CN112458424A - 用于双室磁控镀膜机的前处理室 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种用于双室磁控镀膜机的前处理室，用于双室磁控镀膜机的前处理室包括呈矩形的前处理仓，所述前处理仓具有用于容置承载有工件的承载架的处理腔室，所述前处理室能够与镀膜室连通，在所述处理腔室的内部设有四个加热组件，四个所述加热组件分设在所述处理腔室的四个角部。本发明提供的用于双室磁控镀膜机的前处理室有效提高了工件的镀膜效率及镀膜效果。

Description

用于双室磁控镀膜机的前处理室

技术领域

本发明涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种用于双室磁控镀膜机的前处理室。

背景技术

真空镀膜是目前较为前沿的镀膜技术，而真空镀膜中的磁控溅射镀膜法采用通过通电阳极放出电子，并使电子在电场的加速作用下与真空腔内的气体分子碰撞，从而使气体分子电离，而电离的气体分子又在电场的作用下轰击阴极上的金属粒子，使金属粒子电离溅射，并使得电离出来的金属离子沉积于靶材表面形成薄膜，其中为了使电子能够更加高效的与气体分子进行碰撞，从而提高气体分子电离率，采用在阴极内部装入磁铁形成磁控阴极，因此电子在电场及磁场的共同作用下，将会在真空腔内形成螺旋式轨迹来增加电子与气体分子的碰撞概率。但是在工件进行镀膜时，往往需要对其进行加热，现有的加热方法一般是采取将工件在镀膜室内一边加热一边镀膜或者先加热再进行镀膜，因而会导致工件镀膜的效率较低，而如若采取加热和镀膜同时进行则会使得工件的镀膜效果降低。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种用于双室磁控镀膜机的前处理室，旨在提高工件的镀膜效率及镀膜效果。

为实现上述目的，本发明提出的一种用于双室磁控镀膜机的前处理室包括呈矩形的前处理仓，所述前处理仓具有用于容置承载有工件的承载架的处理腔室，所述前处理室能够与镀膜室连通，在所述处理腔室的内部设有四个加热组件，四个所述加热组件分设在所述处理腔室的四个角部。

在一实施例中，所述加热组件包括安装在所述前处理仓内壁面上的旋转板以及安装在所述旋转板上的加热板，所述旋转板与所述前处理仓的内壁面倾斜设置。

在一实施例中，所述前处理仓上设有与外界连通并用于从外界接受所述承载架的进入口，所述前处理仓上设有门体组件，所述门体组件用于封闭或打开所述进入口。

在一实施例中，所述门体组件包括门盖以及铰链组件，所述铰链组件设置在所述前处理仓的外壁面上并与所述门盖，所述门盖靠近所述铰链组件的一侧能够在所述铰链组件的作用下旋转以打开或封闭所述进入口。

在一实施例中，所述以及门锁组件，所述门锁组件设置在所述前处理仓的外壁面上并与所述门盖远离所述铰链组件的一侧连接以将所述门盖锁紧在所述前处理仓的外壁面上。

在一实施例中，所述处理腔室的底壁和顶壁上分别设置有第一固定组件以及第二固定组件，所述第一固定组件和所述第二固定组件相对设置，所述第一固定组件和所述第二固定组件用于将流转至所述处理腔室内的所述承载架进行固定。

在一实施例中，所述处理腔室的底部设置有多个间隔设置的辊道。

在一实施例中，所述第一固定组件包括第一驱动件、设置于所述辊道上方并与所述第一驱动件连接的第一旋转盘以及设置在所述第一旋转盘的轴心处的伸缩固定轴，所述承载架的轴心处开设有用于供所述伸缩定位轴插入的定位孔，所述伸缩定位轴能够沿靠近或远离所述承载架的方向移动，所述第一驱动件用于驱动所述第一旋转盘饶所述第一驱动件的输出轴的延伸方向旋转。在一实施例中，所述第一固定组件还包括伸缩电机，所述伸缩电机设置在所述前处理仓上并与所述第一旋转盘连接。

在一实施例中，所述第二固定组件包括第二驱动件以及第二旋转盘，所述第二旋转盘能够抵接在所述承载架的上壁面上，所述第二驱动件与所述第二旋转盘连接以驱动所述第二旋转盘绕所述第二驱动件的输出轴的延伸方向旋转。

本发明的技术方案中，首先通过另外增设一前处理室，使得前处理室和镀膜室连通，并且将承载有工件的承载架先流入前处理仓的处理腔室内，而由于处理腔室的内部的四个角部设置有四个加热组件，因此工件能够先在处理腔室内进行加热，再加热过后再流入镀膜室内，因此在镀膜室内只需要进行镀膜操作即可，从而可以极大地提升工件的镀膜效率，并且有效避免了再镀膜室内加热和镀膜同时进行的情况，使得工件在流入镀膜室时，已进行加热，从而能够保证后续镀膜时的镀膜效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明实施例的用于双室磁控镀膜机的前处理室的结构示意图；

图2为本发明实施例的用于双室磁控镀膜机的前处理室的侧面内部结构图。

附图标号说明：10、前处理仓；11、处理腔室；12、进入口；20、承载架；21、定位孔；30、加热组件；31、旋转板；32、加热板；40、门盖；50、铰链组件；60、门锁组件；70、辊道；80、第一固定组件；81、第一驱动件；82、第一旋转盘；83、伸缩固定轴；84、伸缩电机；90、第二固定组件；91、第二驱动件；92、第二旋转盘。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

并且，本发明各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

本发明提供一种用于双室磁控镀膜机的前处理室。

如图1-2所示，本发明实施例提供的用于双室磁控镀膜机的前处理室包括呈矩形的前处理仓10，所述前处理仓10具有用于容置承载有工件的承载架20的处理腔室11，所述前处理室能够与镀膜室连通，在所述处理腔室11的内部设有四个加热组件30，四个所述加热组件30分设在所述处理腔室11的四个角部。

在本实施例中，首先通过另外增设一前处理室，使得前处理室和镀膜室连通，并且将承载有工件的承载架20先流入前处理仓10的处理腔室11内，而由于处理腔室11的内部的四个角部设置有四个加热组件30，因此工件能够先在处理腔室11内进行加热，再加热过后再流入镀膜室内，因此在镀膜室内只需要进行镀膜操作即可，从而可以极大地提升工件的镀膜效率，并且有效避免了再镀膜室内加热和镀膜同时进行的情况，使得工件在流入镀膜室时，已进行加热，从而能够保证后续镀膜时的镀膜效果。

进一步地，所述加热组件30包括安装在所述前处理仓10内壁面上的旋转板31以及安装在所述旋转板31上的加热板32，所述旋转板31与所述前处理仓10的内壁面倾斜设置。在本实施例中，可根据承载架20的形状或承载架20上搭载的工件的不同，对旋转板31的倾斜程度进行调节，使得四个加热板32能够高效地对工件进行加热，以提高其适应性能。

另外，所述前处理仓10上设有与外界连通并用于从外界接受所述承载架20的进入口12，所述前处理仓10上设有门体组件，所述门体组件用于封闭或打开所述进入口12。在本实施例中，在需要流入承载架20时，可将门体组件打开，使得进入口12与外界连通，令承载架20流入处理腔室11内，随后可通过门体组件封闭进入口12，使得通过加热组件30加热的热量不会挥发，以保证加热效果。

具体地，所述门体组件包括门盖40以及铰链组件50，所述铰链组件50设置在所述前处理仓10的外壁面上并与所述门盖40，所述门盖40靠近所述铰链组件50的一侧能够在所述铰链组件50的作用下旋转以打开或封闭所述进入口12。在本实施例中，通过铰链组件50与门盖40连接，使得门盖40能够通过铰链组件50进行旋转，提高了门盖40在打开和关闭时的流畅性。

同时，所述以及门锁组件60，所述门锁组件60设置在所述前处理仓10的外壁面上并与所述门盖40远离所述铰链组件50的一侧连接以将所述门盖40锁紧在所述前处理仓10的外壁面上。因此可在将门盖40关闭进入口12时，通过门锁组件60将门盖40扣紧，以提高其密封性能。

另外，所述处理腔室11的底壁和顶壁上分别设置有第一固定组件80以及第二固定组件90，所述第一固定组件80和所述第二固定组件90相对设置，所述第一固定组件80和所述第二固定组件90用于将流转至所述处理腔室11内的所述承载架20进行固定。当承载有工件的承载架20在处理腔室11内时，分别位于承载架20上方和下方的第一固定组件80和第二固定组件90分别对承载架20的上下两侧进行固定，从而能够对承载架20进行固定，因此在加热的过程中，承载架20能够稳定地承载工件进行加热，提升了稳定性，能够防止承载架20晃动，从而使得工件的加热比较均匀，以提高后续的镀膜效果。

其中，所述处理腔室11的底部设置有多个间隔设置的辊道70，多个辊道70沿承载架20的流入方向均匀间隔布置，承载架20在外部流转至处理腔室11内时，通过辊道70进行传输，能够更为方便地对承载架20进行流转。

在一实施例中，所述第一固定组件80包括第一驱动件81、设置于所述辊道70上方并与所述第一驱动件81连接的第一旋转盘82以及设置在所述第一旋转盘82的轴心处的伸缩固定轴83，所述承载架20的轴心处开设有用于供所述伸缩定位轴插入的定位孔21，所述伸缩定位轴能够沿靠近或远离所述承载架20的方向移动，所述第一驱动件81用于驱动所述第一旋转盘82饶所述第一驱动件81的输出轴的延伸方向旋转。当承载架20流转至第一旋转盘82上后，伸缩定位轴能够插入至承载架20的定位孔21内，从而在第一旋转盘82带动承载架20旋转加热时，承载架20不会发生脱落。

进一步地，所述第一固定组件80还包括伸缩电机84，所述伸缩电机84设置在所述前处理仓10上并与所述第一旋转盘82连接。当伸缩定位轴插入至承载架20的定位孔21内时，可通过伸缩电机84带动第一旋转盘82沿靠近第二固定组件90的方向移动，从而通过第二固定组件90和第一固定组件80两者同时固定承载架20。

同时，所述第二固定组件90包括第二驱动件91以及第二旋转盘92，所述第二旋转盘92能够抵接在所述承载架20的上壁面上，所述第二驱动件91与所述第二旋转盘92连接以驱动所述第二旋转盘92绕所述第二驱动件91的输出轴的延伸方向旋转。因此，在第二旋转盘92和第一旋转盘82分别压接在承载架20的上下两端时，可有效保证承载架20加热时的稳定性。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述用于双室磁控镀膜机的前处理室包括呈矩形的前处理仓，所述前处理仓具有用于容置承载有工件的承载架的处理腔室，所述前处理室能够与镀膜室连通，在所述处理腔室的内部设有四个加热组件，四个所述加热组件分设在所述处理腔室的四个角部。

2.根据权利要求1所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述加热组件包括安装在所述前处理仓内壁面上的旋转板以及安装在所述旋转板上的加热板，所述旋转板与所述前处理仓的内壁面倾斜设置。

3.根据权利要求1所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述前处理仓上设有与外界连通并用于从外界接受所述承载架的进入口，所述前处理仓上设有门体组件，所述门体组件用于封闭或打开所述进入口。

4.根据权利要求3所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述门体组件包括门盖以及铰链组件，所述铰链组件设置在所述前处理仓的外壁面上并与所述门盖，所述门盖靠近所述铰链组件的一侧能够在所述铰链组件的作用下旋转以打开或封闭所述进入口。

5.根据权利要求4所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述以及门锁组件，所述门锁组件设置在所述前处理仓的外壁面上并与所述门盖远离所述铰链组件的一侧连接以将所述门盖锁紧在所述前处理仓的外壁面上。

6.根据权利要求5所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述处理腔室的底壁和顶壁上分别设置有第一固定组件以及第二固定组件，所述第一固定组件和所述第二固定组件相对设置，所述第一固定组件和所述第二固定组件用于将流转至所述处理腔室内的所述承载架进行固定。

7.根据权利要求6所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述处理腔室的底部设置有多个间隔设置的辊道。

8.根据权利要求7所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述第一固定组件包括第一驱动件、设置于所述辊道上方并与所述第一驱动件连接的第一旋转盘以及设置在所述第一旋转盘的轴心处的伸缩固定轴，所述承载架的轴心处开设有用于供所述伸缩定位轴插入的定位孔，所述伸缩定位轴能够沿靠近或远离所述承载架的方向移动，所述第一驱动件用于驱动所述第一旋转盘饶所述第一驱动件的输出轴的延伸方向旋转。

9.根据权利要求8所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述第一固定组件还包括伸缩电机，所述伸缩电机设置在所述前处理仓上并与所述第一旋转盘连接。

10.根据权利要求9所述的用于双室磁控镀膜机的前处理室，其特征在于，所述第二固定组件包括第二驱动件以及第二旋转盘，所述第二旋转盘能够抵接在所述承载架的上壁面上，所述第二驱动件与所述第二旋转盘连接以驱动所述第二旋转盘绕所述第二驱动件的输出轴的延伸方向旋转。

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