CN112577249A - 除菌装置及制冷器具 - Google Patents

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Abstract

一种除菌装置以及制冷器具，所述除菌装置设置于制冷器具的储藏间室内，包括合成射流装置以及除菌因子产生装置，其中：所述除菌因子产生装置，适于在开启时向所述储藏间室提供除菌因子；所述合成射流装置，向所述储藏间室提供用以促进所述储藏间室内空气产生扰动的气流。采用上述方案，合成射流装置可以产生促进储藏间室内产生扰动的气流，从而可以增大除菌因子在储藏间室的分布范围，提高除菌效果。

Description

除菌装置及制冷器具
技术领域
本发明实施例涉及家用电器技术领域，尤其涉及一种除菌装置及制冷器具。
背景技术
冰箱可以依靠内部的低温对其内放置的食品进行保鲜，以延长食品的保质期。然而，在低温环境下，依然有细菌存在，尤其是冷藏室内的食品在细菌影响下仍然会腐烂变质。由于冰箱内存放的食品种类较多以及食品存在腐烂变质的情况，导致冰箱内存在臭味、霉味等异味。
为了提高冰箱内的洁净度以及清除冰箱内的异味，目前通常采用除菌装置来除菌以及清除异味。目前的除菌装置主要由风扇、气味传感器、离子发生器构成，风扇可以将离子发生器产生的负离子及臭氧扩散到冰箱冷藏室内。
然而，采用风扇方式驱动负离子及臭氧扩散到冷藏室，在风扇所形成气流的两侧的区域内，负离子及臭氧无法覆盖，从而导致距离除菌装置较远的食物依旧存在受细菌侵蚀的风险。
发明内容
本发明实施例的目的是提高制冷器具的储藏间室内的除菌效果。
本发明实施例提供一种制冷器具，包括储藏间室，在所述储藏间室内设置有合成射流装置，以向所述储藏间室提供用以促进所述储藏间室内空气产生扰动的气流。
与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下有益效果：
合成射流装置可以向制冷器具的储藏间室提供能够促进储藏间室内的空气产生扰动的气流，从而可以在储藏间室内形成扰流，以增大储藏间室内空气流动的范围，帮助除菌因子在储藏间室内扩散，提高除菌因子在储藏间室内的分布范围，以提高除菌效果。
此外，合成射流装置所产生扰流，有助于储藏间室内的气味分子的扩散，从而除菌因子产生装置能够检测到距离较远位置处的气味，可以提高除菌因子产生装置开启及关闭的控制精度，以进一步提高除菌效果。
可选的，所述储藏间室内还设置有除菌因子产生装置，适于在开启时向所述储藏间室提供除菌因子。
可选的，所述合成射流装置包括：驱动机构、隔膜以及壳体，所述除菌因子产生装置设置于所述壳体内。
可选的，所述壳体上设置有出风口，所述除菌因子产生装置朝向所述出风口设置。
可选的，所述除菌因子产生装置的开口朝向所述出风口，有助于合成射流装置将除菌因子吹入储藏间室，以进一步提高除菌因子在储藏间室内的扩散范围。
可选的，所述合成射流装置设置于所述储藏间室的背板中心位置或者所述储藏间室的顶部的中心位置，可以进一步提高除菌因子在储藏间室内的分布均匀性及范围。
可选的，所述除菌因子产生装置包括离子发生器。
本发明实施例还提供一种除菌装置，设置于制冷器具的储藏间室内，包括合成射流装置以及除菌因子产生装置，其中：所述除菌因子产生装置，适于在开启时向所述储藏间室提供除菌因子；所述合成射流装置，向所述储藏间室提供用以促进所述储藏间室内空气产生扰动的气流。
可选的，所述合成射流装置包括：驱动机构、隔膜以及壳体，所述除菌因子产生装置设置于所述壳体内。
可选的，所述壳体上设置有出风口，所述除菌因子产生装置朝向所述出风口设置。
可选的，所述除菌因子产生装置的开口朝向所述出风口，有助于合成射流装置将除菌因子吹入储藏间室，以进一步提高除菌因子在储藏间室内的扩散范围。
可选的，所述除菌装置设置于所述储藏间室的背板中心位置或者所述储藏间室的顶部的中心位置，可以进一步提高除菌因子在储藏间室内的分布均匀性及范围。
附图说明
图1是本发明实施例中的一种制冷器具的结构示意图；
图2是本发明实施例中的一种合成射流装置的工作原理图；
图3是本发明实施例中的一种除菌装置的结构示意图。
具体实施方式
现有技术中，除菌装置主要由风扇、气味传感器、离子发生器构成，采用风扇将离子发生器产生的负离子以及臭氧扩散至储藏间室内。因风扇工作时驱动气流朝恒定方向运动并且大小保持不变，所以负离子及臭氧只在固定范围内活动，在风扇所形成气流的两侧较大倾角的规范内，负离子及臭氧无法覆盖，从而导致距离除菌装置较远的食物依旧存在受细菌侵蚀的风险。
本发明实施例中，合成射流装置可以向制冷器具的储藏间室提供能够促进储藏间室内的空气产生扰动的气流，从而可以在储藏间室内形成扰流，以增大储藏间室内空气流动的范围，帮助除菌因子在储藏间室内扩散，提高除菌因子在储藏间室内的分布范围，以提高除菌效果。
为使本发明实施例的上述目的、特征和有益效果能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
参照图1，给出了本发明实施例中的一种制冷器具的结构示意图。图2给出了本发明实施例中的一种合成射流装置的工作原理图。图3给出了本发明实施例中的一种除菌装置的结构示意图。下面结合图1至图3对制冷器具的结构进行说明。
在具体实施中，制冷器具100可以包括储藏间室60。在储藏间室60内设置有合成射流装置20，当合成射流装置20开启时，可以向储藏间室60提供用于促进储藏间室60内空气产生扰动的气流。
合成射流装置20可以包括驱动机构23、隔膜22以及壳体21。壳体21的其中一个侧面上设置有隔膜22的安装口，隔膜22通过安装口与壳体21连接，并在驱动机构23的驱动下振动，图2中，隔膜22上的双向箭头用于标识隔膜22的振动方向。当隔膜22振动时，可以激发壳体21内的激发腔25内的空气形成气流。
在本发明实施例中，驱动机构23的运转函数为正弦函数，驱动机构23可以带动隔膜22周期性的正向振动及反向振动，激发腔25内可以周期性地形成正向气流和反向气流，并通过出风口24吹入储藏间室60。图2中出风口24上方的带箭头的弧线以及带有箭头的虚线为合成射流装置20产生的气流以及回风示意。合成射流装置20向储藏间室60提供正向气流和反向气流，不同方向的气流可以在储藏间室60内产生扰动，进而可以促进储藏间室60内的空气的流动。
合成射流装置20的出风口24宽度、隔膜22振动频率以及出风口24气流流速满足如下公式(1)：
Figure BDA0002217622310000041
其中，St为斯托洛哈数，d为出风口宽度，D为激发腔宽度，f为隔膜振动频率，U为出风口处气流流速，出风口宽度d约为激发腔宽度D的1/5。
在具体实施中，合成射流装置20的尺寸以及出风口24的宽度可以根据储藏间室60的空间大小进行调整，以使得合成射流装置20产生的气流能够带动储藏间室60内的每处空气均发生气流扰动。
在具体实施中，储藏间室60内还可以设置有除菌因子产生装置30。除菌因子产生装置30可以在开启时，向储藏间室60提供除菌因子。
在本发明实施例中，除菌因子产生装置30包括离子发生器，离子发生器可以产生负离子以及臭氧。负离子和臭氧可以与储藏间室60内的臭味分子、霉味分子等气味分子结合或发生反应，消除储藏间室60内的异味。
由上述方案可知，合成射流装置20向储藏间室60提供能够促进储藏间室60内的空气产生扰动的气流，从而可以在储藏间室60内形成扰流，以增大储藏间室60内空气流动的范围，帮助除菌因子在储藏间室60内扩散，相比现有技术中的风扇所产生的恒定正向气流，合成射流装置20产生的气流覆盖面积较大，从而提高除菌因子在储藏间室60内的分布范围及覆盖范围，以提高除菌效果。
此外，合成射流装置20所产生的扰流有助于储藏间室60内的气味分子的扩散，可以将距离除菌因子产生装置30较远的气味分子吸收至气味传感器内，从而除菌因子产生装置30能够检测到距离较远位置处的气味，可以提高除菌因子产生装置30开启及关闭的控制精度，以进一步提高除菌效果。
在具体实施中，除菌因子产生装置30与合成射流装置20在储藏间室60内的设置方式可以存在多种。
在本发明一实施例中，除菌因子产生装置30与合成射流装置20相对独立设置。例如，除菌因子产生装置30设置于储藏间室60的顶部61，合成射流装置20设置于与储藏间室60的底部。又如，除菌因子产生装置30设置于风道出口处，合成射流装置20设置于储藏间室60的底部或顶部61。可以理解的是，除菌因子产生装置30与合成射流装置20还可以存在其他放置位置，具体可以根据制冷器具100的类型、储藏间室60的尺寸以及实际应用场景的需求设定即可，此处不再一一举例说明。
在本发明另一实施例中，除菌因子产生装置30位于合成射流装置20的壳体21内。合成射流装置20产生的高速射流气流将除菌因子产生装置30产生的除菌因子吹向储藏间室60，并且合成射流产生装置20的气流的回风可加速储藏间室60内空气扰动，帮助除菌因子扩散。
在具体实施中，当除菌因子产生装置30设置于合成射流装置20的壳体21内时，合成射流装置20可以设置于储藏间室60的背板62中心位置，也可以设置于储藏间室60的顶部61的中心位置，还可以根据实际应用需求设置于储藏间室60的其他位置。将合成射流装置20设置于储藏间室60的背板62中心位置或者储藏间室60的顶部61的中心位置时，通过提高气流在储藏间室60内的覆盖范围，可以提高除菌因子在储藏间室60内的分布均匀性以及覆盖范围，进一步提高除菌效果。
为提高合成射流装置20对除菌因子的扩散的帮助程度，提高除菌因子在储藏间室60内的分布均匀性以及覆盖范围，在本发明一实施例中，除菌因子产生装置30朝向合成射流装置20的出风口24设置。
为进一步提高除菌因子在储藏间室60内的分布均匀性以及覆盖范围，在本发明实施例中，除菌因子产生装置30的开口朝向合成射流装置20的出风口24。
参照图3，本发明实施例还提供一种除菌装置的结构示意图。下面结合图2及图3对除菌装置的结构进行说明。
在具体实施例中，除菌因子产生装置30可以设置于制冷器具100的储藏间室60内。除菌因子产生装置30可以包括合成射流装置20以及除菌因子产生装置30。
除菌因子产生装置30可以在开启时向储藏间室60提供除菌因子。在本发明实施例中，除菌因子产生装置30可以包括离子发生器，离子发生器可以产生负离子以及臭氧。负离子和臭氧可以与储藏间室60内的臭味分子、霉味分子等气味分子结合或发生反应，消除储藏间室60内的异味。可以理解的是，除菌因子产生装置30还可以为其他能够产生清除异味的除菌因子的装置。
合成射流装置20可以在开启时向储藏间室60提供用以促进储藏间室60内空气产生扰动的气流，从而可以增大储藏间室60内空气流动的范围，帮助除菌因子在储藏间室60内扩散，提高除菌因子在储藏间室60内的覆盖范围。
结合图2，合成射流装置20可以包括驱动机构23、隔膜22以及壳体21。壳体21的其中一个侧面上设置有隔膜22的安装口，隔膜22通过安装口与壳体21连接，并在驱动机构23的驱动下振动，当隔膜22振动时，可以激发壳体21内的激发腔25内的空气形成气流。
在本发明实施例中，驱动机构23的运转函数为正弦函数，驱动机构23可以带动隔膜22周期性的正向振动及反向振动，壳体21的激发腔25内可以周期性地形成正向气流和反向气流，并通过出风口24吹入储藏间室60。图2中出风口24上方的带箭头的弧线以及带有箭头的虚线为合成射流装置20产生的气流以及回风示意。合成射流装置20向储藏间室60提供正向气流和反向气流，不同方向的气流可以在储藏间室60内产生扰动，进而可以促进储藏间室60内的空气的流动。
在本发明实施例中，除菌因子产生装置30位于合成射流装置20的壳体21内。合成射流装置20产生的高速射流气流将除菌因子产生装置30产生的除菌因子吹向储藏间室60，并且合成射流装置20的气流产生的回风可加速储藏间室60内空气扰动，帮助除菌因子扩散。
为提高合成射流装置20对除菌因子的扩散的帮助程度，提高除菌因子在储藏间室60内的分布均匀性以及覆盖范围，在本发明一实施例中，除菌因子产生装置30朝向合成射流装置20的出风口24设置。
为进一步提高除菌因子在储藏间室60内的分布均匀性以及覆盖范围，在本发明实施例中，除菌因子产生装置30的开口朝向合成射流装置20的出风口24。
在具体实施中，除菌装置10可以设置于储藏间室60的背板62中心位置，也可以设置于储藏间室60的顶部61的中心位置，还可以设置于储藏间室60内的其他位置，具体可以根据实际应用需求设定。
在具体实施中，除菌装置10还可以包括气味传感器以及控制器。气味传感器可以检测储藏间室60内的气味分子，当检测到气味分子浓度达到设定阈值时，控制器可以启动除菌因子产生装置30，以产生除菌因子。
在具体实施中，除菌装置10的工作原理及工作流程以参考本发明上述任一实施例中提供的制冷器具100中对合成射流装置20以及除菌因子产生装置30的描述，此处不再赘述。
尽管上文已经描述了具体实施方案，但这些实施方案并非要限制本发明公开的范围，即使仅相对于特定特征描述单个实施方案的情况下也是如此。本发明公开中提供的特征示例意在进行例示，而非限制，除非做出不同表述。在具体实施中，可根据实际需求，在技术上可行的情况下，将一项或者多项从属权利要求的技术特征与独立权利要求的技术特征进行组合，并可通过任何适当的方式而不是仅通过权利要求书中所列举的特定组合来组合来自相应独立权利要求的技术特征。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (12)

1.一种制冷器具(100)，包括储藏间室(60)，其特征在于，在所述储藏间室(60)内设置有合成射流装置(20)，以向所述储藏间室(60)提供用以促进所述储藏间室(60)内空气产生扰动的气流。
2.如权利要求1所述的制冷器具(100)，其特征在于，所述储藏间室(60)内还设置有除菌因子产生装置(30)，适于在开启时向所述储藏间室(60)提供除菌因子。
3.如权利要求2所述的制冷器具(100)，其特征在于，所述合成射流装置(20)包括：驱动机构(23)、隔膜(22)以及壳体(21)，所述除菌因子产生装置(30)设置于所述壳体(21)内。
4.如权利要求3所述的制冷器具(100)，其特征在于，所述壳体(21)上设置有出风口(24)，所述除菌因子产生装置(30)朝向所述出风口(24)设置。
5.如权利要求4所述的制冷器具(100)，其特征在于，所述除菌因子产生装置(30)的开口朝向所述出风口(24)。
6.如权利要求3所述的制冷器具(100)，其特征在于，所述合成射流装置(20)设置于所述储藏间室(60)的背板(62)中心位置或者所述储藏间室(60)的顶部(61)的中心位置。
7.如权利要求2所述的制冷器具(100)，其特征在于，所述除菌因子产生装置(30)包括离子发生器。
8.一种除菌装置(10)，设置于制冷器具(100)的储藏间室(60)内，其特征在于，包括合成射流装置(20)以及除菌因子产生装置(30)，其中：
所述除菌因子产生装置(30)，适于在开启时向所述储藏间室(60)提供除菌因子；
所述合成射流装置(20)，向所述储藏间室(60)提供用以促进所述储藏间室(60)内空气产生扰动的气流。
9.如权利要求8所述的除菌装置(10)，其特征在于，所述合成射流装置(20)包括：驱动机构(23)、隔膜(22)以及壳体(21)，所述除菌因子产生装置(30)设置于所述壳体(21)内。
10.如权利要求9所述的除菌装置(10)，其特征在于，所述壳体(21)上设置有出风口(24)，所述除菌因子产生装置(30)朝向所述出风口(24)设置。
11.如权利要求10所述的除菌装置(10)，其特征在于，所述除菌因子产生装置(30)的开口朝向所述出风口(24)。
12.如权利要求9所述的除菌装置(10)，其特征在于，所述除菌装置(10)设置于所述储藏间室(60)的背板(62)中心位置或者所述储藏间室(60)的顶部(61)的中心位置。
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