CN112522736A - 一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法及其应用 - Google Patents

一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法及其应用 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法及其应用。该方法是以Ni或雷尼镍为基底,将Co3O4与Al进行混合,涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将混合物涂负于基底上,形成一种致密的混合物涂层,然后用碱液对其表面进行刻蚀,清洗干燥后得到多孔的Co3O4纳米涂层。该发明一方面提高阴极电极的化学稳定性,使其在反应过程中不容易腐蚀,另一方面由于是多孔材料,不会影响其反应进程。该方法不仅可以降低电极腐蚀产生的成本,还可以避免因腐蚀带来的电解液的不纯导致的性能降低,有着很大的应用前景。

Description

一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法及其应用
技术领域
本发明属于催化剂电极制备技术领域,具体涉及一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法及其应用。
背景技术
随着人类科技的进步,各种电极催化技术层出不穷!总的趋势还是向“纳米化”发展,即通过各种方式和手段来控制催化材料的微观结构,向人们预期的方向发展和变化,进而实现催化材料微观结构的优异性能。目前,尽管人们通过研究获取了许多催化材料的纳米化方法,诸如:激光烧蚀法、化学气相沉积法、热气相沉积法、模板法、水热法等等,但都面临着工业化应用的考验。尤其是在批量化、大型化及其与电极装配工艺方面都存在许多难题。磁控溅射工艺是制备纳米薄膜的的常用物理沉积方式,该方法对所沉积薄膜的衬底选择性范围广,可以在衬底上制备出几十纳米的超薄膜。
在催化领域中,可以用作气相沉积进行镀膜,作为一种催化剂的制备方式,在机械加工行业中,表面功能膜、超硬膜、自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到了长足发展,能有效地提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。
发明的内容
为了适应批量化、大型化加工,有效控制涂层厚度在100nm以内,避免多孔纳米涂层成形过程中使用导致工艺流程复杂化、昂贵化的工艺方法,力图工艺过程简单高效,涂层孔隙细小均匀,本发明提供了一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法及其应用。
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)选取基底,采用水和乙醇清洗后,烘干待用;
2)将Co3O4与Al进行混合,涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al涂覆于步骤1)中的基底上,形成致密的混合物涂层;
3)对通过步骤2)制备得到的混合物涂层进行吹扫;
4)配置氢氧化钠溶液,将经步骤3)吹扫后的混合物涂层放入氢氧化钠溶液中进行刻蚀;
5)采用去离子水对经步骤4)刻蚀后的混合物涂层进行超声清洗,重复清洗一定次数,干燥后得到Co3O4纳米多孔阴极涂层。
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于,所述基底为Ni或雷尼镍,优选雷尼镍。
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤2)中Co3O4与Al的质量比为1:0.5~1:5,优选3:2。
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤2)中的磁控溅射的方式的溅射时间为5~50min,优选为15min;溅射电流为10~20A,优选为13A,采用旋转溅射的方式进行操作,每分钟的溅射量相同。
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤3)中的吹扫采用惰性气体吹扫,优选N2
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤4)中的氢氧化钠的浓度为3M~8M,优选为5M;加热刻蚀,温度为40~80℃,优选为60℃。
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤5)中超声的超声功率为350~700W,优选为500W;时间为5~10min,优选为7min;重复清洗的次数为3~8次,优选为5次。
所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤5)中的干燥是在50~80℃的烘箱中干燥6~12h,温度优选60℃,时间优选10h。
一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的应用,其特征在于,操作步骤如下:对涂覆Co3O4纳米多孔阴极涂层的电极进行电解重水析氘性能测试,采用三电极体系测试其析氘性能,以涂覆Co3O4纳米多孔阴极涂层的电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试所用的电解质为1M NaOD溶液,于常温常压下进行电解。
本发明的Co3O4纳米多孔阴极涂层制备方法,有以下效果:
1)本发明的涂层厚度控制在60nm左右,表面呈现多孔形貌,比表面积大,与镍电极基底结合牢固,可以很好地提高阴极电极的化学稳定性,使其在反应过程中不容易腐蚀。
2)本发明涂层是多孔材料,作为电解重水析氘反应的电极,氘气可以很好地从孔隙中透过,因此不会影响其反应进程。
3)本发明涂层的涂层方法不仅可以降低电极腐蚀产生的成本,还可以避免因腐蚀带来的电解液的不纯导致性能的降低,有着良好的社会经济效益。
附图说明
图1磁控溅射原理示意图;
图2为纯雷尼镍表面SEM图;
图3为实施例2 中制备得到的具有Co3O4涂层的雷尼镍的SEM图;
图4为纯雷尼镍电极和实施例2中制备得到Co3O4涂层的雷尼镍的析氘稳定性测试图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明,但本发明的保护范围并不限于此。
实施例1
取一块雷尼镍作为基底,用水和乙醇的混合液进行清洗,烘干待用。将Co3O4与Al按照质量比1:0.5混合,取5g的混合物涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al的混合物旋转溅射涂覆于基底上,时间5min,溅射电流为10A,形成一种致密的混合物涂层,然后用N2进行吹扫;配制浓度为3M的NaOH溶液,取100ml溶液于烧杯中,将有涂层的雷尼镍浸入到烧杯中进行刻蚀,持续磁力搅拌3h,加热温度为40℃;对刻蚀后的雷尼镍进行清洗,将雷尼镍置于一个干净的烧杯中,加入去离子水,然后再置于超声池中进行超声操作,超声功率为350W,时间为5min,然后将雷尼镍取出,更换烧杯中的去离子水,再重复进行上述清洗操作3次,然后在50℃的烘箱中干燥6h,最终得到Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极。
对上述制备得到的电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以制备得到的上述电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例2
取一块雷尼镍作为基底,用水和乙醇的混合液进行清洗,烘干待用。将Co3O4与Al按照质量比3:2进行混合,取5g的混合物涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al的混合物旋转溅射涂覆于基底上,时间15min,溅射电流为13A,形成一种致密的混合物涂层,然后用N2进行吹扫,配制浓度为5M的NaOH溶液,取100ml溶液于烧杯中,将有涂层的雷尼镍浸入到烧杯中进行刻蚀,持续磁力搅拌3h,加热温度为60℃,对刻蚀后的雷尼镍进行清洗,将雷尼镍置于一个干净的烧杯中,加入去离子水,然后再置于超声池中进行超声操作,超声功率为500W,时间为7min,然后将雷尼镍取出,更换烧杯中的去离子水,再重复进行上述清洗操作5次,然后在60℃的烘箱中干燥10h,最终得到Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极。
对上述制备得到的电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以制备得到的上述电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例3
取一块雷尼镍作为基底,用水和乙醇的混合溶液进行清洗,烘干待用。将Co3O4与Al按照质量比为1:5混合,取5g的混合物涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al旋转溅射涂覆于基底上,时间20min,溅射电流为20A,形成一种致密的混合物涂层,然后用N2进行吹扫,配制浓度为8M的NaOH溶液,取100ml溶液于烧杯中,将有涂层的雷尼镍浸入到烧杯中进行刻蚀,持续磁力搅拌3h,加热温度为80℃,对刻蚀后的雷尼镍进行清洗,将雷尼镍置于一个干净的烧杯中,加入去离子水,然后再置于超声池中进行超声操作,超声功率为700W,时间为10min,然后将雷尼镍取出,更换换烧杯中的去离子水,再重复进行上述清洗操作8次,然后在80℃的烘箱中干燥12h,最终得到Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极。
对上述制备得到的电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以制备得到的上述电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例4
取一块雷尼镍作为基底,用水和乙醇的混合液进行清洗,烘干待用。将Co3O4与Al按照质量比3:2混合,取5g的混合物涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al的混合物旋转溅射涂覆于基底上,时间5min,溅射电流为13A,形成一种致密的混合物涂层,然后用N2进行吹扫;配制浓度为5M的NaOH溶液,取100ml溶液于烧杯中,将有涂层的雷尼镍浸入到烧杯中进行刻蚀,持续磁力搅拌3h,加热温度为60℃,对刻蚀后的雷尼镍进行清洗,将雷尼镍置于一个干净的烧杯中,加入去离子水,然后再置于超声池中进行超声操作,超声功率为500W,时间为7min,然后将雷尼镍取出,更换烧杯中的去离子水,再重复进行上述清洗操作5次,然后在60℃的烘箱中干燥10h,最终得到Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极。
对制备得到的电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以制备得到的上述电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例5
取一块雷尼镍作为基底,用水和乙醇的混合液进行清洗,烘干待用。将Co3O4与Al按照质量比3:2混合,取5g的混合物涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al的混合物旋转溅射涂覆于基底上,时间25min,溅射电流为13A,形成一种致密的混合物涂层,然后用N2进行吹扫;配制浓度为5M的NaOH溶液,取100ml溶液于烧杯中,将有涂层的雷尼镍浸入到烧杯中进行刻蚀,持续磁力搅拌3h,加热温度为60℃,对刻蚀后的雷尼镍进行清洗,将雷尼镍置于一个干净的烧杯中,加入去离子水,然后再置于超声池中进行超声操作,超声功率为500W,时间为7min,然后将雷尼镍取出,更换烧杯中的去离子水,再重复进行上述清洗操作5次,然后在60℃的烘箱中干燥10h,最终得到Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极。
对制备得到的电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以制备得到的上述电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例6
取一块雷尼镍作为基底,用水和乙醇的混合液进行清洗,烘干待用。将Co3O4与Al按照质量比3:2混合,取5g的混合物涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al的混合物旋转溅射涂覆于基底上,时间50min,溅射电流为13A,形成一种致密的混合物涂层,然后用N2进行吹扫;配制浓度为5M的NaOH溶液,取100ml溶液于烧杯中,将有涂层的雷尼镍浸入到烧杯中进行刻蚀,持续磁力搅拌3h,加热温度为60℃,对刻蚀后的雷尼镍进行清洗,将雷尼镍置于一个干净的烧杯中,加入去离子水,然后再置于超声池中进行超声操作,超声功率为500W,时间为7min,然后将雷尼镍取出,更换烧杯中的去离子水,再重复进行上述清洗操作5次,然后在60℃的烘箱中干燥10h,最终得到Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极。
对上述制备得到的电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的Co3O4纳米多孔阴极涂层的雷尼镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以制备得到的上述电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例7
取一块镍作为基底,用水和乙醇的混合液进行清洗,烘干待用。将Co3O4与Al按照质量比3:2混合,取5g的混合物涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al的混合物旋转溅射涂覆于基底上,时间50min,溅射电流为13A,形成一种致密的混合物涂层,然后用N2进行吹扫;配制浓度为5M的NaOH溶液,取100ml溶液于烧杯中,将有涂层的镍浸入到烧杯中进行刻蚀,持续磁力搅拌3h,加热温度为60℃,对刻蚀后的镍进行清洗,将镍置于一个干净的烧杯中,加入去离子水,然后再置于超声池中进行超声操作,超声功率为500W,时间为7min,然后将镍取出,更换烧杯中的去离子水,再重复进行上述清洗操作5次,然后在60℃的烘箱中干燥10h,最终得到Co3O4纳米多孔阴极涂层的镍电极。
对制备得到的电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1cm2的Co3O4纳米多孔阴极涂层的镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以制备得到的上述电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例8
对电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的雷尼镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以纯雷尼镍作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
实施例9
对电极进行电解重水析氘性能测试:取1*1 cm2的镍电极,用水和乙醇进行冲洗,自然干燥。采用三电极体系测试其析氘性能,以纯镍作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试电解质为1M NaOD溶液,常温常压,通过电流密度随电压的变化,判断催化剂的活性,测试结果如表1所示。
图1显示了磁控溅射原理图,Co3O4和Al的混合物通过磁控溅射的方式从靶材上脱落到匀速旋转的基底上,形成一种均匀的Co3O4和Al的镀层;图2为纯雷尼镍的表面SEM图;图3为实施例2的SEM图,对比图2,显示出其多孔的表面结构,有利于电解测试产生的氘气的溢出。图4分别显示了雷尼镍表面涂层Co3O4前后的稳定性图,可以看出,在没有涂层的情况下,反应在4.8h会产生一个电流的波动,表明其催化的不稳定性,而涂层后的雷尼镍,在9h的测试条件下,电流密度波动很小,显示了其具有稳定催化剂的性能。
表1 不同条件磁控溅射Co3O4涂层性能对比
试验 催化剂编号 溅射时间(min) 溅射电流(A) η/<sub>100 mA·cm</sub><sup>-2</sup> D<sub>2</sub>产率/ml/h
实施例1 Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>/雷尼镍 5 10 245 23.3
实施例2 Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>/雷尼镍 15 13 235 28.7
实施例3 Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>/雷尼镍 20 20 273 18.5
实施例4 Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>/雷尼镍 5 13 240 21.3
实施例5 Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>/雷尼镍 25 13 248 20.4
实施例6 Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>/雷尼镍 50 13 286 20.7
实施例7 Co<sub>3</sub>O<sub>4</sub>/镍 50 13 288 14.5
实施例8 雷尼镍 0 0 238 28.3
实施例9 0 0 283 16.5
在表1中,η/100 mA·cm -2表示电流密度为100 mA/cm2下的过电势。表1中显示了不同催化剂性能测试数据,每秒溅射的量相同,从表1可以看出:
1)实施例1-3对比了不同磁控溅射时间和电流对最后Co3O4涂层的雷尼镍电解重水析氘性能。从表格中可以看出,不同溅射时间和电流对析氘性能发生较大的变化,在15min和13A的溅射条件下,显示了较好的催化活性,溅射时间过长和电流过大会导致Co3O4覆盖掉雷尼镍的表面,影响其活性。
2)实施例4~6和2对比了不同磁控溅射时间对催化性能的影响,发现溅射时间过长,性能有所降低,说明溅射Co3O4的厚度增加,影响雷尼镍活性位点的暴露,从而影响其活性。
3)实施例2和纯雷尼镍的对比试验中,发现两者的析氘性能没有很大的差别,说明该条件下的涂层对雷尼镍的析氘性能没有很大的影响。
本说明书所述的内容仅仅是对发明构思实现形式的列举,本发明的保护范围不应当被视为仅限于实施例所陈述的具体形式。

Claims (9)

1.一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)选取基底,采用水和乙醇清洗后,烘干待用;
2)将Co3O4与Al进行混合,涂覆在磁控溅射的靶材上,通过磁控溅射的方式将Co3O4与Al涂覆于步骤1)中的基底上,形成致密的混合物涂层;
3)对通过步骤2)制备得到的混合物涂层进行吹扫;
4)配置氢氧化钠溶液,将经步骤3)吹扫后的混合物涂层放入氢氧化钠溶液中进行刻蚀;
5)采用去离子水对经步骤4)刻蚀后的混合物涂层进行超声清洗,重复清洗一定次数,干燥后得到Co3O4纳米多孔阴极涂层。
2.根据权利要求1所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于,所述基底为Ni或雷尼镍,优选雷尼镍。
3.根据权利要求1所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤2)中Co3O4与Al的质量比为1:0.5~1:5,优选3:2。
4.根据权利要求1所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤2)中的磁控溅射的方式的溅射时间为5~50min,优选为15min;溅射电流为10~20A,优选为13A,采用旋转溅射的方式进行操作,每分钟的溅射量相同。
5.根据权利要求1所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤3)中的吹扫采用惰性气体吹扫,优选N2
6.根据权利要求1所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤4)中的氢氧化钠的浓度为3M~8M,优选为5M;加热刻蚀,温度为40~80℃,优选为60℃。
7.根据权利要求1所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤5)中超声的超声功率为350~700W,优选为500W;时间为5~10min,优选为7min;重复清洗的次数为3~8次,优选为5次。
8.根据权利要求1所述的一种Co3O4纳米多孔阴极涂层的制备方法,其特征在于步骤5)中的干燥是在50~80℃的烘箱中干燥6~12h,温度优选60℃,时间优选10h。
9.一种如权利要求1所述的Co3O4纳米多孔阴极涂层的应用,其特征在于,操作步骤如下:对涂覆Co3O4纳米多孔阴极涂层的电极进行电解重水析氘性能测试,采用三电极体系测试其析氘性能,以涂覆Co3O4纳米多孔阴极涂层的电极作为工作电极,Ag/AgCl作为参比电极,石磨棒作为对比电极,测试所用的电解质为1M NaOD溶液,于常温常压下进行电解。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110259758A1 (en) * 2008-01-31 2011-10-27 Casale Chemicals S.A. High Performance Cathodes for Water Electrolysers
CN102874882A (zh) * 2012-11-06 2013-01-16 东华大学 一种多孔Co3O4纳米片的制备方法
CN102965625A (zh) * 2012-11-09 2013-03-13 同济大学 脉冲激光沉积制备片状纳米氧化钴阵列电极材料的方法及其应用
CN108431303A (zh) * 2015-12-28 2018-08-21 迪诺拉永久电极股份有限公司 碱水电解方法
CN108611617A (zh) * 2018-07-23 2018-10-02 陕西师范大学 一种磁控溅射沉积钴膜和氧化钴膜的方法
CN108956745A (zh) * 2018-06-12 2018-12-07 齐鲁工业大学 基于纳米多孔铂-氧化钴杂化材料的修饰电极的制备方法及其应用

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110259758A1 (en) * 2008-01-31 2011-10-27 Casale Chemicals S.A. High Performance Cathodes for Water Electrolysers
CN102874882A (zh) * 2012-11-06 2013-01-16 东华大学 一种多孔Co3O4纳米片的制备方法
CN102965625A (zh) * 2012-11-09 2013-03-13 同济大学 脉冲激光沉积制备片状纳米氧化钴阵列电极材料的方法及其应用
CN108431303A (zh) * 2015-12-28 2018-08-21 迪诺拉永久电极股份有限公司 碱水电解方法
CN108956745A (zh) * 2018-06-12 2018-12-07 齐鲁工业大学 基于纳米多孔铂-氧化钴杂化材料的修饰电极的制备方法及其应用
CN108611617A (zh) * 2018-07-23 2018-10-02 陕西师范大学 一种磁控溅射沉积钴膜和氧化钴膜的方法

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