CN112385314B - 显示设备、显示设备的制造方法及显示设备的制造装置 - Google Patents
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Abstract
显示设备(1)具备依次层叠的多个像素电极(4)、功能层(6)、和所述多个像素电极共用的共用电极(8)。所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部(4E)的至少一部分重叠的位置中具备厚膜部(6T),该厚膜部(6T)在俯视观察时具有比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚(d2)大的膜厚(d1)。
Description
技术领域
本发明涉及一种具备发光元件的显示设备。
背景技术
专利文献1中公开了通过在与像素电极的端部重叠的位置另外具备绝缘层,从而降低像素电极的端部中的电场集中的显示装置。
现有技术
专利文献
日本公开专利公报“特开2008-77953号”
发明内容
发明所要解决的技术问题
在专利文献1所记载的技术中,为了形成所述绝缘层,显示装置的制造工序被复杂化。
用于解决技术问题的方案
为了解决上述问题,本发明的显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中具备厚膜部,该厚膜部在俯视观察时具有比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚。
另外,为了解决上述问题,本发明的显示设备的制造方法为具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极的显示设备的制造方法,所述显示设备的制造方法具备用于形成所述功能层的功能层形成工序,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中，具有俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚。
另外,为了解决上述问题,本发明的显示设备的制造装置是具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极的显示设备的制造装置，所述显示设备的制造装置具备用于形成所述功能层的成膜装置,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中,具有俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚。
发明效果
通过上述构成,能够提供减少制造工序的复杂化、并且减少像素电极的端部中的电场集中的显示设备。
附图说明
图1为本发明的第一实施方式涉及的显示设备的概略俯视图及概略剖视图。
图2为用于说明本发明的第一实施方式涉及的显示设备的制造方法的流程图。
图3为用于说明本发明的第一实施方式涉及的显示设备的功能层的制造方法的一个例子的流程图。
图4为用于说明本发明的第一实施方式涉及的显示设备的功能层的制造方法的一个例子的工序剖视图。
图5为用于说明本发明的第一实施方式涉及的显示设备的功能层的制造方法的其他例子的流程图。
图6为用于说明本发明的第一实施方式涉及的显示设备的功能层的制造方法的其他例子的工序剖视图。
图7为本发明的第二实施方式涉及的显示设备的概略剖视图。
图8为本发明的第三实施方式涉及的显示设备的概略剖视图。
图9为用于说明本发明的第三实施方式涉及的显示设备的功能层的制造方法的一个例子的流程图。
图10为用于说明本发明的第三实施方式涉及的显示设备的功能层的制造方法的一个例子的工序剖视图。
图11为本发明的第四实施方式涉及的显示设备的概略剖视图。
图12为本发明的各实施方式涉及的显示设备的制造装置的框图。
具体实施方式
〔第一实施方式〕
图1的(a)是本实施方式涉及的显示设备1的概略俯视图。图1的(b)为图1的(a)的区域A的放大图,图1的(c)为图1的(b)的B-B线向视剖视图。此外,为了简化图示,在图1的(b)中,未进行后面详述的共用电极8的图示。
如图1的(a)所示,本实施方式涉及的显示设备1具备有助于显示的显示区域DA和包围该显示区域DA周围的边框区域NA。在边框区域NA中,也可以形成有端子T,所述端子T被输入用于驱动后面详述的显示设备1的发光元件的信号。
如图1的(c)所示,在俯视观察时与显示区域DA重叠的位置中,本实施方式涉及的显示设备1具备形成有未图示的TFT(Thin Film Transistor:薄膜晶体管)的阵列基板2。另外,显示设备1在阵列基板2上具备依次层叠的多个像素电极4、功能层6以及多个像素电极4共用的共用电极8。另外,在本说明书中,将从显示设备1的像素电极4向共用电极8的方向记载为“上方向”。
像素电极4在阵列基板2上呈岛状地形成多个,并与阵列基板2所具备的TFT分别电连接。共用电极8隔着功能层6与多个像素电极4对置,对多个像素电极4共用地形成。由像素电极4至共用电极8的各层，为多个像素电极4的每一个形成发光元件,通过驱动阵列基板2所具备的TFT来驱动发光元件。该发光元件的每一个也可以形成图1的(b)和(c)所示的子像素SP。另外,多个像素电极4也可以是阳极,共用电极8也可以是阴极。进一步,像素电极4也可以是阴极,共用电极8也可以是阳极。
功能层6由多个层构成,在阵列基板2以及像素电极4上具备依次层叠的第一功能层10、第二功能层12以及第三功能层14。在本实施方式中,功能层6的各层对多个像素电极4共用地形成。
第一功能层10也可以是将来自作为阳极的像素电极4的空穴向第二功能层12传输的空穴传输层。第三功能层14也可以是将来自作为阴极的共用电极8的电子传输至第二功能层12的电子传输层。第二功能层12也可以是通过从像素电极4和共用电极8传输的空穴和电子的重新结合而发出光的发光层。但是,在像素电极4为阴极、共用电极8为阳极的情况下,第一功能层10可以是电子传输层,第三功能层14也可以是空穴传输层。
在本实施方式中,第一功能层10和第二功能层12具有大致均匀的膜厚。另一方面,第三功能层14具备膜厚比周围大的凸部14C。因此,功能层6在俯视观察时与凸部14C重叠的位置处具备膜厚比功能层6的其他位置大的厚膜部6T。
如图1的(b)所示,厚膜部6T即形成于在俯视观察时包括与用虚线表示的像素电极4的端部4E重叠的位置的位置处。特别是,在本实施方式中,厚膜部6T形成在俯视观察时与像素电极4的端部4E的全周重叠的位置。
在本实施方式中,通过第三功能层14具备凸部14C,从而形成功能层6的厚膜部6T。但是,不限于此,在本实施方式中,通过功能层6的各层中的至少一层具备凸部,从而形成功能层6的厚膜部6T即可。例如,也可以取代第三功能层14,第一功能层10或第二功能层12具备凸部。
另外,在本实施方式中,凸部14C的形状也可以传播至第三功能层14的上层的形状。例如,如图1的(c)所示,凸部14C的形状可以传播到共用电极8的形状,共用电极8也可以在俯视观察时的、与厚膜部6T重叠的位置具有凸部8C。
在此,将从像素电极4的端部的上表面到共用电极8的下表面为止的功能层的膜厚设为d1,将从像素电极4的中心部的上表面到共用电极8的下表面为止的功能层的膜厚设为d2。在本实施方式中,由于厚膜部6T在俯视观察时形成于与像素电极4的端部重叠的位置,因此d1大于d2。因此,在功能层6中，在俯视观察时的与多个像素电极4的端部的至少一部分重叠的位置的膜厚比在俯视观察时的与多个像素电极4的中心部重叠的位置的膜厚大。
参照图2的流程图说明本实施方式所涉及的显示设备1的制造方法。
首先,形成阵列基板2(步骤S1)。阵列基板2可以通过以往公知的方法形成,也可以形成在未图示的大张母玻璃基板上。接着,形成多个像素电极4(步骤S2)。在步骤S2中,可以通过溅射法等形成金属膜,并用光刻法通过该金属膜的蚀刻进行图案化,得到多个像素电极4。
接着,从下层开始依次形成第一功能层10、第二功能层12以及第三功能层14(步骤S3～S5)。其中,不具有厚膜部的第一功能层10和第二功能层12也可以通过以往公知的方法形成。
在此,关于具有凸部14C的第三功能层14的制造方法的一个例子,使用图3所示的流程图和图4所示的工序剖视图进行说明。图3的流程图表示使用正型的感光性材料14A形成第三功能层14的方法。此外,包括图4的本说明书中的工序剖视图都是与图1的(c)对应的位置的工序剖视图。
图4的(a)表示到步骤S4为止制造工序完成的情况。如图4的(b)所示,从该状态将感光性材料14A涂布于第二功能层12上(步骤S11)。此时,以膜厚成为凸部14C中的第三功能层14的膜厚以上的方式涂布感光性材料14A。
接着,如图4的(c)所示,将光掩膜PM配置在感光性材料14A的上方(步骤S12)。光掩膜PM具备具有遮光性的第一部PM1和遮光性比第一部PM1低的第二部PM2。第二部PM2也可以是光掩膜PM的开口。在步骤S12中,以形成凸部14C的位置与第一部PM1重叠的方式配置光掩膜PM。
接着,如图4的(c)所示,隔着光掩膜PM对感光性材料14A进行光照射。由此,透过了光掩膜PM的光被照射到感光性材料14A的一部分,被照射了光的感光性材料14A变质,获得对于特定的显影液的溶解性。
接着,通过用适当的显影液清洗感光性材料14A,得到图4的(d)所示的具备凸部14C的第三功能层14。由此,完成使用光刻法的第三功能层14的形成工序。此时,功能层6的厚膜部6T也一并形成。接着,通过执行共用电极8的形成(步骤S6),得到图1所示的显示设备1。
此外,上述的光刻也可以用于功能层6的第三功能层14以外的层的形成。特别是,在第二功能层是针对多个像素电极4的每一个形成的岛状的发光层的情况下,能够通过光刻法实现发光层的图案化。另外,也可以通过更换光掩膜PM的第一部PM1与第二部PM2的位置,由负型的感光性材料14A形成第三功能层14。
另外,也可以是,首先,形成在除了凸部14C以外的位置处具有大致均匀的膜厚的共用部,进一步涂布相当于凸部14C的膜厚的感光性材料,并执行光刻,由此形成步骤S5。
接着,使用图5所示的流程图和图6所示的工序剖视图对具有凸部14C的第三功能层14的制造方法的其他例进行说明。图3的流程图表示通过使用了蒸镀掩模的蒸镀法形成第三功能层14的方法。
图6的(a)表示到步骤S4为止制造工序完成的情况。将该层叠体载置在真空室内,将未图示的共用部形成用的蒸镀掩模配置在第二功能层12的上方(步骤S21)。共用部形成用的蒸镀掩模具备与显示区域DA对应的开口,在步骤S21中,被配置于该开口和显示区域DA重叠的位置。
接着,在真空室内,通过使蒸镀材料从坩埚蒸发等方法,在第二功能层12上形成如图6的(b)所示的共用部14B(步骤S22)。共用部14B具有第三功能层14中除了凸部14C以外的位置处的膜厚。
接着,去除共用部形成用的蒸镀掩模,取而代之,将图6(c)所示的厚膜部形成用的蒸镀掩模DM配置于共用部14B的上方(步骤S23)。蒸镀掩模DM具备多个开口H。在步骤S23中,以形成凸部14C的位置和开口H重叠的方式配置蒸镀掩模DM。
接着,通过使蒸镀材料再次蒸发,如图6的(c)所示,执行隔着蒸镀掩模DM的蒸镀(步骤S24)。此时,在共用部14B上的、与开口H重叠的位置处,形成图6的(d)所示的凸部14C。由此,使用了蒸镀法的第三功能层14的形成工序完成。此时,功能层6的厚膜部6T也一并形成。接着,通过执行共用电极8的形成(步骤S6),得到图1所示的显示设备1。
此外,上述的蒸镀法也可以用于功能层6的第三功能层14以外的层的形成。特别是在第二功能层是针对多个像素电极4的每一个形成的岛状的发光层的情况下,可以通过使用了在与像素电极4对应的位置具备开口图案的蒸镀掩模的蒸镀法来实现发光层的图案化。
在此,在通过上述的各制造方法得到的层叠体形成于大张母玻璃基板上的情况下,可以通过与母玻璃基板一起切断该层叠体,将该层叠体单片化为各个显示设备1。另外,也可以通过将显示设备1从母玻璃基板剥离并贴附基材膜等来实现柔性的显示设备1。
本实施方式的显示设备1在俯视观察时与多个像素电极4的端部的至少一部分重叠的位置具有厚膜部6T。由此,多个像素电极4的端部与共用电极8的距离比多个像素电极4的中心部与共用电极8的距离长。因此,改善了发光元件的驱动时的各像素电极4的端部的电场集中。
另外,本实施方式的显示设备1通过在制造工序中在功能层6形成厚膜部6T而得到。因此,本实施方式的显示设备1在制造工序中不需要另外形成绝缘层的工序。因此,能够减少为了解决上述电场集中而制造工序繁琐化的问题。
特别是,在本实施方式中,能够通过光刻或蒸镀法等的、作为形成其他功能层6的各层的方法而能够采用的方法形成具有凸部14C的第三功能层14。因此,能够通过与具备厚膜部的第三功能层14的形成方法相同的形成方法来形成功能层6的多个层中的不具备厚膜部的第一功能层10或第二功能层12。
而且,在本实施方式中,厚膜部6T形成在俯视观察下与各像素的端部的全周重叠的位置。因此,上述各像素电极的端部处的电场集中不会集中在各像素电极的端部的位置而大致均匀地得到改善。
〔第二实施方式〕
图7为本实施方式涉及的显示设备1的、对应于图1的(c)的位置的剖视图。本实施方式涉及的显示设备1与前实施方式的显示设备1相比,不同点在于，第一功能层10具备膜厚比周围大的凸部10C。
另外,在本实施方式中,由于凸部10C的形状传播到第二功能层12以及第三功能层14的形状,因此,在俯视观察时与凸部10C重叠的位置中,第二功能层具有凸部12C,第三功能层具有凸部14C。其结果,功能层6在俯视观察时与凸部14C重叠的位置具备厚膜部6T。
除上述点之外,本实施方式涉及的显示装置1与前实施方式涉及的显示装置1相比,具有相同的构成。本实施方式的第一功能层10也可以通过与前实施方式的第三功能层14相同的方法来形成。
在本实施方式中,与厚膜部6T重叠的位置的像素电极4与共用电极8之间的距离比不与厚膜部6T重叠的位置的像素电极4与共用电极8之间的距离长。因此,在本实施方式涉及的显示设备1中,也与前实施方式所涉及的显示设备1相同的,改善了发光元件的驱动时的各像素电极4的端部的电场集中。
特别是,在本实施方式中,作为与像素电极4接触的层的第一功能层10具备凸部10C。通常,最容易受到各像素电极4的端部中的电场集中的影响的层是与该像素电极4接触的层。因此,本实施方式涉及的显示设备1能够更有效地解决上述电场集中的技术问题。
〔第三实施方式〕
图8为本实施方式涉及的显示设备1的、对应于图1的(c)的位置的剖视图。本实施方式涉及的显示设备1与前实施方式的显示设备1相比,不同点在于，具备凸部10C的第一功能层10在俯视观察时以包含与各像素电极重叠的位置的方式、岛状地形成。
如图8所示,具备凸部10C的第一功能层10是岛状功能层,在各子像素中层构造被截断的情况下,作为第一功能层10的制造方法,能够采用电沉积法。
在此,使用图9所示的流程图和图10所示的工序剖视图来说明用于将具有凸部10C的第一功能层10形成为岛状的电沉积法的一个例子。
首先,如图10的(a)所示,将阵列基板2和像素电极4浸渍于溶解了第一功能层10的材料的电沉积槽中的溶液S(步骤S31)。此外,在步骤S31之前,例如也可以通过对阵列基板2以及像素电极4的上表面照射紫外线来执行阵列基板2以及像素电极4的亲水化处理。
在此,第一功能层10的材料具有官能团,该官能团带正电或负电的任一种。在本实施方式中,将第一功能层10的材料的官能团带电的极性视作第一功能层10的材料的极性。
在该状态下,执行第一功能层10的电沉积,使第一功能层10的材料吸附于像素电极4(步骤S32)。在步骤S32中,首先,将多个像素电极4中的一部分作为第一像素电极4A,对第一像素电极4A施加电压,施加与溶液S的材料的极性相反的极性的电压。电压的施加也可以经由阵列基板2的TFT进行。
这里,可以将除第一像素电极4A以外的像素电极4作为第二像素电极4B,对第二像素电极4B施加与溶液S的材料的极性相同极性的电压。本实施方式中,优选地，以最接近的像素电极之间必然成为第一像素电极4A和第二像素电极4B的组的方式,选择第一像素电极4A和第二像素电极4B。
通过上述的电压施加,如图10(b)所示,在第一像素电极4A和第二像素电极4B之间产生电场。即,本实施方式中的电沉积工序是使用在第一像素电极4A和第二像素电极4B之间产生的电场的横向电场电沉积。在本实施方式的情况下,由于库仑相互作用,溶液S的材料发生泳动,溶液S的材料吸附于第一像素电极4A。因此,如图10的(b)所示,仅在第一像素电极4A形成第一功能层10。
此时,在与第二像素电极4B的距离短的第一像素电极4A的端部,产生电场集中。在电场集中的第一像素电极4A的端部吸附比第一像素电极4A的中央部多的溶液S的材料。因此,如图4的(b)所示,在各第一像素电极4A的端部形成凸部10C。另外,在不存在像素电极4的阵列基板2的上表面不产生材料的吸附,因此，第一功能层10针对每个第一像素电极4A形成为岛状。
接着,将分别施加于第一像素电极4A和第二像素电极4B的电压的极性调换。由此,如图10的(c)所示,在第二像素电极4B产生溶液S的材料的吸附,并在第二像素电极4B形成第一功能层10。出于与上述相同的理由,在第二像素电极4B上的第一功能层10中,也形成凸部10C,且第一功能层10针对每个第二像素电极4B形成为岛状。
接着,如图10的(d)所示,从溶液S中取出形成有第一功能层10的基板,例如通过正己烷等进行清洗(步骤S33)。由此,用于形成第一功能层10的电沉积工序完成。步骤S4以后的各步骤可以通过上述各实施方式中所示的方法形成。
出于与上述相同的理由,根据本实施方式的显示装置1在各像素电极4的端部处的电场集中得到改善。进而,在本实施方式中,通过使用了第一像素电极4A和第二像素电极4B的横向电场电沉积来形成第一功能层10。因此,能够同时执行第一功能层10的凸部10C的形成和第一功能层10的图案化,并且,无需另外准备对置电极就能够执行电沉积工序。因此,能够更有效地降低显示设备1的制造工序的复杂化。
另外,在本实施方式中,通过使用第一像素电极4A和第二像素电极4B的横向电场电沉积,形成了第一功能层10,除此之外,也可以进一步细分像素电极4进行电沉积，例如第三像素电极或者第四像素电极等。例如,也可以逐一选择吸附材料的像素电极4来实施电沉积工序。
需要说明的是,本说明书中的“电沉积”包括通过在溶液中使两电极间产生电位差而将由该溶液中的材料构成的薄膜成膜的方法。本说明书中的“电沉积”例如可以包含电沉积法、电沉积涂装法、泳动堆积法、电镀或电铸等方法。即使在选择这些方法中的任一种方法作为上述电沉积工序的情况下,也能够制造起到上述效果的显示设备1。
进一步,在本实施方式中,与前实施方式相同的,作为与像素电极4接触的层的第一功能层10具备凸部10C。因此,本实施方式涉及的显示设备1能够更有效地解决上述电场集中的技术问题。此外,在本实施方式中,第一功能层10针对每个像素电极4形成为岛状。因此,能够降低相邻的像素电极4彼此经由第一功能层10而短路。
〔第四实施方式〕
图11为本实施方式涉及的显示设备1的、对应于图1的(c)的位置的剖视图。本实施方式涉及的显示设备1中，不同点在于，第二功能层12具备膜厚比周围大的凸部12C。进一步，本实施方式涉及的显示设备1中，第二功能层12在俯视观察时在与各像素电极重叠的位置处岛状地形成，第一功能层10对多个像素电极共用地形成。
除了上述点之外，本实施方式涉及的显示设备1具备与前实施方式涉及的显示设备1的相同的构成。此外，本实施方式中，如图11所示，第一功能层10可以具有大致均匀地膜厚。
本实施方式的第二功能层12也可以通过与前实施方式的第一功能层10相同的方法来形成。例如，在形成第一功能层10之后，可以通过前实施方式中说明的横电场电沉积来形成第二功能层12。由此，能够同时执行第二功能层12的凸部12C形成和第二功能层12的图案化,并且,无需另外准备对置电极就能够执行电沉积工序。
出于与上述相同的理由,根据本实施方式的显示装置1在各像素电极4的端部处的电场集中得到改善。另外，本实施方式中，第二功能层12位发光层的情况下，在针对子像素的每个颜色进行发光层的图案化的工序中,可以一并形成凸部12C。因此,能够更有效地降低显示设备1的制造工序的复杂化。
在该情况下,也可以是,在将基板浸渍于某一材料的溶液的状态下电沉积第二功能层12的一部分,在从溶液提起基板并进行清洗之后,在将基板浸渍于其它材料的溶液的状态下电沉积第二功能层12的另一部分。通过反复进行直至形成全部的第二功能层12为止,能够与第二功能层12的图案化一并形成凸部12C。
图12为表示在上述各实施方式中的显示设备1的制造工序中使用的显示设备的制造装置20的框图。显示设备的制造装置20具备控制器22和成膜装置24。控制器22也可以控制成膜装置24。成膜装置24也可以执行显示设备1的各层的成膜。
特别是,成膜装置24也可以具备能够执行感光性材料的涂布、感光及显影的光刻装置。另外,成膜装置24也可以具备蒸镀装置。进一步,成膜装置24也可以具备电沉积槽及电沉积装置。
上述各实施方式涉及的显示设备1也可以具备显示面板,该显示面板具有柔软性,并具备能弯曲的显示元件。上述显示元件有,通过电流来控制亮度和透过率的显示元件、和通过电压来控制亮度和透过率的显示元件。
例如,上述各实施方式的显示设备1也可以具备OLED(Organic Light EmittingDiode:有机发光二极管)作为电流控制的显示元件。在该情况下,本实施方式涉及的显示设备可以是有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示器。
或者,上述各实施方式涉及的显示设备1也可以具备无机发光二极管作为电流控制的显示元件。在该情况下,本实施方式涉及的显示设备也可以是无机EL显示器等的EL显示器、具备QLED(Quantum dot Light Emitting Diode:量子点发光二极管)的QLED显示器。
另外,作为电压控制的显示元件,有液晶显示元件等。
〔总结〕
第一方面的显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中具备厚膜部,该厚膜部在俯视观察时具有比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚。
第二方面中，所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的全周重叠的位置处具备所述厚膜部。
第三方面中，所述功能层由多个层构成，所述多个层的至少一层具有膜厚比周围大的凸部，在俯视观察时的与所述厚膜部重叠的位置处具备所述凸部。
在第四方面中，具备与所述多个像素电极接触的第一功能层作为所述多个层的一层，该第一功能层具备所述凸部。
在第五方面中,针对所述多个像素电极的每一个呈岛状具备多个岛状功能层作为所述多个层的一层,所述多个岛状功能层具备所述凸部。
在第六方面中，所述多个岛状功能层与所述多个像素电极接触。
在第七方面中，所述多个岛状功能层是发光层。
第八方面的显示设备的制造方法为具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极的显示设备的制造方法,所述显示设备的制造方法具备用于形成所述功能层的功能层形成工序,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中，具有俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚。
在第九方面中，所述功能层形成工序具备电沉积工序，在所述电沉积工序中，使用电沉积法来形成所述功能层的至少一部分。
在第十方面中，所述电沉积工序中执行横电场电沉积，该横电场电沉积中使用所述多个像素电极的一部分和所述多个像素电极的另一部分之间产生的电场。
在第十一方面中，所述功能层形成工序中具备光刻工序，该光刻工序中，通过使用光掩模的光刻来形成所述功能层的至少一部分。
在第十二方面中，所述功能层形成工序中具备蒸镀工序，该蒸镀工序中，通过使用蒸镀掩膜的蒸镀法来形成所述功能层的至少一部分。
第十三方面的显示设备的制造装置是具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极的显示设备的制造装置，所述显示设备的制造装置具备用于形成所述功能层的成膜装置,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中,具有俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚。
本发明不限于上述各实施方式，能在权利要求所示的范围中进行各种变更，将在不同的实施方式中分别公开的技术手段适当组合而得到的实施方式也包含于本发明的技术范围。而且，能够通过组合各实施方式分别公开的技术方法来形成新的技术特征。
附图标记说明
1显示设备
4 显示电极
6 功能层
6T 厚膜部
8 共用电极
20 显示设备的制造装置
Claims (13)
1.一种显示设备，其具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极,所述显示设备的特征在于，
所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中具备厚膜部,该厚膜部在俯视观察时具有比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚,
所述功能层共同重叠在所述多个像素电极上。
2.如权利要求1所述的显示设备，其特征在于，
所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的全周重叠的位置处具备所述厚膜部。
3.如权利要求1或2所述的显示设备，其特征在于，
所述功能层由多个层构成，所述多个层的至少一层具有膜厚比周围大的凸部，在俯视观察时的与所述厚膜部重叠的位置处具备所述凸部。
4.如权利要求3所述的显示设备，其特征在于，
具备与所述多个像素电极接触的第一功能层作为所述多个层的一层，该第一功能层具备所述凸部。
5.如权利要求3所述的显示设备，其特征在于，
针对所述多个像素电极的每一个呈岛状具备多个岛状功能层作为所述多个层的一层,所述多个岛状功能层具备所述凸部。
6.如权利要求5所述的显示设备，其特征在于，
所述多个岛状功能层与所述多个像素电极接触。
7.如权利要求5或6所述的显示设备，其特征在于，
所述多个岛状功能层是发光层。
8.一种显示设备的制造方法，所述显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极,其特征在于，
所述显示设备的制造方法具备用于形成所述功能层的功能层形成工序,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中，具有俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚，
所述功能层形成工序具备电沉积工序，在所述电沉积工序中，使用电沉积法来形成所述功能层的至少一部分，
在所述电沉积工序中执行横电场电沉积，该横电场电沉积中使用所述多个像素电极的一部分和所述多个像素电极的另一部分之间产生的电场,
所述功能层共同重叠在所述多个像素电极上。
9.一种显示设备的制造方法，所述显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极,其特征在于，
所述显示设备的制造方法具备用于形成所述功能层的功能层形成工序,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中，具有俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚，
在所述功能层形成工序中具备光刻工序，该光刻工序中，通过使用光掩模的光刻来形成所述功能层的至少一部分,
所述功能层共同重叠在所述多个像素电极上。
10.一种显示设备的制造方法，所述显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极,其特征在于，
所述显示设备的制造方法具备用于形成所述功能层的功能层形成工序,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中，具有俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚，
在所述功能层形成工序中具备蒸镀工序，该蒸镀工序中，通过使用蒸镀掩膜的蒸镀法来形成所述功能层的至少一部分,
所述功能层共同重叠在所述多个像素电极上。
11.一种显示设备的制造装置，所述显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极，所述显示设备的制造装置的特征在于，
所述显示设备的制造装置具备用于形成所述功能层的成膜装置,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中,具有在俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚,
所述成膜装置具备电沉积装置，所述电沉积装置使用电沉积法来形成所述功能层的至少一部分，
在所述电沉积装置执行横电场电沉积，该横电场电沉积中使用所述多个像素电极的一部分和所述多个像素电极的另一部分之间产生的电场,
所述功能层共同重叠在所述多个像素电极上。
12.一种显示设备的制造装置，所述显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极，所述显示设备的制造装置的特征在于，
所述显示设备的制造装置具备用于形成所述功能层的成膜装置,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中,具有在俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚,
所述成膜装置具备光刻装置，所述光刻装置使用光刻法来形成所述功能层的至少一部分,
所述功能层共同重叠在所述多个像素电极上。
13.一种显示设备的制造装置，所述显示设备具备依次层叠的多个像素电极、功能层以及所述多个像素电极所共用的共用电极，所述显示设备的制造装置的特征在于，
所述显示设备的制造装置具备用于形成所述功能层的成膜装置,所述功能层在俯视观察时的与所述多个像素电极的端部的至少一部分重叠的位置中,具有在俯视观察时比与所述多个像素电极的中心部重叠的位置的膜厚大的膜厚,
所述成膜装置具备蒸镀装置，所述蒸镀装置使用蒸镀法来形成所述功能层的至少一部分,
所述功能层共同重叠在所述多个像素电极上。
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