CN112684679A - 一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法 - Google Patents
一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112684679A CN112684679A CN202011611068.5A CN202011611068A CN112684679A CN 112684679 A CN112684679 A CN 112684679A CN 202011611068 A CN202011611068 A CN 202011611068A CN 112684679 A CN112684679 A CN 112684679A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- calibration
- optical system
- engine module
- pattern
- camera
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 title abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 101
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 34
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
本发明公开了一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法。所述方法包括下述步骤：步骤1、上光学系统(210)投射光线，在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，确定第一标定图形(601)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)；步骤2、下光学系统(310)投射光线，在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，确定第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)；步骤3、基于第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)、第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)，确定下光学系统(310)和上光学系统(210)的相对位置偏移。本发明的方法能够大大提高上下图形对准的标定精度，且操作简单，能够自动化操作。
Description
技术领域
本发明涉及光刻技术领域，特别是涉及一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法。
背景技术
无掩模曝光又叫数字化光刻、无掩模光刻。近年来数字化光刻曝光方式倍受行业青睐，但是其目前的研究大多都限于单面曝光系统，双面曝光机目前大多还是采用传统底片式曝光。而传统底片式双面曝光机，是通过正、反底片自身图形位置精度以及底片的对准精度来实现曝光产品的层间对位精度。底片受环境影响而产生的变形、底片的对准精度都将直接影响产品最终正、反图形对位的结果。
目前研究火热的数字光刻大多是基于以下技术：通过DMD空间光调制，将数字图形转化为光信号，特定波长的光信息输出到感光基板表面，从而对待曝光基板进行图形印制。单面数字曝光机对于外层板，待曝光的基板上本身已经有定位信息，系统直接通过抓取板子上的标记点，进行对位曝光，实现图形与板的精准位置曝光；正面图形曝光后，将板子翻面用同样的方式实现背面图形的曝光。然而，对于板子上无任何标记信息的内层板，单面曝光机目前都是通过增加标记点的方式来实现正面图形与方面图形的对准。该方式的对位受运动控制平台、系统识别精度影响，对位精度较低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法来克服或至少减轻现有技术的上述缺陷中的至少一个。
为实现上述目的，本发明提供一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其中，所述双面数字化光刻系统包括：
上引擎模组，其用于投射光线，在待曝光的感光基板的上表面形成第一光刻图案；
下引擎模组，其用于投射光线，在待曝光的感光基板的下表面形成第二光刻图案；
标定系统模组，用于标定所述上引擎模组和下引擎模组300所形成第一和第二光刻图案之间的位置偏差dx和dy，所述标定系统模组包括视觉系统和玻璃标尺，所述玻璃标尺在Z向上位于上引擎模组和下引擎模组之间，所述视觉系统包括分光棱镜和标定相机，
所述上引擎模组和下引擎模组中的一个的投射光线穿过所述玻璃标尺再经过分光棱镜反射，成像在标定相机上；所述上引擎模组和下引擎模组中的另一个的投射光线在玻璃标尺表面反射，反射光线再次到达分光棱镜后，成像在标定相机上；
所述方法包括下述步骤：
步骤1、所述上引擎模组的上光学系统投射光线，在标定相机中形成第一标定图形，确定第一标定图形在标定相机成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)；
步骤2、所述下引擎模组的下光学系统投射光线，在标定相机中形成第二标定图形，确定第二标定图形在标定相机成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)；
步骤3、基于第一标定图形在标定相机成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)、第二标定图形在标定相机成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)，确定下光学系统和上光学系统的相对位置偏移。
优选地，计算dx和dy，dx＝(X2-X1)*k,dy＝(Y2-Y1)*k；其中k为标定相机的像素大小，(dx,dy)表示下光学系统相对于上光学系统的位置偏移。k表示的标定相机的像素大小表示一个像素相当于的位置差异尺寸。
优选地，首先在标定相机中形成第一标定图形，再获取第一标定图形的像素坐标(X1、Y1)；然后在标定相机中形成第二标定图形，再获取第二标定图形的像素坐标(X2、Y2)；或者
首先在标定相机中形成第二标定图形，再获取第二标定图形的像素坐标(X2、Y2)；然后在标定相机中形成第一标定图形，再获取第一标定图形的像素坐标(X1、Y1)。
优选地，第一标定图形和第二标定图形为相同的图形。
优选地，同时在标定相机中形成第一标定图形和第二标定图形，再获取第一标定图形的像素坐标(X1、Y1)和第二标定图形的像素坐标(X2、Y2)。
优选地，，第一标定图形和第二标定图形为不同的图形。
优选地，所述上光学系统和下光学系统分别安装在第一和第二精密位移平台上，
通过第一精密位移平台的走位，移动上光学系统，使得第一标定图形处于标定相机中的指定位置，记录上光学系统对应的平台位置坐标(x1、y1)；
通过第二精密位移平台的走位，移动下光学系统，使得第二标定图形处于标定相机中的所述指定位置，记录下光学系统对应的平台位置坐标(x2、y2)；
计算dx和dy，dx＝x2-x1,dy＝y2-y1，(dx,dy)表示下光学系统相对于上光学系统的位置偏移。
优选地，在俯视投影上，所述玻璃标尺位于曝光区域之外，且在曝光区域的左右两侧，各设置有一个玻璃标尺。
优选地，所述分光棱镜位于玻璃标尺的上方，
所述下引擎模组的下光学系统投射的光线经过分光棱镜反射，由标定镜头成像在标定相机上，形成第二标定图形；
所述上引擎模组的上光学系统的光线经过分光棱镜后，在玻璃标尺表面反射，反射光线再次到达分光棱镜后，反射到达标定镜头，成像在标定相机上，形成第一标定图形。
优选地，所述分光棱镜位于玻璃标尺的下方，
所述上引擎模组的上光学系统投射的光线经过分光棱镜反射，由标定镜头成像在标定相机上，以形成第一标定图形；
所述下引擎模组的下光学系统投射的光线经过分光棱镜后，在玻璃标尺表面反射，反射光线再次到达分光棱镜后，反射到达标定镜头，成像在标定相机上，以形成第二标定图形。
优选地，所述上引擎模组和下引擎模组各包括多个光学系统，对于每组光学系统设置一个标定系统模组；或者
所述上引擎模组和下引擎模组各包括多个光学系统，对于所述光学系统设置一个共用标定系统模组，所述共用标定系统模组能够移动以对所有的所述光学系统进行标定。
采用本发明的方法能够大大提高上下图形对准的标定精度，且操作简单，能够自动化操作。
附图说明
图1是根据本发明一实施例的双面数字光刻机的侧视示意图。
图2是图1所示双面数字光刻机的正视示意图。
图3是图1所示双面数字光刻机的一种标定系统的原理图。
图4是图1所示双面数字光刻机的另一种标定系统的原理图。
图5是标定上下光学系统的偏差的示意性原理图。
附图标记：
| 100 | 安装背板 | 410 | 视觉系统 |
| 200 | 上引擎模组 | 420 | 玻璃标尺 |
| 300 | 下引擎模组 | 411 | 分光棱镜 |
| 400 | 标定系统模组 | 412 | 视觉镜头 |
| 500 | 横梁 | 413 | 标定相机 |
| 210 | 上光学系统 | 601 | 第一标定图形 |
| 310 | 下光学系统 | 602 | 第二标定图形 |
具体实施方式
在附图中，使用相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。
在本发明的描述中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明保护范围的限制。
提高正、反面曝光图形的对准精度是行业探索解决的技术难题。对于以往的单面曝光机，正、反图形是通过曝光正面图形后，翻面曝光翻面图形前抓取对位标记点来实现对准的。这个过程中，对准精度受到台面自身精度、对位识别精度等一系列影响，从而降低了正、反图形的对准精度。例如，对位精度在20微米左右。
本发明实施例对上下光学系统进行标定的目的是精确标定出上引擎模组200中的上光学系统210和下引擎模组300中的下光学系统310的相对位置关系。更具体地，是精确标定出上引擎模组200中的上光学系统210和下引擎模组300中的下光学系统310在待曝光的感光基板上形成的双面光刻的相对位置关系。
本发明实施例提供的双面数字化曝光系统上、下光学系统对准校准的方法，可以大大提高对位精度，对位精度可以达到10微米左右或更高的精度；而且操作简单方便，能够自动化操作。
待曝光的感光基板位于上引擎模组200和下引擎模组300之间。只要标定和计算好上引擎模组200和下引擎模组300中各个光学系统的位置关系，按照预先计算的位置进行出图曝光，就可以得到正反图形的对准精度。
通过标定双面数字曝光机的上、下光学系统位置关系，根据精准的标定结果，进行正反图形的对准，大大提高了正反图形对准精度，即行业所说的内层对位精度。
系统受环境影响后，可以自动、快速的进行上、下引擎对准的校准，从而保证正、反图形的对准精度。
如图1-5所示，根据本发明实施例的提供一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法用于双面数字化光刻系统。所述双面数字化光刻系统包括：上引擎模组200，下引擎模组300，和标定系统模组400。在图1中，Z向为高度方向，Y向为待曝光的感光基板的运动方向，X方向为与Y向垂直的另一水平方向。
上引擎模组200和下引擎模组300安装在安装背板100上。安装背板100可以采用任何适当的形状与结构。可以理解的是，安装背板100的中部处是开放的，或带有开孔，以允许沿着Y向运动或进给的待曝光的感光基板穿过。安装背板100安装在横梁500上，且能够沿着X方向有一定的运动范围。所述横梁500沿着X向延伸。也就是说，上引擎模组200和下引擎模组300能够沿着X方向有一定的运动范围。
上引擎模组200位于基板的上侧，用于从上侧投射光线，在待曝光的感光基板的上表面形成第一光刻图案。
下引擎模组300位于基板的下侧，用于从下侧投射光线，在待曝光的感光基板的下表面形成第二光刻图案。
上引擎模组200和下引擎模组300的具体构造，可以根据需要设置。例如，上引擎模组200和下引擎模组300可以分别包括光源、反光镜、DMD器件和无掩膜投影装置。光源发出的光束，依次通过反光镜、DMD器件和无掩膜投影装置投射到基板上。其中，DMD器件作为空间光调制器。
待曝光的感光基板位于上引擎模组200和下引擎模组300之间。只要标定和计算好上引擎模组200和下引擎模组300中各个光学系统的位置关系，按照预先计算的位置进行出图曝光，就可以得到正反图形的对准精度。
上引擎模组200的上光学系统210的数量，以及下引擎模组300中的下光学系统310的数量可以根据曝光板子(待曝光的感光基板的宽幅、曝光光斑大小要求进行系统配置，可以是单个、也可以是多个。通常上光学系统210和下光学系统310一一对应，数量相同。但是，在特殊的情况下，上光学系统210和下光学系统310也可以设置为不是一一对应。下文按照一一对应的情形来进行描述。
在一个实施方式中，所述上引擎模组200和下引擎模组300各包括多个光学系统，对于每组光学系统设置一个标定系统模组400。在另一个实施方式中，所述上引擎模组200和下引擎模组300各包括多个光学系统，对于所述光学系统设置一个共用标定系统模组400，所述共用标定系统模组400能够移动以对所有的所述光学系统进行标定。
标定系统模组400用于标定所述上引擎模组200和下引擎模组300所形成第一和第二光刻图案之间的位置偏差dx和dy。也就是说，采用标定系统模组400来标定上引擎模组200和下引擎模组300所形成双面光刻图案之间的位置偏差dx和dy。
所述标定系统模组400包括视觉系统410和玻璃标尺420，所述玻璃标尺420在Z向上位于上引擎模组200和下引擎模组300之间，所述视觉系统410包括分光棱镜411和标定相机413。
在标定的时候，所述上引擎模组200和下引擎模组300中的一个的投射光线穿过所述玻璃标尺420再经过分光棱镜411反射，成像在标定相机413上；所述上引擎模组200和下引擎模组300中的另一个的投射光线在玻璃标尺412表面反射，反射光线再次到达分光棱镜411后，成像在标定相机413上。
具体地，本发明的方法包括下述步骤：
步骤1、所述上引擎模组200的上光学系统210投射光线，在标定相机413中形成第一标定图形601，确定第一标定图形601在标定相机413成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)。
步骤2、所述下引擎模组300的下光学系统310投射光线，在标定相机413中形成第二标定图形602，确定第二标定图形602在标定相机413成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)。
步骤3、基于第一标定图形601在标定相机413成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)、第二标定图形602在标定相机413成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)，确定下光学系统310和上光学系统210的相对位置偏移。
在步骤3中，计算dx和dy，dx＝X2-X1*k,dy＝Y2-Y1*k；其中k为标定相机413的像素大小，dx,dy表示下光学系统310相对于上光学系统210的位置偏移。k表示的标定相机413的像素大小表示一个像素相当于的位置差异尺寸。
采用本发明的方法能够大大提高上下图形对准的标定精度，且操作简单，能够自动化操作。
第一标定图形601和第二标定图形602可以先后在标定相机413中形成，也可以同时形成。
在一个备选实施例中，首先在标定相机413中形成第一标定图形601，再获取第一标定图形601的像素坐标(X1、Y1)；然后在标定相机413中形成第二标定图形602，再获取第二标定图形602的像素坐标(X2、Y2)。在另一个备选实施例中，首先在标定相机413中形成第二标定图形602，再获取第二标定图形602的像素坐标(X2、Y2)；然后在标定相机413中形成第一标定图形601，再获取第一标定图形601的像素坐标(X1、Y1)。在再一个备选实施例中，同时在标定相机413中形成第一标定图形601和第二标定图形602，再获取第一标定图形601的像素坐标(X1、Y1)和第二标定图形602的像素坐标(X2、Y2)。获取第一标定图形601和第二标定图形602的像素坐标，可以通过软件对图像进行分析而自动地执行。
第一标定图形601和第二标定图形602能够为相同的图形，也可以为不同的图像。在第一标定图形601和第二标定图形602先后形成的情况下，第一标定图形601和第二标定图形602可以是相同的，也可以是不同的。在第一标定图形601和第二标定图形602同时形成的情况下，第一标定图形601和第二标定图形602需要为不同的图形。
具体地，在图5所示的实施例中，第一标定图形601和第二标定图形602均为“十字”。第一标定图形601和第二标定图形602的像素坐标根据交叉点的位置确定。但是，在本发明中，第一标定图形601和第二标定图形602不限于图中所示的“十字”，而是还可以采用其他形状，例如采用正方形、圆形或正三角形；或者带圆心点的圆形。标定图形的像素坐标通常根据图形的中心点位置来确定。
在一个备选实施例中，第一标定图形601和第二标定图形602采用不同的图形，从而便于确定标定相机413获取的图像中的具体图形是属于第一标定图形601还是属于第二标定图形602。由此，可以直接计算出带正负符号的dx与dy，而不是仅仅计算出来dx与dy的绝对值。
具体地，例如，第一标定图形601的“十字”中的竖线长度大于横线的长度；而第二标定图形602的“十字”中的竖线长度小于横线的长度。
还能够以下述方式来进行标定。所述上光学系统210和下光学系统310分别安装在第一和第二精密位移平台上。通过第一精密位移平台的走位，移动上光学系统210，使得第一标定图形601处于标定相机中的指定位置，记录上光学系统对应的平台位置坐标(X1、Y1)。通过第二精密位移平台的走位，移动下光学系统310，使得第二标定图形602处于标定相机中的所述指定位置，记录下光学系统对应的平台位置坐标(X2、Y2)。计算dx和dy，dx＝x2-x1,dy＝y2-y1，dx,dy表示下光学系统310相对于上光学系统210的位置偏移。
在俯视投影上，所述玻璃标尺420能够位于对基板进行曝光的曝光区域之外，且在曝光区域的左右两侧，各设置有一个玻璃标尺420。由此，避免标定影响曝光操作。在本发明汇总，玻璃标尺420为透明、平面玻璃即可。位置不必要固定，因为上、下光学系统分别有Z向运动调整机构。玻璃标尺的安装位置需要确保：上、下光学系统在Z轴移动范围内都能在视觉系统410中成清晰的像。
曝光系统中，上、下光学系统都有Z向调节的运动行程范围，在移动范围内，可以通过光学系统所在的Z轴机构，进行Z向运动，使系统像面处于感光基板表面。当标定与曝光不在同一像面位置时，在系统标定时，可以再次移动Z轴达到标定的设定Z轴值，再进行光学系统标定。另一种选择是，通过上引擎模组200和下引擎模组300相对于标定系统模组400的X向运动，进而实现标定系统模组400对上引擎模组200和下引擎模组300的标定，以及避免标定系统模组400干扰上引擎模组200和下引擎模组300的正常光刻工作。例如，在一个位置(例如称为标定位置处，标定系统模组400与上引擎模组200、下引擎模组300处于相同的或者对应的X向位置，由此进行标定；在另一位置处，标定系统模组400与上引擎模组200、下引擎模组300在X向上相互错开，从而避免标定系统模组400干扰上引擎模组200和下引擎模组300的正常光刻工作。
图3、图4所示的实施例分别对应分光棱镜411与玻璃标尺420的不同相对安装关系，表示两种不同的标定光路。
在图3所示实施例中，分光棱镜411位于玻璃标尺420的上方，来自下光学系统310的光线经过分光棱镜411反射，由标定镜头412成像在标定相机413上。来自上光学系统210的光线经过分光棱镜411后，在玻璃标尺412表面反射，反射光线再次到达分光棱镜411后，反射到达标定镜头412，成像在标定相机413上。
在图4所示实施例中，分光棱镜411位于玻璃标尺420的下方，来自上光学系统210的光线经过分光棱镜411反射，由标定镜头412成像在标定相机413上。来自下光学系统310的光线经过分光棱镜411后，在玻璃标尺412表面反射，反射光线再次到达分光棱镜411后，反射到达标定镜头412，成像在标定相机413上。
也就是说，对于图3和图4所示实施例，上、下光学系统的光路刚好互换。
按照图3或者图4的标定原理，上、下光学系统的标定图形分别成像在标定相机413中。如图5所示，假设任意一组光学系统的上光学系统210在标定相机413中成像形成第一标定图形601。第一标定图形601对应的像素坐标为(X1、Y1，对应下光学系统310在标定相机413中成像形成第二标定图形602。第二标定图形602对应的像素坐标为(X2、Y2。由此计算得到对应上、下引擎的相对位置关系：dx＝(X2-X1*k,dy＝(Y2-Y1*k；其中k为标定系统的像素大小。
最后需要指出的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制。本领域的普通技术人员应当理解：可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (11)
1.一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，所述双面数字化光刻系统包括：
上引擎模组(200)，其用于投射光线，在待曝光的感光基板的上表面形成第一光刻图案；
下引擎模组(300)，其用于投射光线，在待曝光的感光基板的下表面形成第二光刻图案；
标定系统模组(400)，用于标定所述上引擎模组(200)和下引擎模组300所形成第一和第二光刻图案之间的位置偏差dx和dy，所述标定系统模组(400)包括视觉系统(410)和玻璃标尺(420)，所述玻璃标尺(420)在Z向上位于上引擎模组(200)和下引擎模组(300)之间，所述视觉系统(410)包括分光棱镜(411)和标定相机(413)，
所述上引擎模组(200)和下引擎模组(300)中的一个的投射光线穿过所述玻璃标尺(420)再经过分光棱镜(411)反射，成像在标定相机(413)上；所述上引擎模组(200)和下引擎模组(300)中的另一个的投射光线在玻璃标尺(412)表面反射，反射光线再次到达分光棱镜(411)后，成像在标定相机(413)上；
所述方法包括下述步骤：
步骤1、所述上引擎模组(200)的上光学系统(210)投射光线，在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，确定第一标定图形(601)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)；
步骤2、所述下引擎模组(300)的下光学系统(310)投射光线，在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，确定第二标定图形(602)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)；
步骤3、基于第一标定图形(601)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)、第二标定图形(602)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X2、Y2)，确定下光学系统(310)和上光学系统(210)的相对位置偏移。
2.如权利要求1所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，
计算dx和dy，dx＝(X2-X1)*k,dy＝(Y2-Y1)*k；其中k为标定相机(413)的像素大小，(dx,dy)表示下光学系统(310)相对于上光学系统(210)的位置偏移。
3.如权利要求2所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，
首先在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，再获取第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)；然后在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，再获取第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)；或者
首先在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，再获取第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)；然后在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，再获取第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)。
4.如权利要求3所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，第一标定图形(601)和第二标定图形(602)为相同的图形。
5.如权利要求2所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，同时在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)和第二标定图形(602)，再获取第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)和第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)。
6.如权利要求5所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，第一标定图形(601)和第二标定图形(602)为不同的图形。
7.如权利要求1所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，
所述上光学系统(210)和下光学系统(310)分别安装在第一和第二精密位移平台上，
通过第一精密位移平台的走位，移动上光学系统(210)，使得第一标定图形(601)处于标定相机中的指定位置，记录上光学系统对应的平台位置坐标(x1、y1)；
通过第二精密位移平台的走位，移动下光学系统(310)，使得第二标定图形(602)处于标定相机中的所述指定位置，记录下光学系统对应的平台位置坐标(x2、y2)；
计算dx和dy，dx＝x2-x1,dy＝y2-y1，(dx,dy)表示下光学系统(310)相对于上光学系统(210)的位置偏移。
8.如权利要求1-7中任一项所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，
在俯视投影上，所述玻璃标尺(420)位于曝光区域之外，且在曝光区域的左右两侧，各设置有一个玻璃标尺(420)。
9.如权利要求1-8中任一项所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，所述分光棱镜(411)位于玻璃标尺(420)的上方，
所述下引擎模组(300)的下光学系统(310)投射的光线经过分光棱镜(411)反射，由标定镜头(412)成像在标定相机(413)上，形成第二标定图形(602)；
所述上引擎模组(200)的上光学系统(210)的光线经过分光棱镜(411)后，在玻璃标尺(412)表面反射，反射光线再次到达分光棱镜(411)后，反射到达标定镜头(412)，成像在标定相机(413)上，形成第一标定图形(601)。
10.如权利要求1-8中任一项所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，所述分光棱镜(411)位于玻璃标尺(420)的下方，
所述上引擎模组(200)的上光学系统(210)投射的光线经过分光棱镜(411)反射，由标定镜头(412)成像在标定相机(413)上，以形成第一标定图形(601)；
所述下引擎模组(300)的下光学系统(310)投射的光线经过分光棱镜(411)后，在玻璃标尺(412)表面反射，反射光线再次到达分光棱镜(411)后，反射到达标定镜头(412)，成像在标定相机(413)上，以形成第二标定图形(602)。
11.如权利要求1-8中任一项所述的双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法，其特征在于，
所述上引擎模组(200)和下引擎模组(300)各包括多个光学系统，对于每组光学系统设置一个标定系统模组(400)；或者
所述上引擎模组(200)和下引擎模组(300)各包括多个光学系统，对于所述光学系统设置一个共用标定系统模组(400)，所述共用标定系统模组(400)能够移动以对所有的所述光学系统进行标定。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011611068.5A CN112684679A (zh) | 2020-12-30 | 2020-12-30 | 一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011611068.5A CN112684679A (zh) | 2020-12-30 | 2020-12-30 | 一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112684679A true CN112684679A (zh) | 2021-04-20 |
Family
ID=75455150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011611068.5A Pending CN112684679A (zh) | 2020-12-30 | 2020-12-30 | 一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112684679A (zh) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102944978A (zh) * | 2011-08-15 | 2013-02-27 | 中山新诺科技有限公司 | 曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法 |
| CN106647188A (zh) * | 2017-01-16 | 2017-05-10 | 上海誉刻智能装备有限公司 | 一种双面对准的曝光系统 |
| CN108312505A (zh) * | 2018-02-05 | 2018-07-24 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种dmd扫描成像的3d成型装置及方法 |
| CN208477289U (zh) * | 2018-07-12 | 2019-02-05 | 中山新诺科技股份有限公司 | 曝光设备及线路板的夹持装置 |
| CN111381456A (zh) * | 2020-04-29 | 2020-07-07 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种无掩模光刻系统及一种像面焦点实时检测方法 |
| CN111742263A (zh) * | 2019-01-25 | 2020-10-02 | 中山新诺科技股份有限公司 | 数字化双面光刻或曝光系统和方法 |
-
2020
- 2020-12-30 CN CN202011611068.5A patent/CN112684679A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102944978A (zh) * | 2011-08-15 | 2013-02-27 | 中山新诺科技有限公司 | 曝光系统、校准系统、光学引擎、曝光方法和制造方法 |
| CN106647188A (zh) * | 2017-01-16 | 2017-05-10 | 上海誉刻智能装备有限公司 | 一种双面对准的曝光系统 |
| CN108312505A (zh) * | 2018-02-05 | 2018-07-24 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种dmd扫描成像的3d成型装置及方法 |
| CN208477289U (zh) * | 2018-07-12 | 2019-02-05 | 中山新诺科技股份有限公司 | 曝光设备及线路板的夹持装置 |
| CN111742263A (zh) * | 2019-01-25 | 2020-10-02 | 中山新诺科技股份有限公司 | 数字化双面光刻或曝光系统和方法 |
| CN111381456A (zh) * | 2020-04-29 | 2020-07-07 | 中山新诺科技股份有限公司 | 一种无掩模光刻系统及一种像面焦点实时检测方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3376179B2 (ja) | 面位置検出方法 | |
| US9001306B2 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing device | |
| CN100407054C (zh) | 光刻装置和器件制造方法 | |
| US6388735B1 (en) | Projection exposure system | |
| US7948616B2 (en) | Measurement method, exposure method and device manufacturing method | |
| KR100365602B1 (ko) | 노광방법및장치와반도체디바이스제조방법 | |
| US20080208499A1 (en) | Optical characteristics measurement method, exposure method and device manufacturing method, and inspection apparatus and measurement method | |
| US20040070740A1 (en) | Exposure method and exposure apparatus | |
| US20090233195A1 (en) | Linewidth measuring method, image-forming-state detecting method, adjustment method, exposure method, and device manufacturing method | |
| US20080273184A1 (en) | Apparatus and method for referential position measurement and pattern-forming apparatus | |
| US20090305175A1 (en) | Surface position detecting apparatus, exposure apparatus, surface position detecting method, and device manufacturing method | |
| US5502313A (en) | Exposure apparatus and method having a measuring unit for measuring distances between a mask surface and a projection optical system | |
| JP3880155B2 (ja) | 位置決め方法及び位置決め装置 | |
| US8149385B2 (en) | Alignment unit and exposure apparatus | |
| JPH10172878A (ja) | 走査型露光装置の調整方法及び該方法を使用する走査型露光装置 | |
| JP2018139010A (ja) | 移動体装置及び露光装置 | |
| US5981116A (en) | Alignment in a projection exposure method | |
| TW552623B (en) | Position measuring apparatus and exposure apparatus | |
| JP2610815B2 (ja) | 露光方法 | |
| US7050151B2 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
| WO2020151000A1 (zh) | 数字化双面光刻或曝光系统和方法 | |
| JP3709904B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| KR20130020408A (ko) | 마스크리스 노광 장치와 이를 이용한 빔 위치 계측 방법 | |
| US20220137522A1 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and article manufacturing method | |
| CN112684679A (zh) | 一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210420 |