是对利用根据本公开的一实施例的图5至图10的工艺来形成的窗口以及比较例进行比较的表。
[表4]
Figure BDA0002640726290000131
参照表4,表面氟含量是将当将形成第二硬涂层HC2的表面的整体构成设为1时氟所占的含量用比率来表示的。实施例1-4可以是基于本公开的窗口制造方法形成的窗口WM。例如,实施例1-4可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下制造的窗口WM。实施例1-4的表面氟含量可以是0.767。实施例1-4的耐磨性评价后表面氟含量可以是0.686。
比较例1-4可以是在形成第二硬涂层HC2的步骤中在氧浓度为21%的环境下制造的窗口。比较例1-4的表面氟含量可以是0.686。比较例1-4的耐磨性评价后表面氟含量可以是0.203。
实施例1-4的表面氟含量可以大于比较例1-4的表面氟含量。表面氟含量、表面接触角以及耐指纹性可以成比例。实施例1-4可以是耐指纹性高于比较例1-4。
实施例1-4的耐磨性评价后表面氟含量可以高于比较例1-4的耐磨性评价后表面氟含量。耐磨性评价之后,实施例1-4可以是耐指纹性高于比较例1-4。
实施例1-4的表面氟含量的耐磨性评价前后之差为0.081,比较例1-4的表面氟含量的耐磨性评价前后之差为0.216。实施例1-4可以是耐磨性高于比较例1-4。
以上,参照本公开的优选实施例进行了说明,但对于本技术领域的熟练人员或者在本技术领域中具有通常知识的人员来说,能够理解可以在不超出权利要求书中记载的本公开的构思以及技术领域的范围内,对本公开进行多种修改及变更。因此,本公开的技术范围并不以说明书的详细说明中记载的内容进行限定,应通过权利要求书来确定。

Claims (20)

1.一种窗口制造方法,其中,包括:
准备基材层的步骤;
在所述基材层上形成第一硬涂层的步骤;以及
在所述第一硬涂层上形成第二硬涂层的步骤,
形成所述第二硬涂层的步骤在氧浓度为0.01%以上且0.1%以下的环境下进行。
2.根据权利要求1所述的窗口制造方法,其中,
形成所述第一硬涂层的步骤包括:
在所述基材层上涂布包含丙烯酸以及环氧的第一液的步骤;
干燥所述第一液的步骤;以及
固化所述第一液的步骤。
3.根据权利要求1所述的窗口制造方法,其中,
形成所述第二硬涂层的步骤包括:
在所述第一硬涂层上涂布包含氟的第二液的步骤;
干燥所述第二液的步骤;以及
固化所述第二液的步骤。
4.根据权利要求3所述的窗口制造方法,其中,
固化所述第二液的步骤包括:
将包括所述基材层、在所述基材层上形成的第一硬涂层以及在所述第一硬涂层上涂布的第二液的预制窗口布置在第一腔室内的步骤;
调整所述第一腔室内的氧比率的步骤;
将所述第一腔室布置在提供紫外线的第二腔室内的步骤;以及
将所述预制窗口用紫外线固化的步骤。
5.根据权利要求4所述的窗口制造方法,其中,
调整所述氧比率的步骤使得第一腔室内的氧浓度具有0.01%以上且0.1%以下的范围。
6.根据权利要求4所述的窗口制造方法,其中,
调整所述第一腔室内的氧比率的步骤包括:向所述第一腔室内注入氮气的步骤。
7.根据权利要求4所述的窗口制造方法,其中,
所述紫外线具有800mJ以上且1000mJ以下的能量。
8.根据权利要求1所述的窗口制造方法,其中,
所述第二硬涂层具有75%以上且85%以下的固化率,并具有450MPa以上且550MPa以下的硬度,并且具有100度以上且120度以下的表面接触角。
9.一种窗口,其中,包括:
基材层;
第一硬涂层,布置在所述基材层上;以及
第二硬涂层,布置在所述第一硬涂层上,
所述第二硬涂层具有75%以上且85%以下的固化率,并具有100度以上且120度以下的表面接触角。
10.根据权利要求9所述的窗口,其中,
所述第二硬涂层具有450MPa以上且550MPa以下的硬度。
11.根据权利要求9所述的窗口,其中,
所述第二硬涂层具有7H至9H的铅笔硬度。
12.根据权利要求9所述的窗口,其中,
所述第一硬涂层包含环氧以及丙烯酸。
13.根据权利要求9所述的窗口,其中,
所述第二硬涂层包含氟。
14.根据权利要求9所述的窗口,其中,
所述基材层的厚度大于所述第一硬涂层的厚度,
所述第一硬涂层的厚度大于所述第二硬涂层的厚度。
15.一种显示装置,其中,包括:
显示面板;以及
窗口,布置在所述显示面板上,
所述窗口包括:
基材层;
第一硬涂层,布置在所述基材层上;以及
第二硬涂层,布置在所述第一硬涂层上,
所述第二硬涂层具有75%以上且85%以下的固化率,并具有450MPa以上且550MPa以下的硬度,并且具有100度以上且120度以下的表面接触角。
16.根据权利要求15所述的显示装置,其中,
所述窗口的至少一端被弯折。
17.根据权利要求15所述的显示装置,其中,
所述基材层的厚度大于所述第一硬涂层的厚度,
所述第一硬涂层的厚度大于所述第二硬涂层的厚度。
18.根据权利要求15所述的显示装置,其中,
所述第一硬涂层包含环氧以及丙烯酸。
19.根据权利要求15所述的显示装置,其中,
所述第二硬涂层包含氟。
20.根据权利要求15所述的显示装置,其中,
所述第二硬涂层具有7H至9H的铅笔硬度。
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