CN112510072B - 显示面板、显示面板的制备方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。本申请实施例中，显示面板的像素限定层上远离阳极层的一面设置的支撑柱具有磁性，在制备显示面板的过程中，支撑柱与用于制作发光单元的蒸镀掩模具有相互排斥的磁性时，可以使得蒸镀掩模在支撑柱之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱始终保持一定的距离，避免蒸镀掩模划伤支撑柱，并且由于位于显示面板中心区域的支撑柱的磁性大于位于显示面板边缘区域的支撑柱的磁性，可以保证在蒸镀过程中蒸镀掩模与支撑柱之间的距离的均匀分布。如此，在后续进行显示面板封装时可以保证封装层的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板的显示效果。

Description

显示面板、显示面板的制备方法及显示装置

技术领域

本申请涉及显示面板制造技术领域，具体而言，涉及一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置。

背景技术

在显示面板的制备过程中，支撑柱可以起到支撑蒸镀掩模的作用，在蒸镀结束之后，对显示面板进行封装，从而隔绝水氧。然而，在蒸镀过程中，多道蒸镀掩模在各个方向上的移动拉扯，可能会划伤支撑柱，导致支撑柱表面出现凹凸不平的情况，这样在后续进行显示面板封装时会进一步划伤封装层，导致水氧入侵，影响显示面板的显示效果。

发明内容

基于现有设计的不足，本申请提供一种显示面板、显示面板的制备方法及显示装置，在进行显示面板封装时可以保证封装层的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板的显示效果。

根据本申请的第一方面，提供一种显示面板，所述显示面板可以包括：

基板；

像素限定层，所述像素限定层位于所述基板上，所述像素限定层限定出多个像素开口，所述像素开口内设置有发光单元；

支撑柱，所述支撑柱位于所述像素限定层上远离所述基板的一面，所述支撑柱具有磁性；

其中，位于所述显示面板中心区域的所述支撑柱的磁性大于位于所述显示面板边缘区域的所述支撑柱的磁性。

这样设置，由于显示面板的像素限定层上远离阳极层的一面设置的支撑柱具有磁性，在制备显示面板的过程中，支撑柱与用于制作发光单元的蒸镀掩模具有相互排斥的磁性时，可以使得蒸镀掩模在支撑柱之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱始终保持一定的距离，避免蒸镀掩模划伤支撑柱，在后续进行显示面板封装时可以保证封装层的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板的显示效果。并且，由于位于显示面板中心区域的支撑柱的磁性大于位于显示面板边缘区域的支撑柱的磁性，可以保证在蒸镀过程中蒸镀掩模与支撑柱之间的距离的均匀分布。

在第一方面的一种可能的实施方式中，所述支撑柱内掺杂有磁性材料。

在第一方面的一种可能的实施方式中，考虑到蒸镀掩模在张网时由于重力作用，蒸镀掩模的中间区域的下垂量会较边缘区域的下垂量大。因此，为了保证在蒸镀过程中蒸镀掩模与支撑柱之间的距离的均匀分布，在对支撑柱进行磁性材料掺杂时，沿靠近所述显示面板的中心的方向上，所述支撑柱内的磁性材料掺杂比例逐渐增大。

在第一方面的一种可能的实施方式中，为了进一步保证蒸镀掩模在蒸镀过程中可以与支撑柱保持一定的距离，所述像素限定层内掺杂有磁性材料，在制备显示面板的过程中，像素限定层与用于制作发光单元的蒸镀掩模具有相互排斥的磁性时，可以使得蒸镀掩模在支撑柱之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱进一步保持一定的距离。

在第一方面的一种可能的实施方式中，考虑到掺杂的磁性材料多为金属离子，当像素限定层中的金属离子的浓度太高时可能会引起与其他信号层之间的信号串扰的现象，而支撑柱在显示面板的制作过程中主要起到支撑蒸镀掩模的作用，需要磁力持续与蒸镀掩模保持一定距离，并且支撑柱在显示面板上的密度相较于像素限定层在显示面板上的密度更小，因此支撑柱上掺杂磁性材料后引起的串扰现象的弊端更小。基于此，为了尽可能避免串扰现象，所述像素限定层内的磁性材料掺杂比例小于所述支撑柱内的磁性材料掺杂比例。

在第一方面的一种可能的实施方式中，为了进一步避免串扰现象，所述支撑柱在所述基板上的正投影和所述像素限定层内的磁性材料在所述基板上的正投影不重叠。

在第一方面的一种可能的实施方式中，所述磁性材料可以包括镍、镍合金中的至少一种。

根据本申请的第二方面，提供一种显示面板的制备方法，以避免蒸镀掩模划伤支撑柱，进而保证显示面板的显示效果。其中，所述显示面板的制备方法可以包括：

提供基板，并在所述基板上制备像素限定层并在所述像素限定层上形成多个像素开口；

在所述像素限定层上制备支撑柱，所述支撑柱具有磁性，位于所述显示面板中心区域的所述支撑柱的磁性大于位于所述显示面板边缘区域的所述支撑柱的磁性；

使用蒸镀掩膜板在所述像素开口内形成发光单元，其中，所述蒸镀掩膜板的磁性和所述支撑柱的磁性相斥。

在第二方面的一种可能的实施方式中，为了进一步保证蒸镀掩模在蒸镀过程中可以与支撑柱保持一定的距离，所述在所述基板上制备像素限定层的步骤，还包括：

在所述像素限定层中掺杂与所述蒸镀掩膜板相互排斥的磁性材料。

根据本申请的第三方面，提供一种显示装置，可以包括第一方面或者第一方面中任意一种可能的实施方式所述的显示面板。

基于上述任一方面，本申请提供的实施方式中，显示面板的像素限定层上远离阳极层的一面设置的支撑柱具有磁性，在制备显示面板的过程中，支撑柱与用于制作发光单元的蒸镀掩模具有相互排斥的磁性时，可以使得蒸镀掩模在支撑柱之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱始终保持一定的距离，避免蒸镀掩模划伤支撑柱，并且由于位于显示面板中心区域的支撑柱的磁性大于位于显示面板边缘区域的支撑柱的磁性，可以保证在蒸镀过程中蒸镀掩模与支撑柱之间的距离的均匀分布。如此，在后续进行显示面板封装时可以保证封装层的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板的显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1示出了相关技术中的显示面板的制备示意图；

图2示出了相关技术中的显示面板的结构示意图；

图3示出了本申请实施例所提供的显示面板在制备过程中移动蒸镀掩膜的示意图之一；

图4示出了本申请实施例所提供的显示面板的结构示意图之一；

图5示出了本申请实施例所提供的显示面板在制备过程中移动蒸镀掩膜的示意图之二；

图6示出了本申请实施例所提供的显示面板的结构示意图之二；

图7示出了本申请实施例所提供的显示面板上制作的支撑柱的平面投影结构示意图；

图8示出了本申请实施例所提供的显示面板的制备方法的流程示意图；

图9a-图9e示出了本申请实施例所提供的显示面板在制备过程中的结构变化示意图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，应当理解，本申请中附图仅起到说明和描述的目的，并不用于限定本申请的保护范围。另外，应当理解，示意性的附图并未按实物比例绘制。本申请中使用的流程图示出了根据本申请实施例的一些实施例实现的操作。

除非另行定义，文中所使用的所有专业与科学用语与本领域熟练人员所熟悉的意义相同。本申请所使用的材料或原料均可通过常规途径购买获得，如无特殊说明，本申请所使用的材料或原料均按照本领域常规方式使用或者按照产品说明书使用。此外，任何与所记载内容相似或均等的方法及材料皆可应用于本申请方法中。本申请中所述的较佳实施方法与材料仅作示范之用。

请参照图1，示出了相关技术中的显示面板100的制备示意图。作为一种可替代的示例，在制备显示面板100的过程中，首先会提供一基板，基板可以包括阵列基板110、平坦化层、阳极层120(图1中未示出)等。例如，通常在阵列基板110上制备平坦化层和阳极层120，而后在阵列基板110和阳极层120上制备像素限定层130，像素限定层130可以限定出多个像素开口，像素开口内设置有发光单元150。接着，在像素限定层130上制备支撑柱140。在此基础上，再使用蒸镀掩膜板200在阳极层120远离阵列基板110的一侧蒸镀形成发光单元150。

相关技术中，常见的支撑柱140的制备材料为聚酰亚胺，聚酰亚胺是一种高分子有机物，尽管综合属性优秀，但是硬度较低，容易被划伤。而蒸镀掩膜板200通常为INVAR合金材料，本身具有一定的磁性，蒸镀掩膜板200对位时一般通过磁电极实现，在对位过程中蒸镀掩膜板200的移动可能会划伤支撑柱140，从而产生图1中支撑柱140出现诸多划伤缺口142(图1示例中仅示出一个缺口142)的情况。而现在技术针对支撑柱140的划伤问题，暂没有比较有效的解决方案。

发明人进一步研究后发现，当支撑柱140出现划伤缺口142时，请结合参阅图2，在后续对显示面板100进行封装时，这些划伤缺口142可能会进一步划伤封装结构层160(包括第一封装层162、第二封装层164以及第三封装层166)，这样可能进一步使得封装结构层160上产生裂纹161，降低封装性能，从而导致水氧入侵，影响显示面板100的显示效果。

所应说明的是，以上现有技术中的方案所存在的缺陷，均是发明人在经过实践并仔细研究后得出的结果，因此，上述技术问题的发现过程以及下文中本申请实施例针对上述问题所提出的解决方案，都应该是发明人在发明创造过程中对本申请做出的贡献，而不应当理解为本领域技术人员所公知的技术内容。

基于发明人发现的上述技术问题，本申请实施例提供一种改进的显示面板100，以改善上述发明人发现的常规设计中多道蒸镀掩膜板200在各个方向上的移动拉扯，会划伤支撑柱140，导致支撑柱140表面出现凹凸不平的问题，这样在后续进行显示面板100封装时会进一步划伤封装结构层160，导致水氧入侵，影响显示面板100的显示效果的问题。

详细地，本申请实施例的提供的显示面板，显示面板的像素限定层上远离阳极层的一面设置的支撑柱具有磁性，并且由于位于显示面板中心区域的支撑柱的磁性大于位于显示面板边缘区域的支撑柱的磁性。

如此，在制备显示面板的过程中，支撑柱与用于制作发光单元的蒸镀掩模具有相互排斥的磁性时，可以使得蒸镀掩模在支撑柱之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱始终保持一定的距离，避免蒸镀掩模划伤支撑柱，在后续进行显示面板封装时可以保证封装层的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板的显示效果。并且，还可以保证在蒸镀过程中蒸镀掩模与支撑柱之间的距离的均匀分布。

下面结合说明书附图详细介绍上述显示面板100的一些示例性的实现方案。

请参阅图3，示出了本申请实施例所提供的显示面板100在制备过程中移动蒸镀掩膜的示意图之一。如图3所示，显示面板100可以包括基板(例如可以包括阵列基板110、平坦化层、阳极层120等)、像素限定层130(Pixel Definition Layer，PDL层)、支撑柱140以及发光单元150。

其中，阳极层120可以位于基板上(例如可以位于阵列基板110上)。像素限定层130可以位于阵列基板110上，像素限定层130限定出多个像素开口131，像素开口131内可以设置有发光单元150。支撑柱140位于像素限定层130上远离基板的一面。

在本实施例中，图3中所示的阵列基板110的制作材料可以为低温多晶硅(LowTemperature Poly-Silicon，LTPS)，但不限于此。采用低温多晶硅制作阵列基板110有许多优点，例如可以实现显示面板100的轻薄化，并降低显示面板100的功耗。

在本实施例中，上述支撑柱140的材料可以是除金属以外的有机材料或者无机材料。例如，上述支撑柱140可以采用有机光刻胶制作形成。比如，光刻胶可以选用聚酰亚胺(Polyimide，PI)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)等。

在本实施例中，支撑柱140可具有磁性，发光单元150位于阳极层120上方，发光单元150可以通过使用蒸镀掩膜板200蒸镀形成。

其中，发光单元150可以包括空穴注入层(HIL，Hole Injection Layer)，空穴传输层(HTL，Hole Tranport Layer)，发光层(EML，Emission layer)，电子传输层(ETL，Electron Transport Layer)、空穴阻挡层(HBL，Hole Block Layer)，电子阻挡层(EBL，Electron Block Layer)、阴极层(Cathode)等膜层。

在本实施例中，位于显示面板100的中心区域的支撑柱140的磁性大于位于显示面板100的边缘区域的支撑柱140的磁性。例如，位于显示面板100的中心区域的支撑柱140的磁性与之间位于显示面板100的边缘区域的支撑柱140的磁性呈现磁性衰减变化。在一些可能的实施方式中，该磁性衰减变化可以是中心区域往边缘区域逐渐衰减，如可以是线性逐渐衰减，或者也可以是非线性逐渐衰减，或者在其它可能的实施方式中，也可能是阶梯式衰减，具体可以不作限定。此外，在一种可能的实施方式中，上述的中心区域可以是指显示面板100中心点所在的区域，或者也可以是指中心点或者位于显示面板100中心的像素限定层130、发光单元150所在的区域，在此不作具体限定。

基于上述设计，由于显示面板100的像素限定层130上远离基板的一面设置的支撑柱140具有磁性，在制备显示面板100的过程中，支撑柱140与用于制作发光单元150的蒸镀掩膜板200具有相互排斥的磁性时，可以减小蒸镀掩膜版200对支撑柱140的压力，当磁性足够大时，能够使得蒸镀掩膜板200在支撑柱140之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱140始终保持一定的距离，避免蒸镀掩膜板200划伤支撑柱140，并且由于位于显示面板100中心区域的支撑柱140的磁性大于位于显示面板100边缘区域的支撑柱140的磁性，使得蒸镀掩膜板200中心区域下垂较多的部分受到支撑柱140的排斥力较大，可以保证在蒸镀过程中蒸镀掩膜板200与支撑柱140之间始终保持一定距离，且使得蒸镀掩膜板200中心区域到待蒸镀基板之间距离和蒸镀掩膜板200其他区域到待蒸镀基板之间的距离差值较小，能够提高蒸镀膜层的均一性。如此，在后续进行显示面板100封装时可以保证封装层的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板100的显示效果。

在一种可能的实施方式中，仍旧参阅图3，在支撑柱140内掺杂有磁性材料145，能够减小磁性材料145对支撑柱140本身强度的影响。支撑柱140具有磁性的实现方式并不限于掺杂磁性材料145，还可以在支撑柱140的表面涂覆磁性材料145。

在一种可能的实施方式中，磁性材料可以为带有磁性的纳米颗粒，纳米颗粒的体积较小，容易掺杂至支撑柱140中，且不会对支撑柱140的强度造成影响。

进一步地，考虑到通常蒸镀掩膜板200为INVAR合金，因此可以选择镍、镍合金中的至少一种作为支撑柱140内掺杂的磁性材料145，含镍的磁性材料磁性强，能够更好的支撑蒸镀掩膜板200，其掺杂浓度可以结合蒸镀掩膜板200厂商的生产工艺能力、机台对位能力等进行自适应性优化，本实施例对此不作具体限定。此外，在向支撑柱140内掺杂磁性材料145的过程中，可以采用离子注入的方式，或者其它任意可行的实施方式进行掺杂，本实施例对此亦不作具体限定。

在一种可能的实施方式中，请进一步参阅图4，显示面板100还可以包括封装结构层160，该封装结构层160可以覆盖于像素限定层130、支撑柱140以及发光单元150上方。在一些可替代的示例中，封装结构层160可以包括依次层叠设置的第一封装层162、第二封装层164以及第三封装层166。

其中，作为一种示例，第一封装层162、第二封装层164以及第三封装层166可以分别采用无机材料制作形成。例如，第一封装层162和第三封装层166可以相同，例如第一封装层162和第三封装层166可以为无机层，第二封装层164可以为有机层，进而形成无机层、有机层、无机层的三明治封装结构。进一步地，第一封装层162和第三封装层166可以通过化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition，CVD)形成，第二封装层164通过喷墨打印(Ink-Jet Printing，IJP)形成并位于第一封装层162和第三封装层166之间。

这样，在通过上述封装结构层160进行封装的过程中，由于支撑柱140的表面是完整的，不存在划伤缺口142，因此在封装时支撑柱140不会划伤封装结构层160，可有效避免封装结构层160产生裂纹，从而可以保证封装结构层160的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板100的显示效果。

在一种可能的实施方式中，请结合参阅图5和图6，支撑柱140和像素限定层130可以一体化制作形成，为了进一步保证蒸镀掩膜板200在蒸镀过程中可以与支撑柱140保持一定的距离，像素限定层130内也可以掺杂磁性材料135，在制备显示面板100的过程中，像素限定层130与用于制作发光单元150的蒸镀掩膜板200具有相互排斥的磁性时，可以使得蒸镀掩膜板200在支撑柱140之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱140进一步保持一定的距离。

在一种可能的实施方式中，发明人考虑到掺杂的磁性材料多为金属离子，当像素限定层130中的金属离子的浓度太高时可能会引起与其他信号层之间的信号串扰的现象，而支撑柱140在显示面板100的制作过程中主要起到支撑蒸镀掩膜板200的作用，并且支撑柱140在显示面板100上的密度相较于像素限定层130在显示面板100上的密度更小，且支撑柱140不与发光单元150接触，因此支撑柱140上掺杂磁性材料145后引起的串扰现象的弊端更小。基于此，为了尽可能避免串扰现象，并保证支撑柱140与蒸镀掩膜板200之间的距离，在分别对像素限定层130和支撑柱140进行磁性材料的掺杂过程中，像素限定层130内的磁性材料135的掺杂比例小于支撑柱140内的磁性材料145的掺杂比例。

在一些可能的实施方式中，上述所指的像素限定层130内的磁性材料135的掺杂比例可以是指，磁性材料135与像素限定层130的体积比或者质量比。相对应地，上述所指的支撑柱140内的磁性材料145的掺杂比例可以是指，磁性材料145与支撑柱140的体积比或者质量比。

在一种可能的实施方式中，为了进一步避免串扰现象且增大待蒸镀基板对蒸镀掩膜板200的支撑作用，支撑柱140在基板上的正投影和像素限定层130内的磁性材料135在基板上的正投影不重叠。其中，正投影不重叠可以理解为，正投影不存在重叠部分，或者正投影的重叠部分的区域大小小于预设区域大小。

在一种可能的实施方式中，考虑到蒸镀掩膜板200在张网时由于重力作用，蒸镀掩膜板200的中间区域的下垂量会较边缘区域的下垂量大。因此，为了保证在蒸镀过程中蒸镀掩膜板200与支撑柱140之间的距离的均匀分布，在对支撑柱140进行磁性材料掺杂时，沿靠近显示面板100的中心的方向上，支撑柱140内的磁性材料145的掺杂比例逐渐增大。这样，位于显示面板100的中心区域的支撑柱140的磁性大于位于显示面板100的边缘区域的支撑柱140的磁性。

在一些可能的实施方式中，为了保证均匀分布的效果，支撑柱140内的磁性材料145的掺杂比例的变化可以依据蒸镀掩膜板200的中间区域的下垂量与边缘区域的下垂量的变化进行设计。例如，当蒸镀掩膜板200的中间区域的下垂量与边缘区域的下垂量的变化呈现线性变化时，沿靠近显示面板100的中心的方向上，支撑柱140内的磁性材料145的掺杂比例也呈现相适应的线性变化。再例如，当蒸镀掩膜板200的中间区域的下垂量与边缘区域的下垂量的变化呈现非线性变化时，沿靠近显示面板100的中心的方向上，支撑柱140内的磁性材料145的掺杂比例也呈现相适应的非线性变化。

例如，请结合参阅图7，可以根据靠近显示面板100的中心的距离将显示面板100分为I区域、II区域以及III区域，I区域、II区域以及III区域中的支撑柱140内的磁性材料145掺杂比例依次降低。

基于同一发明构思，请进一步参阅图8，示出了本申请实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图。应当理解，在其它实施例中，本实施例的显示面板的制备方法其中部分步骤的顺序可以根据实际需要相互交换，或者其中的部分步骤也可以省略或删除。下面结合图8以及图9a-图9e所示的附图对显示面板的制备方法的详细步骤介绍如下。

步骤S110，如图9a和9b所示，提供基板，并在基板上制备像素限定层130并在像素限定层130上形成多个像素开口131。

例如，基板可以包括阵列基板110和阳极层120，在提供基板时，可以先在阵列基板110上制备阳极层120。

步骤S120，如图9c所示，在像素限定层130上制备支撑柱140，支撑柱140具有磁性，位于显示面板100中心区域的支撑柱140的磁性可以大于位于显示面板100边缘区域的支撑柱140的磁性。

步骤S130，如图9d所示，使用蒸镀掩膜板200在像素开口131内形成发光单元150，其中，蒸镀掩膜板200的磁性和支撑柱140的磁性相斥。在一种可能的实施方式中，结合图9e所示，在步骤S120中，还可以进一步在所述像素限定层中130掺杂与蒸镀掩膜板200相互排斥的磁性材料135。

在一种可能的实施方式中，沿靠近蒸镀掩膜板200中心的方向上，蒸镀掩膜板的磁性可以逐渐增大。

可选地，在蒸镀完成后，对支撑柱14进行消磁，减小支撑柱14的磁性，从而减小因支撑柱14的磁性而对显示面板100的显示效果造成影响。

关于上述步骤的详细内容可以参照上述关于显示面板100的描述，此处不再一一赘述。

进一步地，基于同一发明构思，本申请实施例还可以提供一种显示装置，显示装置可以包括上述实施例的显示面板100。本实施例中，显示装置可以是手机、平板电脑、平板电视、电脑显示器等任何可以采用上述显示面板100的电子装置。

综上所述，本申请实施例提供的显示面板、显示面板的制备方法及显示装置，显示面板的像素限定层上远离阳极层的一面设置的支撑柱具有磁性，在制备显示面板的过程中，支撑柱与用于制作发光单元的蒸镀掩模具有相互排斥的磁性时，可以使得蒸镀掩模在支撑柱之后的蒸镀工艺过程中可以在排斥力的作用下与支撑柱始终保持一定的距离，避免蒸镀掩模划伤支撑柱，并且由于位于显示面板中心区域的支撑柱的磁性大于位于显示面板边缘区域的支撑柱的磁性，可以保证在蒸镀过程中蒸镀掩模与支撑柱之间的距离的均匀分布。如此，在后续进行显示面板封装时可以保证封装层的完整性，隔绝水氧入侵，进而保证显示面板的显示效果。

需要说明的是，在本文中，术语"包括"、"包含"或者其任何其它变体意在涵盖非排它性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其它要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句"包括一个……"限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制本申请的保护范围，而仅仅是表示本申请的选定实施例。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。此外，基于本申请的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下可获得的所有其它实施例，都应属于本申请保护的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

基板；

像素限定层，所述像素限定层位于所述基板上，所述像素限定层限定出多个像素开口，所述像素开口内设置有发光单元；

支撑柱，所述支撑柱位于所述像素限定层上远离所述基板的一面，所述支撑柱具有磁性；

其中，位于所述显示面板中心区域的所述支撑柱的磁性大于位于所述显示面板边缘区域的所述支撑柱的磁性，所述支撑柱的磁性与用于制作所述发光单元时所使用的蒸镀掩膜板的磁性相斥。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述支撑柱内掺杂有磁性材料。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，沿靠近所述显示面板的中心的方向上，所述支撑柱内的磁性材料掺杂比例逐渐增大。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层内掺杂有磁性材料。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述支撑柱在所述基板上的正投影和所述像素限定层内的磁性材料在所述基板上的正投影不重叠。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层内的磁性材料掺杂比例小于所述支撑柱内的磁性材料掺杂比例。

7.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述磁性材料包括镍、镍合金中的至少一种。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供基板，并在所述基板上制备像素限定层并在所述像素限定层上形成多个像素开口；

在所述像素限定层上制备支撑柱，所述支撑柱具有磁性，位于所述显示面板中心区域的所述支撑柱的磁性大于位于所述显示面板边缘区域的所述支撑柱的磁性；

使用蒸镀掩膜板在所述像素开口内形成发光单元，其中，所述蒸镀掩膜板的磁性和所述支撑柱的磁性相斥。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述基板上制备像素限定层的步骤，还包括：

在所述像素限定层中掺杂与所述蒸镀掩膜板相互排斥的磁性材料。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任意一项所述的显示面板。

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