CN112582569A - 一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中，显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的边缘区域以及围绕边缘区域的显示区域，边缘区域的显示基板包括：衬底基板，以及设置在衬底基板一侧的平坦层；设置在平坦层背离衬底基板一侧的隔离墙和有机功能层，有机功能层在隔离墙的侧面断开；其中，隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。本申请技术方案，通过隔离墙将有机功能层在隔离墙的两侧隔断，从而将水汽和氧气通过有机功能层向显示区域传输的通道隔断，防止产生黑斑不良，提升产品良率和可靠性。由于隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料，因此能够确保隔离墙形状的可控性以及稳定性。

Description

一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置。
背景技术
随着有机发光二极管(organic light-emitting diode，简称OLED)显示面板行业的发展，大尺寸、大视角、全面屏逐渐成为研究的热点领域。全面屏是指具有超高屏占比的显示屏，理想的全面屏的屏占比为100％，即手机的正面全部都是显示界面。然而受限于手机前置摄像头、听筒、人脸识别传感器、光线传感器等手机不可或缺的基本功能部件的安装需要，手机屏幕上方需要留有一定的缺口来安装上述功能部件，从而形成了“刘海屏”、“水滴屏”等显示屏。
随着全面屏的不断发展，广大消费者已经不满足于“刘海屏”、“水滴屏”等设计，随之出现了带孔的显示面板，如图1所示，这个孔00可以用来放置摄像头等功能部件，从而增加屏幕的利用率。
由于有机发光材料层对水氧非常敏感，有机材料层在开孔的边缘位置裸露，形成传输水汽和氧气的通道，从而导致像素区域发光失效，不能正常显示。
发明内容
本发明提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，以隔断水汽和氧气向显示区域传输的路径。
为了解决上述问题，本发明公开了一种显示基板，所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的边缘区域以及围绕所述边缘区域的显示区域，所述边缘区域的显示基板包括：
衬底基板，以及设置在所述衬底基板一侧的平坦层；
设置在所述平坦层背离所述衬底基板一侧的隔离墙和有机功能层，所述有机功能层在所述隔离墙的侧面断开；
其中，所述隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。
在一种可选的实现方式中，所述边缘区域的显示基板还包括：
层叠设置在所述隔离墙和所述有机功能层背离所述衬底基板一侧的阴极层和封装层，所述阴极层靠近所述衬底基板设置，所述阴极层以及所述封装层在所述隔离墙的侧面断开。
在一种可选的实现方式中，所述隔离墙凸出所述封装层的高度大于或等于0.5微米且小于或等于2微米。
在一种可选的实现方式中，所述平坦层包括堤部和平坦部，在所述堤部和所述平坦部背离所述衬底基板的一侧均设置有所述隔离墙。
在一种可选的实现方式中，所述光致形变材料包括光敏液晶高弹体、具有光致应力释放的光敏材料和PLZT陶瓷材料中的至少一种。
在一种可选的实现方式中，所述光致形变材料包括偶氮苯基聚合物，所述偶氮苯基聚合物的分子量大于或等于5000且小于或等于8000。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，包括任一实施例所述的显示基板。
为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的边缘区域以及围绕所述边缘区域的显示区域，所述边缘区域的显示基板的制备方法包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板的一侧形成平坦层；
在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离墙和有机功能层，所述有机功能层在所述隔离墙的侧面断开，其中，所述隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。
在一种可选的实现方式中，所述在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离墙和有机功能层的步骤，包括：
在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离柱，所述隔离柱的材料包括光致形变材料；
在所述平坦层以及所述隔离柱背离所述衬底基板的一侧形成所述有机功能层；
采用指定波长的光线照射所述隔离柱，使所述隔离柱发生形变，形成所述隔离墙。
在一种可选的实现方式中，在采用指定波长的光线照射所述隔离柱的步骤之前，还包括：
在所述有机功能层背离所述衬底基板的一侧依次形成阴极层和封装层；
其中，所述隔离墙将所述阴极层以及所述封装层在所述隔离墙的侧面隔断。
在一种可选的实现方式中，所述在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离柱的步骤，包括：
在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧涂覆前驱体溶液薄膜；
对所述前驱体溶液薄膜进行高温固化处理，形成隔离膜层；
采用构图工艺，对所述隔离膜层进行处理，形成所述隔离柱；
其中，所述前驱体溶液包括所述光致形变材料。
在一种可选的实现方式中，所述光致形变材料为偶氮苯基聚合物，所述前驱体溶液还包括：交联剂、预聚合物单体、固化剂、引发剂、添加剂和溶剂。
在一种可选的实现方式中，所述隔离柱的高度大于或等于3微米且小于或等于10微米。
在一种可选的实现方式中，所述隔离柱环绕所述开孔区域设置，沿所述隔离柱环绕所述开孔区域的方向，所述隔离柱的横截面在所述衬底基板上的正投影尺寸大于或等于10微米且小于或等于50微米。
在一种可选的实现方式中，所述采用指定波长的光线照射所述隔离柱，使所述隔离柱发生形变，形成所述隔离墙的步骤，包括：
采用指定波长的光线照射所述隔离柱，使所述隔离柱发生形变；
对发生形变后的隔离柱进行烘烤，使所述光致形变材料发生交联反应，形成所述隔离墙。
现有技术相比，本发明包括以下优点：
本申请技术方案提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中，显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的边缘区域以及围绕边缘区域的显示区域，边缘区域的显示基板包括：衬底基板，以及设置在衬底基板一侧的平坦层；设置在平坦层背离衬底基板一侧的隔离墙和有机功能层，有机功能层在隔离墙的侧面断开；其中，隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。本申请技术方案，通过隔离墙将有机功能层在隔离墙的两侧隔断，从而将水汽和氧气通过有机功能层向显示区域传输的通道隔断，防止产生黑斑不良，提升产品良率和可靠性。由于隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料，因此能够确保隔离墙形状的可控性以及稳定性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出了相关技术中一种显示基板的平面结构示意图；
图2示出了相关技术中的一种黑斑不良产品图；
图3示出了本申请实施例提供的一种显示基板的平面结构示意图；
图4示出了本申请实施例提供的一种显示基板边缘区域的剖面结构示意图；
图5示出了本申请实施例提供的一种显示基板的平面结构示意图；
图6示出了本申请实施例提供的一种光致形变薄膜结构；
图7示出了本申请实施例提供的一种偶氮苯基聚合物发生形变的反应原理图；
图8示出了本申请实施例提供的一种显示基板的剖面结构示意图；
图9示出了本申请实施例提供的一种显示基板的制备方法的流程图；
图10示出了本申请实施例提供的一种隔离墙的制备方法的流程图；
图11示出了本申请实施例提供的一种衬底基板的剖面结构示意图；
图12示出了本申请实施例提供的完成平坦层制备的显示基板的剖面结构示意图；
图13示出了本申请实施例提供的完成钝化保护层开孔的显示基板的剖面结构示意图；
图14示出了本申请实施例提供的完成隔离柱制备的显示基板的剖面结构示意图；
图15示出了本申请实施例提供的偶氮苯基聚合物的制备原理示意图；
图16示出了本申请实施例提供的完成阳极制备的显示基板的剖面结构示意图；
图17示出了本申请实施例提供的完成像素限定层制备的显示基板的剖面结构示意图；
图18示出了本申请实施例提供的完成有机功能层制备的显示基板的剖面结构示意图；
图19示出了本申请实施例提供的完成阴极层制备的显示基板的剖面结构示意图；
图20示出了本申请实施例提供的完成封装层制备的显示基板的剖面结构示意图；
图21示出了本申请实施例提供的完成隔离墙制备的显示基板的剖面结构示意图；
图22示出了本申请实施例提供的由隔离柱形成隔离墙的原理示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
以一款手机产品为例，在用户拿到手机后，屏幕出现葫芦屏，如图2所示。葫芦瓶的出现是由于在屏幕的开孔区域周围形成了一种近似圆形的黑斑区域，这个区域与开孔区域连接起来像是一个葫芦的形状，所以被大家戏称为葫芦瓶。葫芦屏是一种黑斑不良，属于OLED特有的封装失效问题。黑斑不良是由于有机发光材料层对水氧非常敏感，有机材料层在开孔区域的边缘裸露，水汽和氧气通过裸露的有机材料层进入显示区域，使显示区域的局部发光材料被氧气，导致发光失效，产生黑斑不良。黑斑不良的形成过程可能几个小时完成，也可能几天完成。因此有些手机一开机就有黑斑不良，但对于大部分手机来说，会表现为开始没有，当受到外界因素影响(通常为压力、水汽等)后会逐渐出现，导致产品可靠性较差。因此，如何有效地隔断水汽和氧气通过有机材料层向显示区域传输的路径，是本领域亟待解决的一个技术难题。
为了解决上述问题，本申请一实施例提供了一种显示基板，参照图3示出了本实施例提供的一种显示基板的平面结构示意图，显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的边缘区域以及围绕边缘区域的显示区域。
参照图4示出了本实施例提供的一种显示基板边缘区域的剖面结构示意图，边缘区域的显示基板包括：衬底基板41，以及设置在衬底基板41一侧的平坦层42；设置在平坦层42背离衬底基板41一侧的隔离墙43和有机功能层44，有机功能层44在隔离墙43的侧面断开；其中，隔离墙43的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。
其中，衬底基板41例如可以为玻璃基板等。
平坦层42例如可以为聚酰亚胺、硅胶、亚克力等材料。
有机功能层44可以包括层叠设置的空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的一层或几层。本实施例中，有机功能层44包括层叠设置的空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)，其中空穴注入层(HIL)靠近平坦层42设置。为了描述简单，图4中将空穴注入层(HIL)和空穴传输层(HTL)合并成一层表示，即膜层441；将电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)合并成一层表示，即膜层442。
隔离墙43可以为环绕开孔区域设置且首尾相接的闭合结构，如图5所示。设置在边缘区域中的隔离墙43的数量可以是一个，也可以是多个，如图5中示出的边缘区域中设置有两道隔离墙43。
光致形变材料是一种新型功能材料，通过特定波长以及强度的光(如激光)照射时，材料内部发生光物理或者光化学效应，将光能转换为机械能，发生伸缩形变；当特定波长以及强度的光照消失时，如自然光环境下，光致形变材料的形变恢复。
图6是一种光致形变薄膜结构，如图6所示，在透明弹性基材中分布有光致形变颗粒，当特定波长以及一定强度的光照射时，照射区域的光致形变颗粒将光能转换为机械能，透明弹性基材发生伸缩形变，从而使得薄膜发生伸缩形变；当该光照消失时，薄膜形变恢复。因此，光致形变材料可以实现精确快速光驱动，且具有可恢复性、可重复性驱动的特点。
由于隔离墙43的材料包括发生膨胀形变和交联反应后的光致形变材料，即隔离墙43是由光致形变材料形成，因此可以通过控制光致形变材料的光照时长来精确控制隔离墙43的形状。另外，发生交联反应的光致形变材料可以定型，无法再产生质量迁移，从而获得形状稳定的隔离墙43。
其中，交联反应可以通过高温退火实现，高温退火可以使光致形变材料在引发剂和交联剂的作用下发生自由基聚合反应，从而使光致形变材料内部形成交联度极高的聚合物网络体系，使光致形变的形状固定。
本实施例提供的显示基板，隔离墙的设置可以将有机功能层在隔离墙的两侧进行隔断，也就是将位于隔离墙靠近开孔区域一侧的有机功能层与位于隔离墙靠近显示区域一侧的有机功能层彻底隔离开来，从而阻断水汽和氧气通过有机功能层向显示区域传输的通道，防止产生黑斑不良，提高显示产品的良率和可靠性。另外，由于隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应后的光致形变材料，因此能够确保隔离墙形状的可控性以及稳定性。
在具体实现中，具有光致形变效应的材料有多种，例如，光致形变材料可以包括光敏液晶高弹体、具有光致应力释放的光敏材料和PLZT陶瓷材料中的一种或多种。
本实施例中，光致形变材料例如可以包括偶氮苯基聚合物(Poly-Azo)。偶氮苯基聚合物存在两种构象即顺式和反式。其中反式构象较稳定，但在紫外光的作用下会转变成顺式构象，如图7所示，偶氮苯基聚合物的反式构象分子长度约0.9nm，顺式构象分子长度约为0.55nm。对于偶氮苯基聚合物而言，反式构象在紫外光照射条件下，可以高效地转变为顺式构象，而在加热或可见光照射条件下，顺势构象又可以完全可逆地转变为反式构象，聚合物中大量的微观转变通常会导致宏观上的质量迁移。因此，采用偶氮苯基聚合物作为光致形变材料，可以实现精确快速的光驱动，且具有可恢复性、重复性驱动的特点。
本实施例中，偶氮苯基聚合物的分子量大于或等于5000且小于或等于8000时，形变效果较好。
在具体实现中，参照图4，可以首先在平坦层42背离衬底基板41的一侧表面涂覆一层有机感光树脂膜层(如光刻胶)，其中，有机感光树脂膜层中可以掺有光致形变材料；然后采用曝光、显影等工艺制备出隔离柱；之后再在裸露的平坦层42和隔离柱上覆盖有机功能层44；之后通过特定波长的光线照射隔离柱，使其发生膨胀形变，在膨胀形变的过程中会对有机功能层44施加一个向上的膨胀拉扯力，从而使有机功能层44在膨胀后的隔离柱两侧发生断裂；之后再对发生膨胀形变后的隔离柱进行高温退火，使其发生交联反应，从而获得发生膨胀形变以及交联反应的光致形变材料，形成隔离墙。
在一种可选的实现方式中，参照图4，边缘区域的显示基板还可以包括：层叠设置在隔离墙43和有机功能层44背离衬底基板41一侧的阴极层45和封装层46，阴极层45靠近衬底基板41设置，阴极层45以及封装层46在隔离墙43的侧面断开。
在具体实现中，可以在有机功能层44背离衬底基板41的一侧依次层叠形成阴极层45和封装层46，之后再通过特定波长的光线照射隔离柱，使其发生膨胀形变，在膨胀形变的过程中会对有机功能层44、阴极层45以及封装层46施加一个向上的膨胀拉扯力，从而使有机功能层44、阴极层45以及封装层46在膨胀后的隔离柱两侧发生断裂；之后再对发生膨胀形变后的隔离柱进行高温退火，使其发生交联反应，从而获得发生膨胀形变以及交联反应的光致形变材料，形成隔离墙。
在具体实现中，封装层46可以包括第一无机封装层、有机层以及第二无机封装层。其中，第一无机封装层和第二无机封装层用于防止从显示面板正面进入的水汽和氧气进入有机功能层44中。第一无机封装层和第二无机封装层的材料为无机物，比如氮化硅和/或氧化硅。有机层用于防止第一无机封装层的中无机物颗粒影响第二无机封装层的制备，导致第二无机封装层的膜层破裂，因此需要设置有机层平坦化第一无机封装层，有机层的材料例如可以为亚克力。
本实现方式中，隔离墙的设置可以将有机功能层、阴极层以及封装层在隔离墙的两侧进行隔断，也就是将位于隔离墙靠近开孔区域一侧的有机功能层、阴极层以及封装层，与位于隔离墙靠近显示区域一侧的有机功能层、阴极层以及封装层彻底隔离开来，从而彻底阻断水汽和氧气通向显示区域传输的通道，防止产生黑斑不良，进一步提高显示产品的良率和可靠性。
在一种可选的实现方式中，隔离墙43凸出封装层46的高度可以大于或等于0.5微米且小于或等于2微米。
在一种可选的实现方式中，参照图4，平坦层42包括堤部421和平坦部422，在堤部421和平坦部422背离衬底基板41的一侧均设置有隔离墙43。
其中，堤部421可以环绕开孔区域设置，沿堤部421环绕开孔区域的方向，堤部421的横截面(如图4所示的剖面)形状可以为正梯形。
由于有机功能层44的材料具有一定的流动性，堤部421的设置可以拦截有机功能层44的材料向靠近开孔区域的一侧流动，避免有机功能层44的材料向开孔区域蔓延。
需要说明的是，设置在堤部421上的隔离墙43不是必需的，只要隔离墙43设置在边缘区域中即可，具体位置可以根据实际需求确定，本实施例不作限定。
参照图8示出了本实施例提供的一种显示基板的剖面结构示意图。为了描述简单，图8中将空穴注入层(HIL)和空穴传输层(HTL)合并成一层表示，即膜层441；将电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)合并成一层表示，即膜层442。在实际应用中，空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)可以公共地覆盖各子像素单元的阳极以及像素界定层，此时可以将空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层定义为公共层。
本申请另一实施例还提供了一种显示装置，包括任一实施例所述的显示基板。
需要说明的是，本实施例中的显示装置可以为：显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有2D或3D显示功能的产品或部件。
本申请另一实施例还提供了一种显示基板的制备方法，参照图3，该显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的边缘区域以及围绕边缘区域的显示区域。参照图9，边缘区域的显示基板的制备方法包括：
步骤901：提供衬底基板41。
步骤902：在衬底基板41的一侧形成平坦层42。
步骤903：在平坦层42背离衬底基板41的一侧形成隔离墙43和有机功能层44，有机功能层44在隔离墙43的侧面断开，其中，隔离墙43的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。
参照图4示出了采用本实施例提供的制备方法制备得到的显示基板的剖面结构示意图。采用本实施例提供的制备方法可以制备得到上述任一实施例所述的显示基板，显示基板的具体结构和效果可以参照前述实施例的描述，这里不再赘述。
在一种可选的实现方式中，参照图10，步骤903具体可以包括：
步骤1001：在平坦层42背离衬底基板41的一侧形成隔离柱141，参照图14，隔离柱141的材料包括光致形变材料。
在具体实现中，可以首先在平坦层42背离衬底基板41的一侧涂覆前驱体溶液薄膜；然后对前驱体溶液薄膜进行高温固化处理，形成隔离膜层；之后采用构图工艺对隔离膜层进行处理，形成隔离柱141；其中，前驱体溶液包括光致形变材料，该光致形变材料可以为偶氮苯基聚合物，前驱体溶液还可以包括：交联剂、预聚合物单体、固化剂、引发剂、添加剂和溶剂。
步骤1002：在平坦层42以及隔离柱141背离衬底基板41的一侧形成有机功能层44。
步骤1003：采用指定波长的光线照射隔离柱141，使隔离柱141发生形变，形成隔离墙43。
在具体实现中，可以首先采用指定波长的光线照射隔离柱141，使隔离柱141发生形变；然后对发生形变后的隔离柱141进行烘烤，使光致形变材料发生交联反应，形成隔离墙43。
在步骤1003之前还可以包括：在有机功能层44背离衬底基板41的一侧依次形成阴极层45和封装层46；其中，隔离墙43将阴极层45以及封装层46在隔离墙43的侧面隔断。
下面以整个显示基板的制备流程为例对上述各步骤进行详细说明。
步骤1：提供衬底基板41，并在显示区域的衬底基板41上制作薄膜晶体管TFT结构。
具体地，金属栅极47制作在衬底基板41上，材质可以为Cu/Al/Ag/Ti等；栅极绝缘层48制作在金属栅极47上，材质可以为氧化硅或者氮化硅等，或者为二者叠层结构；有源层49制作在栅极绝缘层48上，材质可以为IGZO或者低温多晶硅等；层间介质层410制作在有源层49上，材质可以为氧化硅或者氮化硅等，或者为二者叠层结构；金属源漏极411制作在层间介质层410上，金属源漏极411通过层间介质层410上的过孔与有源层49电连接，材质可以为Cu/Al/Ag/Ti等；钝化保护层412制作在金属源漏极411上，起到保护下方TFT的作用，材质可以为氧化硅或者氮化硅等，或者为二者叠层结构。这样可以制备得到如图11所示的显示基板。
步骤2：在图11所示的显示基板的显示区域以及边缘区域上涂覆光敏性有机膜层(如正性光刻胶)，利用halftone mask技术，制作出平坦层42。上述平坦层42包括三部分，即完全曝光区域121、部分曝光区域122以及未曝光区域123，在完全曝光区域121可以形成贯穿平坦层42的过孔121，部分曝光区域122位于未曝光区域123的两侧，由于使用的是正性有机膜材质，未曝光区域123可以形成截面为正梯形形状的堤部421，参照图12示出了完成平坦层制备后的显示基板的剖面结构示意图。由于有机层的材料具有一定的流动性，堤部421可用于拦截有机层的材料向靠近打孔区域的一侧流动，避免有机层的材料向打孔区域蔓延。
步骤3：以平坦层42为刻蚀保护层，刻蚀平坦层42上的过孔121底部的钝化保护层412，得到贯穿平坦层42和钝化保护层412的过孔131，该过孔131底部为金属漏极的上表面，如图13所示。
步骤4：在平坦层42的表面涂覆一层有机感光树脂膜层(如光刻胶)，上述有机感光树脂膜层中掺有光致形变材料，通过曝光、显影制备出位于堤部421和平坦部422上的隔离柱141，如图14所示。
其中，光致形变材料可以为添加光响应性化合物(如偶氮苯类化合物)的有机复合材料。本实施例中，光致形变材料可以为偶氮苯基聚合物(Poly-Azo)。偶氮苯存在两种构象，顺式和反式。其中反式构象较稳定，但在紫外光的作用下会转变成顺式，如图7所示，偶氮苯的反式构象分子长度约0.9nm，顺式构象为0.55nm。当聚合物分子链中有多种偶氮苯结构时，大量的微观转变通常会导致偶氮苯基聚合物材料宏观上的质量迁移。
参照图15示出了一种偶氮苯基聚合物的制备原理图。在氮气氛的反应容器中，加入定量的2,5-二氨基苯磺酸，使其完全溶解于乙醇中，在微量的硼酸钠和硼酸的催化下，发生氧化耦合反应生成共轭的偶氮苯基聚合物，该合成方法转化率较高，达到70％以上，反应完成后采用沉淀法收集偶氮苯基聚合物。在沉淀的过程中可以控制搅拌时间6～48小时，该制备方法可以合成分子量1000～10000的偶氮苯基聚合物。本实施例中可以采用分子量为5000～8000的偶氮苯基聚合物。
上述掺有光致形变材料的有机感光树脂膜层为基于偶氮苯类聚合物的复合材料，其组份可以包括：交联剂(Binder)、预聚合物单体(Monomer)、偶氮苯基聚合物(Poly-Azo)、固化剂(Hardener)、光敏剂、引发剂(Inhibitor)、添加剂(Additive)、溶剂(Solvent)。其中，交联剂(Binder)为常用的环氧基聚丙烯酸酯，预聚合物单体(Monomer)为多丙烯酸酯取代化合物，固化剂(Hardener)为甲基六氢苯酐或者其他酸酐类化合物，引发剂(Inhibitor)为异丙苯过氧化氢或者其他过氧类类化合物，溶剂(Solvent)选取丙二醇甲醚醋酸酯和乙二醇二甲醚混合溶剂。另外，为了提升材料的流平性，添加剂(Additive)选用聚醚聚酯改性有机硅氧烷。
在具体实现中，可以首先在平坦层42上涂覆有机感光树脂膜层的前驱体溶液薄膜，前驱体溶液的组分可以包括：交联剂(Binder)、预聚合物单体(Monomer)、固化剂(Hardener)、偶氮苯基聚合物(Poly-Azo)、引发剂(Inhibitor)、添加剂(Additive)、溶剂(Solvent)等。前驱体溶液薄膜涂覆完成后，可以经过110℃高温处理20～40min后，固化形成隔离膜层。
之后，可以对隔离膜层进行曝光、显影等构图工艺，制备出隔离柱141。需要说明的是，位于边缘区域的隔离柱141可以是一个，也可以是多个。
隔离柱141的高度可以大于或等于3微米且小于或等于10微米。即隔离柱141的厚度为3～10微米。
隔离柱141可以为环绕开孔区域且首尾相接的闭合结构，沿隔离柱141环绕开孔区域的方向，隔离柱141的横截面在衬底基板41上的正投影尺寸可以大于或等于10微米且小于或等于50微米。即沿隔离柱141的法线方向上的宽度为10～50um，其中，隔离柱141的法线方向为垂直于隔离柱141环绕开孔区域的方向。
步骤5：在图14示出的显示基板的显示区域，可以通过镀膜、曝光以及刻蚀等工艺，制作出OLED的阳极413，阳极413通过过孔131与金属漏极电连接，参照图16示出了完成阳极制备的显示基板的剖面结构示意图。阳极413的材质为ITO、ZnO等高功函数的透明导电薄膜材质，且通常上述阳极413的底部制作有反射金属层，如Al/Ag等，以便制作出顶发射型的OLED结构。
步骤6：通过涂覆光敏性有机膜(如光刻胶)、曝光以及显影等工序制备出有机材质的像素限定层414，像素限定层414的堤部围绕着发光区域，后续的有机发光膜层制作在像素限定层414的凹坑中，且像素限定层414可以起到将OLED的阳极413绝缘开来的作用，参照图17示出了完成像素限定层制备的显示基板的剖面结构示意图。
步骤7：像素限定层414制作完成后，可以通过蒸镀的方法，在图17示出的显示基板上蒸镀空穴注入层和空穴传输层，然后利用蒸镀掩膜版，在不同的子像素区域依次蒸镀出R、B、G有机发光材料层415，在R、B、G有机发光材料层415的上部继续蒸镀制作电子传输层和电子注入层，参照图18示出了完成空穴注入层、空穴传输层、有机发光材料层、电子传输层和电子注入层制备的显示基板的剖面结构示意图。为了描述简单，图18中将空穴注入层和空穴传输层合并成一层表示，即膜层441；将电子传输层和电子注入层合并成一层表示，即膜层442。
步骤8：通过蒸镀或者其他方式在图18示出的显示基板上制作OLED像素单元的透明阴极层45，参照图19示出了完成阴极层制备的显示基板的剖面结构示意图。
步骤9：制作封装层46，封装层46可以包括第一无机封装层、有机层以及第二无机封装层，第一无机封装层和第二无机封装层用于防止从显示面板正面进入的水汽和氧气进入发光功能层中。第一无机封装层和第二无机封装层的材料为无机物，比如氮化硅和/或氧化硅。有机层用于防止第一无机封装层的中无机物颗粒影响第二无机封装层的制备，导致第二无机封装层的膜层破裂，因此需要设置有机层平坦化第一无机封装层，有机层的材料例如可以为亚克力，参照图20示出了完成封装层制备的显示基板的剖面结构示意图。
步骤10：在OLED显示基板封装完成后，在激光切割开孔区域之前，可以利用特定波长的紫外光(主波长365nm)照射隔离柱141，使其形变成隔离墙43，如图21所示。
本实施例提供的掺有光致形变材料的有机感光树脂膜层内部含有分子量为5000～8000的聚偶氮苯(Poly-azo)化合物c，该化合物在紫外光照射后，参照图22，聚偶氮苯分子链主链上发生构象的转变(反式构象c-1→顺式构象c-2)，分子链发生收缩，带动周边的Monomer a分子链发生蠕动，从而导致膜层照射区域的质量迁移，宏观现象表现为隔离柱141的膜厚上升。当紫外光照射完成后，进入后烘设备，后烘温度控制在180℃～200℃，时间控制在20～25min，在后烘过程中，掺有光致形变材料的有机感光树脂膜层材料内部单体在引发剂和交联剂b的作用下开始发生自由基聚合反应，使整个材料内部形成交联度极高的聚合物网络体系。交联反应后的材料已经定型，无法再产生质量迁移，从而保证了隔离墙43的形状稳定性。
在隔离柱141发生膨胀形变形成隔离墙43的过程中，将会对位于隔离柱141上方的膜层(如有机功能层、阴极层和封装层)施加一个向上的膨胀拉扯力，从而导致这些膜层在隔离墙的两侧发生断裂，且经过后烘后，断裂的有机膜层将会回流塌陷下来，从而可以使隔离墙两侧的膜层完全隔离开来。
步骤11：通过激光沿着开孔区域的边缘切割得到显示基板。参照图8示出了完成制备的显示基板的剖面结构示意图。
通过设置在边缘区域的隔离墙，不仅可以拦截有机材料向靠近打孔区域的一侧流动，避免有机材料向打孔区域蔓延；而且，上述隔离墙还可以将靠近打孔区域的有机功能层、阴极层以及封装层与靠近显示区域的有机功能层、阴极层以及封装层彻底隔离开来，阻断传输水汽和氧气的通道，防止产生黑斑不良。
本实施例提供的制备方法，通过在平坦层上制作出隔离柱，隔离柱的材料包括光致形变材料，光致形变材料为添加光响应性化合物(偶氮苯类化合物)的有机复合材料，隔离柱可以在边缘区域设置一个或多个；在显示基板封装完成后，通过特定波长的激光扫描照射隔离柱，使其形变凸起，经后烘工序，隔离柱材料中的交联剂在高温条件下发生交联反应，从而形成形貌固定的隔离墙。隔离墙将位于其两侧的膜层结构隔断开来，从而使靠近显示区域的膜层与靠近开孔区域的膜层在隔离墙的两侧隔断，从而阻断传输水汽和氧气的通道，防止产生黑斑不良，提升产品良率。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (15)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的边缘区域以及围绕所述边缘区域的显示区域，所述边缘区域的显示基板包括：
衬底基板，以及设置在所述衬底基板一侧的平坦层；
设置在所述平坦层背离所述衬底基板一侧的隔离墙和有机功能层，所述有机功能层在所述隔离墙的侧面断开；
其中，所述隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述边缘区域的显示基板还包括：
层叠设置在所述隔离墙和所述有机功能层背离所述衬底基板一侧的阴极层和封装层，所述阴极层靠近所述衬底基板设置，所述阴极层以及所述封装层在所述隔离墙的侧面断开。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述隔离墙凸出所述封装层的高度大于或等于0.5微米且小于或等于2微米。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述平坦层包括堤部和平坦部，在所述堤部和所述平坦部背离所述衬底基板的一侧均设置有所述隔离墙。
5.根据权利要求1至4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述光致形变材料包括光敏液晶高弹体、具有光致应力释放的光敏材料和PLZT陶瓷材料中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述光致形变材料包括偶氮苯基聚合物，所述偶氮苯基聚合物的分子量大于或等于5000且小于或等于8000。
7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至6任一项所述的显示基板。
8.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括开孔区域、围绕所述开孔区域的边缘区域以及围绕所述边缘区域的显示区域，所述边缘区域的显示基板的制备方法包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板的一侧形成平坦层；
在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离墙和有机功能层，所述有机功能层在所述隔离墙的侧面断开，其中，所述隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离墙和有机功能层的步骤，包括：
在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离柱，所述隔离柱的材料包括光致形变材料；
在所述平坦层以及所述隔离柱背离所述衬底基板的一侧形成所述有机功能层；
采用指定波长的光线照射所述隔离柱，使所述隔离柱发生形变，形成所述隔离墙。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在采用指定波长的光线照射所述隔离柱的步骤之前，还包括：
在所述有机功能层背离所述衬底基板的一侧依次形成阴极层和封装层；
其中，所述隔离墙将所述阴极层以及所述封装层在所述隔离墙的侧面隔断。
11.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧形成隔离柱的步骤，包括：
在所述平坦层背离所述衬底基板的一侧涂覆前驱体溶液薄膜；
对所述前驱体溶液薄膜进行高温固化处理，形成隔离膜层；
采用构图工艺，对所述隔离膜层进行处理，形成所述隔离柱；
其中，所述前驱体溶液包括所述光致形变材料。
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述光致形变材料为偶氮苯基聚合物，所述前驱体溶液还包括：交联剂、预聚合物单体、固化剂、引发剂、添加剂和溶剂。
13.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述隔离柱的高度大于或等于3微米且小于或等于10微米。
14.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述隔离柱环绕所述开孔区域设置，沿所述隔离柱环绕所述开孔区域的方向，所述隔离柱的横截面在所述衬底基板上的正投影尺寸大于或等于10微米且小于或等于50微米。
15.根据权利要求9至14任一项所述的制备方法，其特征在于，所述采用指定波长的光线照射所述隔离柱，使所述隔离柱发生形变，形成所述隔离墙的步骤，包括：
采用指定波长的光线照射所述隔离柱，使所述隔离柱发生形变；
对发生形变后的隔离柱进行烘烤，使所述光致形变材料发生交联反应，形成所述隔离墙。
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