CN112566674A - 用于清洁、消毒、杀菌或其组合的方法和设备 - Google Patents
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Abstract
提供了用于清洁、消毒和/或杀菌装置的方法和设备。所述方法包括使物体与阻塞物质接触,使得所述物体被所述阻塞物质的至少一部分渗透。物体的吸收容量和/或吸附容量被所述阻塞物质减少。在物体的容量减少之后,使物体与处理剂接触。用处理剂渗透物体受到物体容量减少的限制。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求2018年6月29日提交的美国临时申请号62/692,268的权益,其通过引用并入本文。
领域
本公开涉及用于处理物体并减少处理后物体上的残留的方法和设备。
背景
在医疗领域,医务人员在程序期间对患者应用各种医疗装置。这些装置随程序本身而变化。因此,这些装置的适当护理对于患者的适当相应治疗是关键的。
医疗行业的一个关键方面是防止交叉污染和疾病的传播二者。考虑到这点,在医疗装置和设施表面上使用处理方法,例如清洁方法、消毒方法和/或杀菌方法。这些方法通常使用热(例如由蒸汽提供)、化学品(例如过氧化氢)、照射(例如紫外光)和/或压力来处理物体。
概述
在一个方面,本公开提供了减少残留的方法。更具体地,所述方法包括使物体与阻塞物质接触,使得所述物体被所述阻塞物质的至少一部分渗透。所述物体的吸收容量和/或吸附容量被所述阻塞物质减少。在所述物体的所述吸收容量和/或吸附容量减少之后,使所述物体与处理剂接触。用所述处理剂渗透所述物体受到所述物体的所述吸收容量和/或吸附容量的减少的限制。
在另一方面,本公开提供了减少残留的方法。更具体地,所述方法包括使物体与气态水组合物接触,使得所述物体被所述气态水组合物的至少一部分渗透。所述物体的吸收容量和/或吸附容量被所述气态水组合物减少。在所述物体的所述吸收容量和/或吸附容量减少之后,使所述物体与气态过氧化氢组合物接触并使所述物体消毒。用所述气态过氧化氢组合物渗透所述物体受到所述物体的所述吸收容量和/或吸附容量的减少的限制。从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物的至少一部分。在从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物之后,保留在所述物体表面上的所述气态过氧化氢组合物的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
在另一方面,提供了减少残留的设备。所述设备包含适于接收物体的室和与所述室流体连通的分配器。所述分配器适于向所述室提供阻塞物质和处理剂。所述室适于促进所述阻塞物质渗透到所述物体中并且适于在所述阻塞物质的所述至少一部分渗透之后使所述物体与所述处理剂接触。在从所述物体去除所述处理剂的至少一部分之后,保留在所述物体上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
应当理解,本说明书中描述的发明不限于本概述中总结的实例。本文描述和示例了各种其它方面。
附图简述
结合附图,通过参考对实例的以下描述,实例的特征和优点以及实现它们的方式将变得更加明显,并且将更好地理解实例,其中:
图1是根据本公开的用于减少物体残留的设备的示意图。
贯穿几个视图,相应的附图标记指示相应的部件。本文中陈述的范例以一种形式说明某些实例,并且这样的范例不应被解释为以任何方式限制实例的范围。
详细说明
现在将描述本公开的某些示例性方面,以提供对本文公开的装置和方法的结构、功能、制造和使用的原理的全面理解。在附图中说明这些方面的一个或多个实例。本领域普通技术人员将理解,本文具体描述和在附图中说明的装置和方法是非限制性的示例性方面,并且本发明的各种实例的范围仅由权利要求限定。结合一个示例性方面说明或描述的特征可与其它方面的特征组合。这样的修改和变化旨在包括在本发明的范围内。
在整个说明书中对“各种实例”、“一些实例”、“一个实例”或“实例”等的提及意味着结合实例描述的特定特征、结构或特性包括在至少一个实例中。因此,在整个说明书中的地方出现的短语“在各种实例中”、“在一些实例中”、“在一个实例中”或“在实例中”等不一定全部指代相同的实例。此外,特定特征、结构或特性可以任何合适的方式在一个或多个实例中组合。因此,结合一个实例说明或描述的特定特征、结构或特性可与一个或多个其它实例的特征、结构或特性整体或部分地组合而没有限制。这样的修改和变化旨在包括在本实例的范围内。
在本说明书中,除非另有指示,否则所有数值参数应理解为在所有情况下都被术语“约”为前导和修饰,其中数值参数具有用于确定参数数值的基础测量技术的固有可变性特性。至少,并且不试图将等价原则的适用限制于权利要求的范围,本文所述的每个数值参数应至少根据所报道的有效数字的数值并通过应用普通的舍入技术来解释。
另外,本文叙述的任何数值范围包括包含在叙述的范围内的所有子范围。例如,“1-10”的范围包括在叙述的最小值1和叙述的最大值10之间(并包括这两个值)的所有子范围,即,具有等于或大于1的最小值和等于或小于10的最大值。在本说明书中叙述的任何最大数值限制旨在包括包含在其中的所有较低的数值限制,并且在本说明书中叙述的任何最小数值限制旨在包括包含在其中的所有较高的数值限制。因此,申请人保留修改包括权利要求书的本说明书的权利,以明确地叙述包含在明确叙述的范围内的任何子范围。所有这样的范围在本说明书中被固有地描述,使得明确地叙述任何这样的子范围的修改将符合35U.S.C. § 112和35 U.S.C. § 132(a)的要求。
物体可以经历处理方法以防止交叉污染和疾病的传播。如本文所用,“处理方法”可以是清洁方法、消毒方法、杀菌方法等及其组合。处理方法可以是手动的、自动化的或其一些组合,并且可以利用处理剂。如本文所用,“处理剂”可包含清洁剂、消毒剂和杀菌剂中的至少一种。如本文所用,“清洁方法”是指采用去除和/或消除碎屑(如污垢、灰尘、颗粒、油、蛋白质、碳水化合物等)的清洁剂的处理方法。如本文所用,“清洁剂”是指在清洁方法期间去除和/或消除碎屑的一类处理剂,例如表面活性剂和/或去污剂。
消毒方法和杀菌方法可从物体去除和/或消除生物负载。生物负载可为例如细菌(例如分枝杆菌、细菌孢子)、古细菌、真核生物、病毒、真菌和/或其它形式的生物试剂。细菌孢子(例如内孢子)为休眠的细菌形式并且高度耐物理和化学降解。如本文所用,“消毒方法”是指大量地去除除细菌孢子以外的生物负载的处理方法。如本文所用,“大量地去除”是指已经从物体去除至少99%的生物负载,例如已经从物体去除至少99.9%的生物负载、至少99.99%的生物负载、至少99.999%的生物负载、或至少99.9999%的生物负载。如本文所用,“杀菌方法”是指大量地去除包括细菌孢子的生物负载的处理方法。杀菌方法可包括例如加入热、冷冻、杀菌剂、辐射、压力及其组合。杀菌剂可包含能够杀菌的化学品。消毒方法可包括例如加入热、消毒剂、辐射、压力及其组合。消毒剂可包含能够消毒的化学品。
如本文所用,术语“聚合物”是指预聚物、低聚物、以及均聚物和共聚物二者。
如本文所用,“雾”是指包含悬浮在气体中的液体的小液滴的物质。雾可以汽化或蒸发成蒸气。由于雾已经在液相中,雾可能不冷凝。可以用合适的液滴产生装置(例如超声加湿器)来产生雾。根据液体的小液滴的尺寸和密度,雾通常是肉眼可见的。
如本文所用,“蒸气”是指气相中的物质,其温度低于物质临界温度,使得通过升高压力而不减少温度蒸气可冷凝成液体。蒸气可以从气相冷凝为液相。在各种实例中,水蒸气与水雾不同。
如本文所用,“气态组合物”是指液体、气体或其组合,例如,蒸气、雾、温度至少为物质临界温度的气体、或其组合。例如,气态水组合物可包含水蒸气、水雾、水煤气或其组合。
使物体(如医疗装置)经受处理方法可以在处理设备(如杀菌器)中发生。杀菌器可包含医疗装置可放置在其中的可密封的室。在将室密封之后,可以通过泵减少压力,并且可以将处理剂汽化并分配到可密封的室中,从而使医疗装置与处理剂接触。在已经过适于去除和/或消除生物负载的时间段之后,可以去除处理剂。然而,标准去除方法通常不能去除所有的处理剂,并且残留处理剂可能不期望地保留在医疗装置上。
物体上的残留处理剂(如过氧化氢)可能使物体和/或物体与之接触的其它表面劣化。使医疗装置上的残留处理剂最小化可以减少医疗装置的停机时间并且可以增加物体的使用寿命。因此,在处理方法之后,物体可以经受另外的处理以去除残留处理剂。然而,另外的一个或多个处理步骤通常需要进一步的时间和资源,这些时间和资源在医疗设施(例如医院)中供应有限。
因此,本文提供了一种处理方法,其可以通过在施加处理剂之前使物体与可以渗透到物体中的阻塞物质接触来减少物体上残留处理剂的积聚。如本文所用,“渗透”是指阻塞物质穿透和/或透过至少物体表面的孔或空隙和/或浸透物体表面。例如,渗透是指阻塞物质吸收到物体中和/或吸附到物体上。阻塞物质的渗透可以减少随后可以渗透到物体中的处理剂的量。处理剂渗透的减少可以导致在处理方法之后在物体表面上的残留处理剂的减少。
阻塞物质可包含适于渗透到物体中并减少物体的吸收容量和/或吸附容量的物质。例如,阻塞物质可包含水、醇和二醇中的至少一种。在各种实例中,阻塞物质可包含水。在各种实例中,阻塞物质相当程度地排除处理剂。如本文所用,“相当程度地排除”是指阻塞物质具有小于10重量%处理剂,例如小于5%处理剂,在一些实例中小于1%处理剂,在一些实例中小于0.1%处理剂,并且在其它实例中按重量计基本上不具有处理剂。阻塞物质可包含液体和气体中的至少一种。例如,阻塞物质可为气态组合物,例如蒸气、雾、温度至少为物质临界温度的气体、或其组合。在各种实例中,阻塞物质可为在21 CFR Parts 20、25、170、184、186和570 (2016)下通常被认为是安全的任何化学品。
本文提供了减少物体的残留的方法。所述方法包括使物体与阻塞物质接触,使得物体被阻塞物质的至少一部分渗透。物体被阻塞物质的渗透可减少物体的吸收容量和/或吸附容量。在各种实例中,使物体与阻塞物质接触可包括将液相的阻塞物质喷洒到物体上、使阻塞物质汽化并使物体与蒸气接触、用阻塞物质产生雾并使物体与雾接触、使物体与阻塞物质的气体接触、将物体浸泡在包含阻塞物质的液体中、或用另一合适的手段(例如布)将阻塞物质沉积在物体上中的至少一种。在各种实例中,在使物体与阻塞物质接触之前,可以将物体预处理,例如,可以用例如布擦拭物体的表面以去除碎屑。
阻塞物质的温度可为适于促进物体渗透的任何温度。在某些方面中,阻塞物质的温度可以增强阻塞物质到物体中的渗透速率。阻塞物质的温度可以通过例如加热器、分配器、汽化器及其组合来维持和/或调节。阻塞物质的温度可以在0℃至200℃范围内,例如10℃至150℃、30℃至90℃、50℃至85℃、或65℃至85℃。在各种实例中,阻塞物质的温度可为75℃。
在各种实例中,阻塞物质可以在具有任何合适压力的环境中接触物体。例如,物体与阻塞物质的接触可以在0.1托至7600托范围内的压力下,例如,0.2托至0.8托、760至7600托、760至2280托、1托至750托、10托至300托、10托至200托、或10托至100托。在各种实例中,压力可以小于750托。除非另有指示,否则本文中所有压力是指绝对压力。可以调节环境压力和阻塞物质的温度以提供所需状态的阻塞物质,例如液体或气态组合物。
物体可以被阻塞物质接触适于促进渗透的时间段。阻塞物质接触物体的时间段可以影响阻塞物质到物体中的渗透。物体与阻塞物质的接触可以发生0.1分钟至120分钟范围内的时间段,例如0.1分钟至90分钟、0.1分钟至60分钟、0.1分钟至30分钟、0.1分钟至20分钟、0.1分钟至10分钟、0.5分钟至5分钟、或1分钟至2分钟。在各种实例中,可能期望使与阻塞物质接触的时间段最小化,使得处理方法的总时间可以最小化。
接触的时间段、环境的压力和/或阻塞物质的温度可以基于用于形成物体的材料来选择。如本领域已知的,用于形成物体的材料的类型影响渗透速率和物体的吸收容量和/或吸附容量。因此,接触的时间段、环境的压力和/或阻塞物质的温度可以基于物体的材料来选择,以实现适于减少物体的吸收容量和/或吸附容量的阻塞物质向物体中的渗透。在各种实例中,物体包含金属、塑料、陶瓷和织物中的至少一种。例如,物体可包含聚合物,例如聚胺、聚醚酰亚胺、聚氯乙烯、聚砜、聚醚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯醚、聚缩醛、聚碳酸酯和聚氨酯中的至少一种。物体可包含医疗装置,例如解剖刀、内窥镜、剪刀等。
在物体被阻塞物质渗透并且物体的吸收容量和/或吸附容量已经减少之后,可以使物体与处理剂接触。在各种实施例中,与处理剂接触可包括将液相的处理剂喷洒到物体上、汽化处理剂并使物体与蒸气接触、用处理剂产生雾并使物体与雾接触、使物体与处理剂的气体接触、将物体浸泡在包含处理剂的液体中、或用另一合适的手段(例如布)将处理剂沉积在物体上中的至少一种。
处理剂可包含清洁剂、消毒剂和杀菌剂中的至少一种。处理剂可包含液体和气体中的至少一种。例如,阻塞物质可为气态组合物,例如蒸气、雾或气体。处理剂可包含过氧化氢、环氧乙烷、氮氧化物、臭氧、戊二醛、甲醛、过乙酸、氯、碘和氢氧化钠中的至少一种。在各种实例中,处理剂可包含至少10重量%过氧化氢,例如至少20重量%、至少30重量%、至少40重量%、至少50重量%、至少60重量%、或至少70重量%过氧化氢。在各种实例中,处理剂包含过氧化氢和余量的水。在各种实例中,处理剂可包含过氧化氢蒸气。
处理剂的温度可以适于从物体中至少大量地去除生物负载。在各种实例中,处理剂的温度可以减少处理剂到物体中的渗透。处理剂的温度可以通过例如加热器、分配器、汽化器及其组合来维持和/或调节。处理剂的温度可以在0℃至200℃范围内,例如25℃至80℃、40℃至70℃、或40℃至65℃。阻塞物质的温度和处理剂的温度可相同或不同。
在各种实例中,处理剂可以在具有任何合适压力的环境中接触物体。例如,物体与处理剂的接触可以在0.1托至7600托范围内的压力下,例如,0.2托至0.8托、760至7600托、760至2280托、1托至750托、10托至300托、10托至200托、或10托至100托。在各种实例中,压力可以小于750托。可以调节环境压力和处理剂的温度以提供所需状态的处理剂,例如液体或气态组合物。
物体可以被处理剂接触适于从物体中至少大量地去除生物负载的时间段。处理剂接触物体的时间段可以影响生物负载从物体中的去除,并且可以调节以实现所需的去除水平。该时间段可以在1分钟至120分钟范围内,例如1分钟至90分钟、10分钟至70分钟、10分钟至60分钟、10分钟至50分钟、10分钟至40分钟、10分钟至30分钟、或10分钟至20分钟。阻塞物质与物体接触的时间段和处理剂与物体接触的时间段可相同或不同。
处理剂可以在处理后从物体去除。通过用阻塞物质渗透物体,可以增强处理剂的去除,使得在用处理剂处理物体之前可以减少物体的吸收容量和/或吸附容量。例如,与在处理剂之前未与阻塞物质接触的物体的表面相比,当在处理剂之前物体已经与阻塞物质接触时,穿透物体或存在于物体表面上的处理剂可以较少。从物体去除处理剂可以包括产生等离子体并使处理剂与等离子体接触、将物体暴露于压力小于1个绝对大气压的环境、使物体与气体接触(例如,风干)、用溶液(例如,水)冲洗物体和擦拭物体(例如,布)中的至少一种。在各种实例中,单独的去除方法可能仅去除大量过氧化氢,而可能不去除残留过氧化氢。
将物体暴露于压力小于1个绝对大气压的环境可以促进物体的处理剂的去除。减少物体所暴露的环境的压力可包括从物体布置在其中的室中去除气体。物体所暴露的减少的压力可为0.1托至750托,例如,0.2托至0.8托、10托至300托、10托至200托、或10托至100托。在各种实例中,减少的压力小于750托。在将物体暴露于减少的压力之后,可以允许室返回到大气压力。
在从物体去除处理剂之后,物体可以准备好用于下一次使用,并且在各种实例中可以具有至少大量减少的生物负载。由于在处理剂之前与阻塞物质接触,可以减少物体表面上的残留处理剂。例如,物体表面上的处理剂的残留含量可以小于或等于按重量计每平方厘米物体表面积按重量计每百万重量份处理剂1,500份(ppm/cm2),例如,按重量计小于或等于1,000 ppm/cm2、按重量计小于或等于700 ppm/cm2、按重量计小于或等于600 ppm/cm2、按重量计小于或等于500 ppm/cm2、或按重量计小于或等于400 ppm/cm2。
参考图1,提供了减少残留的设备100。设备100包含室102和分配器116。室102可以适于接收物体104并且可以适于使物体104经受处理方法。分配器116可以与室102流体连通,并且可以以液体或气态组合物形式向室102提供阻塞物质和处理剂。在各种实例中,分配器116可包含汽化器,所述汽化器适于将阻塞物质和/或处理剂汽化成蒸气并向室102提供该蒸气。汽化器可适于在本文所述的温度下(如在0℃至200℃范围内的温度)向室102提供蒸气。在各种实例中,阀108可以位于分配器116和室102之间,以控制分配器116和室102之间的连通。
在各种实例中,设备100可包含与室102流体连通的第二分配器(未显示),以向室102提供处理剂和阻塞物质中的至少一种。在某些实例中,第一分配器116向室102提供阻塞物质,而第二分配器向室102提供处理剂。分配器的数量和构造仅用于说明目的,并且可以存在不同数量或构造的分配器。
室102可以从分配器116接收阻塞物质和处理剂。室102可为适于并且在合适的条件和参数下操作,以促进阻塞物质的至少一部分渗透到物体104中。在阻塞物质的至少一部分渗透到物体104中之后,室102可以适于使物体104与处理剂接触。例如,室102可以适于接收从分配器116 (或第二分配器)到物体104的阻塞物质。室102可为可密封的,使得阻塞物质和处理剂可以可密封地容纳在室102内。
在各种实例中,设备100可包含真空泵112、排气阀110和射频(RF)发生器114。真空泵112和排气阀110可以与室102流体连通。真空泵112和排气阀110可以适于控制室102的压力。例如,处于打开状态的排气阀110能够使得室102和室102外部的环境120之间经由过滤器118连通,使得室102中的压力可以等于环境120的压力。处于关闭状态的排气阀110可以防止室102和环境120之间的连通,以相对于环境120的压力增加或减少室中的压力。
RF发生器114可与室102连通,并可利用RF能量产生等离子体。术语“等离子体”旨在包括气体或蒸气的任何部分,其含有电子、离子、自由基、离解和/或激发的原子、和/或由于施加的电场而产生的分子,包括可能产生的任何伴随的辐射。
室102可以适于促进从物体104中去除处理剂。例如,由RF发生器114支持的室102可以适于产生等离子体,并且室102可以适于使等离子体与处理剂接触。等离子体可以通过从RF发生器114施加RF能量来引发。在等离子体中,大量处理剂可以分离成与生物负载碰撞/反应并且减少和/或消除生物负载的反应性物质。在各种实例中,等离子体可以将大量过氧化氢转化为水和氧。等离子体可以维持足够的时间以实现处理,例如物体104的消毒和/或杀菌。通常,等离子体可以用于去除大量处理剂并且可以增强杀菌功效。
由真空泵112支持的室102可以适于将物体104暴露于压力小于1个绝对大气压的环境。例如,真空泵112可以从室102中去除气体,以减少室102中的压力。减少的压力可以降低处理剂的沸点并促进处理剂的蒸发。在蒸发时,处理剂离开物体104并且可以经由真空泵112离开室102。在各种实例中,阀106可以布置在真空泵112和室102之间,以控制气体从室102的去除。
由真空泵112和排气阀110支持的室102可以使物体与气体接触(例如,空气冲洗)。例如,通过从室102中去除气体,真空泵112可以减少室102中的压力。排气阀110可以处于打开状态以实现室102和环境120之间的连通,使得气体可以进入室102并增加室102中的压力。进入室102的气体可以促进处理剂从物体104的去除。
由分配器116支持的室102可以用溶液(例如,水)冲洗物体。例如,分配器116可以以液体形式或以气态组合物形式向室102提供溶液。溶液可以接触物体104并且促进处理剂从物体104中的去除。在各种实例中,室102可以适于自动地擦拭物体。
实施例
通过参考以下实施例将更充分地理解本公开,所述实施例提供本发明的说明性非限制性方面。实施例描述用于清洁、消毒和/或杀菌物体的处理方法。
实施例
包含聚氨酯的试样1-3经受处理方法A-B。每个处理方法A-B包括STERRAD ®杀菌方法,并且处理方法B包括残留去除方法。对于每个处理方法A-B,将试样1-3放置在由Irvine, California的Advanced Sterilization Products(Somerville, New Jersey的Ethicon, Inc.的一个部门)制造的STERRAD ®杀菌器中。将杀菌器的杀菌室密封,并开始杀菌方法。杀菌方法包括等离子体预处理的步骤(i),其包括产生等离子体并使等离子体与试样1-3接触。步骤(ii)包括在47℃下使试样1-3与59%重量过氧化氢的处理剂蒸气接触。使处理剂蒸气与试样接触15.5分钟,以允许处理剂蒸气从试样1-3中至少大量地减少生物负载。在步骤(ii)期间,将杀菌室中的压力减少到0.2托至0.8托范围内的压力。步骤(iii)包括使杀菌室与大气相通,并将杀菌压力的压力增加到室内的环境压力。步骤(iv)包括等离子体后处理,其包括产生等离子体并使等离子体与试样1-3接触2分钟。等离子体后处理从试样1-3中去除大量过氧化氢,并将大量过氧化氢转化为水和氧。对于每个杀菌方法,重复步骤(i)至(iv),使得每个步骤(i)至(iv)进行两次。
在处理方法B中,试样1-3与处理方法A相似地被处理,不同之处在于,在杀菌方法之前,试样1-3通过将水汽化到杀菌室中而与温度范围为75℃至85℃的水蒸气阻塞物质接触。使水蒸气与试样1-3接触5分钟,以允许水蒸气的至少一部分渗透试样1-3。
在每个处理方法A-B之后,通过光谱学测试试样1-3以确定各试样1-3上的过氧化氢的残留含量。为了确定过氧化氢的残留含量,单独提取试样1-3。使提取物与水性钛(IV)试剂接触。钛(IV)试剂与试样1-3的残留过氧化氢反应,并形成在410 nm处具有吸光度的有色络合物。在410 nm处测量每种钛(IV)试剂的吸光度,并基于每个试样的表面积计算每个试样1-3的过氧化氢的残留含量,以ppm/cm2计。对每个试样1-3进行三次测量,处理方法A-B的结果示于表1中。
表1-处理后的残留过氧化氢(ppm/cm2)
比起在处理方法A之后,试样1-3在处理方法B之后具有较少的残留过氧化氢。比起在根据处理方法A的杀菌方法之后,试样1在根据处理方法B的杀菌方法之后的残留过氧化氢平均少9%。比起在根据处理方法A的杀菌方法之后,试样2在根据处理方法B的杀菌方法之后的残留过氧化氢平均少7%。比起在根据处理方法A的杀菌方法之后,试样3在根据处理方法B的杀菌方法之后的残留过氧化氢平均少45%。在处理方法 B中过氧化氢减少的残留含量表明,通过在处理方法B中与水蒸气接触,试样1-3的吸收容量和/或吸附容量已减少,使得物体被过氧化氢的渗透受到限制。
除非另有指示,否则本文所用的语法冠词“一个”、“一种”和“该”旨在包括“至少一个”或“一个或多个”,即使在某些情况下明确使用了“至少一个”或“一个或多个”。因此,本文中使用冠词是指一个或多于一个(即,“至少一个”)的冠词语法对象。此外,单数名词的使用包括复数,并且复数名词的使用包括单数,除非使用的上下文另有要求。
本领域技术人员将认识到,本文描述的部件(例如,操作)、装置、物体以及伴随它们的讨论是为了概念清楚而用作实例,并且预期各种配置修改。因此,如本文所用,所阐述的特定范例和伴随的讨论旨在代表它们更一般的类别。通常,任何特定范例的使用旨在代表其类别,并且不应将没有包含特定部件(例如,操作)、装置和物体视为限制性的。
本文描述的主题有时说明包含在不同的其它部件内或与不同的其它部件连接的不同部件。应当理解,这样描述的架构仅为示例性的,并且实际上可以实现许多其它架构,其实现相同的功能。在概念意义上,实现相同功能的部件的任何布置被有效地“关联”,使得实现期望的功能。因此,本文中组合以实现特定功能的任何两个部件可以被视为彼此“相关联”,使得实现期望的功能,而不管架构或中间部件。同样,如此关联的任何两个部件也可以被看作彼此“可操作地连接”或“可操作地联接”以实现期望的功能,并且能够如此关联的任何两个部件也可以被看作彼此“可操作地联接”以实现期望的功能。可操作地联接的具体实例包括但不限于物理上可配对的和/或物理上相互作用的部件、和/或无线可相互作用的、和/或无线相互作用部件、和/或逻辑上相互作用、和/或逻辑上可相互作用的部件。
关于所附权利要求,本领域技术人员将理解,其中叙述的操作一般可按任何次序来进行。另外,尽管以一个或多个序列呈现各种操作流程,但是应当理解,各种操作可以除了所说明的顺序之外的其它顺序进行,或者可同时进行。除非上下文另外指明,否则这样的交替排序的实例可包括重叠、交错、中断、重排、递增、预备、补充、同时、反向或其它变化排序。此外,除非上下文另外指明,否则术语像“响应于”、“涉及”或其它过去时形容词通常不旨在排除这样的变化。
尽管本文已经描述了各种实例,但是可以实现那些实例的许多修改、变化、替换、改变和等同物,并且本领域技术人员将想到这些修改、变化、替换、改变和等同物。而且,在公开用于某些部件的材料的情况下,可以使用其它材料。因此,应当理解,前述描述和所附权利要求旨在涵盖落入所公开的实例的范围内的所有这样的修改和变化。所附权利要求书旨在涵盖所有这样的修改和变化。
被认为通过引用而整体或部分地并入本文的任何专利、出版物或其它公开材料仅在所并入的材料不与本公开中阐述的现有定义、陈述或其它公开材料冲突的程度上并入本文。因此,并且在必要的程度上,本文明确阐述的公开内容取代通过引用并入本文的任何冲突材料。被认为通过引用并入本文但与本文阐述的现有定义、陈述或其它公开材料冲突的任何材料或其部分将仅在并入的材料和现有公开材料之间不出现冲突的程度并入。
根据本公开的本发明的各方面包括但不限于以下编号的条款中列举的方面。
1. 用于减少残留的方法,所述方法包括:
使物体与阻塞物质接触,使得所述物体被所述阻塞物质的至少一部分渗透,其中所述物体的容量被所述阻塞物质减少,所述容量选自吸收容量和吸附容量中的至少一种;以及
在所述物体的所述容量减少之后,使所述物体与处理剂接触,其中用所述处理剂渗透所述物体受到所述物体的所述容量的减少的限制。
2. 条款1所述的方法,所述方法进一步包括用所述处理剂使所述物体消毒。
3. 条款1-2中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质包含水、醇和二醇中的至少一种。
4. 条款1-3中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质为液体、雾、蒸气和气体中的至少一种。
5. 条款1-4中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质包含水蒸气。
6. 条款1-5中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含清洁剂、消毒剂和杀菌剂中的至少一种。
7. 条款1-6中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含过氧化氢、环氧乙烷、氮氧化物、臭氧、戊二醛、甲醛、过乙酸、氯、碘和氢氧化钠中的至少一种。
8. 条款1-7中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含液体、雾、蒸气和气体中的至少一种。
9. 条款1-8中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含过氧化氢蒸气。
10. 条款1-9中任一项所述的方法,所述方法进一步包括从所述物体去除所述处理剂。
11. 条款10所述的方法,其中从所述物体去除所述处理剂包括以下中的至少一种:
产生等离子体并使所述处理剂与所述等离子体接触;
将所述物体暴露于压力小于1个绝对大气压的环境;
使所述物体与气体接触;
用溶液冲洗所述物体;以及
擦拭所述物体。
12. 条款10-11中任一项所述的方法,其中在从所述物体去除所述处理剂之后,所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
13. 条款10-11中任一项所述的方法,其中在从所述物体去除所述处理剂之后,所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,000 ppm/cm2。
14. 条款1-13中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述阻塞物质接触发生0.1分钟至120分钟范围内的时间。
15. 条款1-13中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述阻塞物质接触发生0.1-10分钟范围内的时间。
16. 条款1-15中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述处理剂接触发生1分钟至120分钟范围内的时间。
17. 条款1-16中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质的温度在0℃至200℃范围内。
18. 条款1-16中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质的温度在30℃至90℃范围内。
19. 条款1-18中任一项所述的方法,其中所述物体包含聚胺、聚醚酰亚胺、聚氯乙烯、聚砜、聚醚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯醚、聚缩醛、聚碳酸酯和聚氨酯中的至少一种。
20. 用于减少残留的方法,所述方法包括:
使物体与气态水组合物接触,使得所述物体被所述气态水组合物的至少一部分渗透,其中所述物体的容量被所述气态水组合物减少,所述容量选自吸收容量和吸附容量中的至少一种;
在所述物体的所述容量减少之后,使所述物体与气态过氧化氢组合物接触并使所述物体消毒,其中用所述气态过氧化氢组合物渗透所述物体受到所述物体的所述容量的减少的限制;以及
从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物的至少一部分,其中在从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物之后,保留在所述物体表面上的所述气态过氧化氢组合物的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
21. 条款20所述的方法,其中所述气态水组合物包含水蒸气。
22. 条款20-21中任一项所述的方法,其中所述气态过氧化氢组合物包含过氧化氢蒸气。
23. 用于减少残留的设备,所述设备包含:
适于接收物体的室;
与所述室流体连通的分配器,并且所述分配器适于向所述室提供阻塞物质和处理剂;以及
所述室适于促进所述阻塞物质渗透到所述物体中并且适于在所述阻塞物质的所述至少一部分渗透之后使所述物体与所述处理剂接触,其中在从所述物体去除所述处理剂的至少一部分之后,保留在所述物体上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
24. 条款23所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的第二分配器,所述第二分配器适于提供所述处理剂和所述阻塞物质中的至少一种。
25. 条款23-24中任一项所述的设备,其中所述分配器进一步包含汽化器,所述汽化器适于将所述阻塞物质和所述处理剂中的至少一种转化为蒸气,并且所述分配器适于向所述室提供所述蒸气。
26. 条款25所述的设备,其中所述汽化器适于提供在0℃至200℃范围内的温度的所述蒸气。
27. 条款23-26中任一项所述的设备,所述设备进一步包含射频发生器,所述射频发生器适于将所述阻塞物质的选择部分和所述处理剂的选择部分中的至少一种转化为等离子体。
28. 条款23-27中任一项所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的泵,并且所述泵适于从所述室中去除气体。
29. 条款23-28中任一项所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的阀,并且所述阀适于将气体输送到所述室中。
30. 条款23-29中任一项所述的设备,其中在从所述物体去除所述处理剂的至少一部分之后,保留在所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,000ppm/cm2。
31. 条款23-30中任一项所述的设备,其中所述阻塞物质包含水、醇和二醇中的至少一种。
32. 条款23-31中任一项所述的设备,其中所述处理剂包含过氧化氢、环氧乙烷、氮氧化物、臭氧、戊二醛、甲醛、过乙酸、氯、碘和氢氧化钠中的至少一种。
总之,已经描述了采用本文所述的概念所产生的许多益处。为了说明和描述的目的,已经呈现了一个或多个实例的前述描述。其不旨在为穷举的或局限于所公开的精确形式。根据上述教导,修改或变化是可能的。选择和描述一个或多个实例以说明原理和实际应用,从而使得本领域普通技术人员能够利用各种实例并且进行适合于所设想的特定用途的各种修改。旨在在此提交的权利要求书限定总体范围。
虽然本公开出于说明本公开的各个方面和/或其潜在应用的目的而提供了对各个具体方面的描述,但是应当理解,本领域技术人员将想到变化和修改。因此,本文所述的一个或多个发明应被理解为至少与它们所要求保护的一样宽,并且不应被本文提供的具体说明性方面更窄地限定。
权利要求书(按照条约第19条的修改)
1.用于减少残留的方法,所述方法包括:
使物体与阻塞物质接触,使得所述物体被所述阻塞物质的至少一部分渗透,其中所述物体的容量被所述阻塞物质减少,所述容量选自吸收容量和吸附容量中的至少一种;以及
在所述物体的所述容量减少之后,使所述物体与处理剂接触,其中用所述处理剂渗透所述物体受到所述物体的所述容量的减少的限制,
其中所述物体为医疗装置,和
其中所述阻塞物质按重量计基本上不具有处理剂。
2.权利要求1所述的方法,所述方法进一步包括用所述处理剂使所述物体消毒。
3.权利要求1-2中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质包含水、醇和二醇中的至少一种。
4.权利要求1-3中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质为液体、雾、蒸气和气体中的至少一种。
5.权利要求1-4中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质包含水蒸气。
6.权利要求1-5中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含清洁剂、消毒剂和杀菌剂中的至少一种。
7.权利要求1-6中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含过氧化氢、环氧乙烷、氮氧化物、臭氧、戊二醛、甲醛、过乙酸、氯、碘和氢氧化钠中的至少一种。
8.权利要求1-7中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含液体、雾、蒸气和气体中的至少一种。
9.权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含过氧化氢蒸气。
10.权利要求1-9中任一项所述的方法,所述方法进一步包括从所述物体去除所述处理剂。
11.权利要求10所述的方法,其中从所述物体去除所述处理剂包括以下中的至少一种:
产生等离子体并使所述处理剂与所述等离子体接触;
将所述物体暴露于压力小于1个绝对大气压的环境;
使所述物体与气体接触;
用溶液冲洗所述物体;以及
擦拭所述物体。
12.权利要求10-11中任一项所述的方法,其中在从所述物体去除所述处理剂之后,所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
13.权利要求10-11中任一项所述的方法,其中在从所述物体去除所述处理剂之后,所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,000 ppm/cm2。
14.权利要求1-13中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述阻塞物质接触发生0.1分钟至120分钟范围内的时间。
15.权利要求1-13中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述阻塞物质接触发生0.1-10分钟范围内的时间。
16.权利要求1-15中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述处理剂接触发生1分钟至120分钟范围内的时间。
17.权利要求1-16中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质的温度在0℃至200℃范围内。
18.权利要求1-16中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质的温度在30℃至90℃范围内。
19.权利要求1-18中任一项所述的方法,其中所述物体包含聚胺、聚醚酰亚胺、聚氯乙烯、聚砜、聚醚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯醚、聚缩醛、聚碳酸酯和聚氨酯中的至少一种。
20.用于减少残留的方法,所述方法包括:
使物体与气态水组合物接触,使得所述物体被所述气态水组合物的至少一部分渗透,其中所述物体的容量被所述气态水组合物减少,所述容量选自吸收容量和吸附容量中的至少一种;
在所述物体的所述容量减少之后,使所述物体与气态过氧化氢组合物接触并使所述物体消毒,其中用所述气态过氧化氢组合物渗透所述物体受到所述物体的所述容量的减少的限制;以及
从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物的至少一部分,其中在从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物之后,保留在所述物体表面上的所述气态过氧化氢组合物的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2,
其中所述物体为医疗装置,和
其中所述气态水组合物按重量计基本上不具有处理剂。
21.权利要求20所述的方法,其中所述气态水组合物包含水蒸气。
22.权利要求20-21中任一项所述的方法,其中所述气态过氧化氢组合物包含过氧化氢蒸气。
23.用于减少残留的设备,所述设备包含:
适于接收物体的室;
与所述室流体连通的分配器,并且所述分配器适于向所述室提供阻塞物质和处理剂;以及
所述室适于促进所述阻塞物质渗透到所述物体中并且适于在所述阻塞物质的所述至少一部分渗透之后使所述物体与所述处理剂接触,其中在从所述物体去除所述处理剂的至少一部分之后,保留在所述物体上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,500ppm/cm2,
其中所述物体为医疗装置,和
其中所述阻塞物质按重量计基本上不具有处理剂。
24.权利要求23所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的第二分配器,所述第二分配器适于提供所述处理剂和所述阻塞物质中的至少一种。
25.权利要求23-24中任一项所述的设备,其中所述分配器进一步包含汽化器,所述汽化器适于将所述阻塞物质和所述处理剂中的至少一种转化为蒸气,并且所述分配器适于向所述室提供所述蒸气。
26.权利要求25所述的设备,其中所述汽化器适于提供在0℃至200℃范围内的温度的所述蒸气。
27.权利要求23-26中任一项所述的设备,所述设备进一步包含射频发生器,所述射频发生器适于将所述阻塞物质的选择部分和所述处理剂的选择部分中的至少一种转化为等离子体。
28.权利要求23-27中任一项所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的泵,并且所述泵适于从所述室中去除气体。
29.权利要求23-28中任一项所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的阀,并且所述阀适于将气体输送到所述室中。
30.权利要求23-29中任一项所述的设备,其中在从所述物体去除所述处理剂的至少一部分之后,保留在所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,000ppm/cm2。
31.权利要求23-30中任一项所述的设备,其中所述阻塞物质包含水、醇和二醇中的至少一种。
32.权利要求23-31中任一项所述的设备,其中所述处理剂包含过氧化氢、环氧乙烷、氮氧化物、臭氧、戊二醛、甲醛、过乙酸、氯、碘和氢氧化钠中的至少一种。
Claims (32)
1.用于减少残留的方法,所述方法包括:
使物体与阻塞物质接触,使得所述物体被所述阻塞物质的至少一部分渗透,其中所述物体的容量被所述阻塞物质减少,所述容量选自吸收容量和吸附容量中的至少一种;以及
在所述物体的所述容量减少之后,使所述物体与处理剂接触,其中用所述处理剂渗透所述物体受到所述物体的所述容量的减少的限制。
2.权利要求1所述的方法,所述方法进一步包括用所述处理剂使所述物体消毒。
3.权利要求1-2中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质包含水、醇和二醇中的至少一种。
4.权利要求1-3中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质为液体、雾、蒸气和气体中的至少一种。
5.权利要求1-4中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质包含水蒸气。
6.权利要求1-5中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含清洁剂、消毒剂和杀菌剂中的至少一种。
7.权利要求1-6中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含过氧化氢、环氧乙烷、氮氧化物、臭氧、戊二醛、甲醛、过乙酸、氯、碘和氢氧化钠中的至少一种。
8.权利要求1-7中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含液体、雾、蒸气和气体中的至少一种。
9.权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述处理剂包含过氧化氢蒸气。
10.权利要求1-9中任一项所述的方法,所述方法进一步包括从所述物体去除所述处理剂。
11.权利要求10所述的方法,其中从所述物体去除所述处理剂包括以下中的至少一种:
产生等离子体并使所述处理剂与所述等离子体接触;
将所述物体暴露于压力小于1个绝对大气压的环境;
使所述物体与气体接触;
用溶液冲洗所述物体;以及
擦拭所述物体。
12.权利要求10-11中任一项所述的方法,其中在从所述物体去除所述处理剂之后,所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
13.权利要求10-11中任一项所述的方法,其中在从所述物体去除所述处理剂之后,所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,000 ppm/cm2。
14.权利要求1-13中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述阻塞物质接触发生0.1分钟至120分钟范围内的时间。
15.权利要求1-13中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述阻塞物质接触发生0.1-10分钟范围内的时间。
16.权利要求1-15中任一项所述的方法,其中使所述物体与所述处理剂接触发生1分钟至120分钟范围内的时间。
17.权利要求1-16中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质的温度在0℃至200℃范围内。
18.权利要求1-16中任一项所述的方法,其中所述阻塞物质的温度在30℃至90℃范围内。
19.权利要求1-18中任一项所述的方法,其中所述物体包含聚胺、聚醚酰亚胺、聚氯乙烯、聚砜、聚醚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯醚、聚缩醛、聚碳酸酯和聚氨酯中的至少一种。
20.用于减少残留的方法,所述方法包括:
使物体与气态水组合物接触,使得所述物体被所述气态水组合物的至少一部分渗透,其中所述物体的容量被所述气态水组合物减少,所述容量选自吸收容量和吸附容量中的至少一种;
在所述物体的所述容量减少之后,使所述物体与气态过氧化氢组合物接触并使所述物体消毒,其中用所述气态过氧化氢组合物渗透所述物体受到所述物体的所述容量的减少的限制;以及
从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物的至少一部分,其中在从所述物体去除所述气态过氧化氢组合物之后,保留在所述物体表面上的所述气态过氧化氢组合物的残留含量按重量计小于或等于1,500 ppm/cm2。
21.权利要求20所述的方法,其中所述气态水组合物包含水蒸气。
22.权利要求20-21中任一项所述的方法,其中所述气态过氧化氢组合物包含过氧化氢蒸气。
23.用于减少残留的设备,所述设备包含:
适于接收物体的室;
与所述室流体连通的分配器,并且所述分配器适于向所述室提供阻塞物质和处理剂;以及
所述室适于促进所述阻塞物质渗透到所述物体中并且适于在所述阻塞物质的所述至少一部分渗透之后使所述物体与所述处理剂接触,其中在从所述物体去除所述处理剂的至少一部分之后,保留在所述物体上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,500ppm/cm2。
24.权利要求23所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的第二分配器,所述第二分配器适于提供所述处理剂和所述阻塞物质中的至少一种。
25.权利要求23-24中任一项所述的设备,其中所述分配器进一步包含汽化器,所述汽化器适于将所述阻塞物质和所述处理剂中的至少一种转化为蒸气,并且所述分配器适于向所述室提供所述蒸气。
26.权利要求25所述的设备,其中所述汽化器适于提供在0℃至200℃范围内的温度的所述蒸气。
27.权利要求23-26中任一项所述的设备,所述设备进一步包含射频发生器,所述射频发生器适于将所述阻塞物质的选择部分和所述处理剂的选择部分中的至少一种转化为等离子体。
28.权利要求23-27中任一项所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的泵,并且所述泵适于从所述室中去除气体。
29.权利要求23-28中任一项所述的设备,所述设备进一步包含与所述室流体连通的阀,并且所述阀适于将气体输送到所述室中。
30.权利要求23-29中任一项所述的设备,其中在从所述物体去除所述处理剂的至少一部分之后,保留在所述物体表面上的所述处理剂的残留含量按重量计小于或等于1,000ppm/cm2。
31.权利要求23-30中任一项所述的设备,其中所述阻塞物质包含水、醇和二醇中的至少一种。
32.权利要求23-31中任一项所述的设备,其中所述处理剂包含过氧化氢、环氧乙烷、氮氧化物、臭氧、戊二醛、甲醛、过乙酸、氯、碘和氢氧化钠中的至少一种。
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