CN112379469A - 一种超构表面光学透镜和成像装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例涉及微纳光学及光学成像技术领域，特别涉及一种超构表面光学透镜和成像装置。本发明实施例提供一种超构表面光学透镜，包括介质衬底和设置于介质衬底的电介质纳米结构，其中，电介质纳米结构包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列，电介质纳米结构阵列包括至少一个电介质纳米柱，同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的结构一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的长轴尺寸和短轴一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱在介质衬底表面的面内角度一致。当不同偏振态的入射光经过超构表面光学透镜后，能在像侧实现多处聚焦。

Description

一种超构表面光学透镜和成像装置
技术领域
本发明实施例涉及微纳光学及光学成像技术领域，特别涉及一种超构表面光学透镜和成像装置。
背景技术
超构表面可以允许人们在二维平面进行光波的相位、幅值、偏振等进行任意的调控，赋予了设计新型光学元件极大自由度，超构透镜就是超构表面中的一种。超构透镜有着数值孔径大，重量轻，体积小等优点，其中数值孔径大有利于做成高分辨率的透镜，重量轻、体积小有利于集成到电子元器件上，降低设备重量，减小设备体积。然而在成像领域，我们往往需要变换相机的焦距，以达到满意的成像效果，但是一般的超构透镜或是传统透镜都只能实现单个焦点，无法多处聚焦成像。
发明内容
针对现有技术的上述缺陷，本发明实施例的目的是提供一种超构表面光学透镜，能够实现多处聚焦成像。
为解决上述技术问题，第一方面，本发明实施方式采用的一个技术方案是：提供一种超构表面光学透镜，包括：介质衬底和设置于所述介质衬底的电介质纳米结构；
所述电介质纳米结构包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列，所述电介质纳米结构阵列包括至少一个电介质纳米柱；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的纳米结构一致；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的长轴尺寸和短轴尺寸一致；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱在所述介质衬底表面的面内角度一致。
在一些实施例中，所述电介质纳米柱的高度一致。
在一些实施例中，所述介质衬底的厚度为0.5mm-5mm。
在一些实施例中，所述介质衬底为氧化铟锡导电玻璃、石英衬底、氧化硅衬底、硅衬底和金刚石衬底中的至少一种。
在一些实施例中，所述电介质纳米柱的高度为200nm-2000nm。
在一些实施例中，所述电介质纳米柱的结构为矩形纳米结构、v型纳米结构、不对称十字形纳米结构和工字形纳米结构的至少一种。
在一些实施例中，所述电介质纳米柱的材料为氧化钛、氧化铪、氧化硅、硅、金属银、金属金和氮化硅中的至少一种。
为解决上述技术问题，第二方面，本发明实施方式中提供了一种成像装置，包括如上述第一方面任一项所述的超构表面光学透镜。
在一些实施例中，所述成像装置还包括第一偏振片、第二偏振片；其中，所述第一偏振片、所述超构表面光学透镜和所述第二偏振片从物侧到像侧沿同一光轴依次设置，所述超构表面光学透镜的介质衬底侧靠近所述物侧，所述超构表面光学透镜的电介质纳米结构侧靠近所述像侧。
在一些实施例中，所述第一偏振片和所述第二偏振片均为圆形。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明实施例中提供了一种超构表面光学透镜和成像装置，所述超构表面光学透镜包括介质衬底和设置于介质衬底的电介质纳米结构，其中，电介质纳米结构包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列，电介质纳米结构阵列包括至少一个电介质纳米柱，同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的结构一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的长轴尺寸和短轴一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱在介质衬底表面的面内角度一致。当不同偏振态的入射光经过超构表面光学透镜后，能在像侧实现多处聚焦。
附图说明
一个或多个实施例中通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件/模块和步骤表示为类似的元件/模块和步骤，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。
图1是本发明实施例提供的一种超构表面光学透镜的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的另一种超构表面光学透镜的结构示意图
图3是本发明实施例提供的一种电介质纳米柱的结构示意图；
图4是本发明实施例提供的一种成像装置的结构示意图；
图5是图4的成像示意图；
图6是本发明实施例提供的另一种成像装置的结构示意图；
图7是图6的光场扫描图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明，但不以任何形式限制本发明。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进。这些都属于本发明的保护范围。
需要说明的是，如果不冲突，本发明实施例中的各个特征可以相互结合，均在本申请的保护范围之内。另外，虽然在装置示意图中进行了功能模块划分，在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于装置中的模块划分，或流程图中的顺序执行所示出或描述的步骤。此外，本文所采用的“第一”、“第二”、“第三”等字样并不对数据和执行次序进行限定，仅是对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分。
除非另有定义，本说明书所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本说明书中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是用于限制本发明。本说明书所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
此外，下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
请一并参阅图1和图2，图1为本发明实施例提供的一种超构表面光学透镜10的结构示意图，图1(b)为图1(a)的其中一个电介质纳米柱的结构放大示意图，所述超构表面光学透镜10包括介质衬底1和电介质纳米结构2，其中，电介质纳米结构2设置于所述介质衬底1上，电介质纳米结构2包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列3，同一所述电介质纳米结构阵列3中的电介质纳米柱4的纳米结构一致；同一电介质纳米结构阵列3中的电介质纳米柱4的长轴尺寸和短轴尺寸一致；同一电介质纳米结构阵列3中的电介质纳米柱4在介质衬底1表面的面内角度一致。
通过将不同入射光和出射光偏振态的相位改变信息耦合至电介质纳米结构的自由度中，当入射光经过该超构表面光学透镜10后，能够在像侧实现多处聚焦。同时，在同一电介质纳米结构阵列3中的电介质纳米柱4的纳米结构、长轴尺寸和短轴尺寸保持一致，可以让处于同一半径上的电介质纳米柱4的相位改变信息保持一致，及同一电介质纳米结构阵列3的相位改变信息保持一致。最后，该超构表面光学透镜10采用二维结构，且结构组成简单、体积轻薄，可进行大批量生产。
请参阅图1(b)，一个电介质纳米柱4有三个自由度可以自由设置，分别为长轴尺寸D1，短轴尺寸D2和面内角度θ，其中，电介质纳米柱4在介质衬底1表面的面内角度为电介质纳米柱4短轴D2的对称轴与以介质衬底1的水平(X轴)正方向所成的夹角，且以逆时针旋转方向为正。由于此电介质纳米柱4的长轴尺寸D1和短轴尺寸D2两个横截面的长度不同，因此沿两个方向的等效折射率也不同，因此，每个电介质纳米柱4可以看作双折射单元，其可以在正交偏振上产生不同的相位。
在其他一些实施例中，请参阅图3，所述电介质纳米柱4的结构可以采用椭圆柱形纳米结构，同样地，该电介质纳米柱4也有三个自由度，分别为长轴尺寸D1、短轴尺寸D2和面内角度θ。或者，电介质纳米柱4的结构可以为圆柱形纳米结构、矩形纳米结构、v型纳米结构、不对称十字形纳米结构和工字形纳米结构的至少一种。在实际应用中，电介质纳米柱的结构可以按实际需要进行设置，不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
其中，长轴尺寸D1、短轴尺寸D2和面内角度θ的具体取值可以根据具体的聚焦成像要求设置。例如，若让该超构表面光学透镜10在三处不同的焦点聚焦成像，在设计该超构表面光学透镜10时，首先，获取一个周期内电介质纳米柱4的纳米结构，以椭圆柱形纳米结构为例，在一个周期内设置一个椭圆形电介质纳米柱，则在该周期内有三个自由度可供设计，分别为该椭圆形电介质纳米柱的长轴尺寸D1、短轴尺寸D2和面内角度θ；然后，通过严格耦合波理论，求解麦克斯韦方程来获取椭圆形电介质纳米柱的长轴尺寸、短轴尺寸以及面内角度与相位大小改变的对应关系；接着，获得在三套不同的入射光和出射光的偏振组合下的相位改变信息，例如，第一套相位改变信息为入射光偏振态和出射光偏振态均为水平方向、并且在第一聚焦点聚焦的相位改变信息，第二套相位改变信息为入射光偏振态和出射光偏振态互相垂直、并且在第二聚焦点聚焦的相位改变信息，第三套相位改变信息为入射光偏振态和出射光偏振态均为竖直方向、并且在第三聚焦点聚焦的相位改变信息，需要注意的是，第一聚焦点、第二聚焦点和第三聚焦点在光轴上的位置不同；最后，依据所述三套相位改变信息得到该椭圆形电介质纳米柱的3个自由度的参数。此时，该超构表面光学透镜10能够在像侧实现三处聚焦，
在实际应用中，可以根据期望的焦点个数，来增加或减少相位改变信息的套数、以及电介质纳米结构在一个周期内的设计自由度。例如，若让该超构表面光学透镜10在两处不同的焦点聚焦成像，则获取两套相位改变信息，并耦合至一个周期内的电介质纳米柱的两个自由度，或者，若让该超构表面光学透镜10在四处不同的焦点聚焦成像，则获取四套相位改变信息，并通过增加一个周期内电介质纳米柱的个数，来增加一个周期内电介质纳米柱的设计自由度，进而将四套相位改变信息耦合至四个自由度中。同时，相位改变信息可以根据实际需要进行选择入射光和出射光的偏振态组合来设置，在此不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
可以理解的是，在其他一些实施例中，电介质纳米结构阵列3可以呈现矩形排布、或者是按其他合适的排布方式进行排列，在实际应用中可根据需要进行设置，在此不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
请参阅图1和图3,在实际应用中，超构表面光学透镜上的电介质纳米柱4的高度H可以根据实际需要进行设置，但为了加工方便，在其中一些实施例中，所述超构表面光学透镜10上的电介质纳米柱4的高度H保持一致。
在其中一些实施例中，请参阅图1和图2，所述电介质纳米柱4的高度H为200nm-2000nm，在实际应用中，电介质纳米柱4的高度H可按照实际需要在介质衬底表面任意设置，不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
在其中一些实施例中，介质衬底1的厚度为0.5mm-5mm，在实际应用中，介质衬底1的厚度可以按照实际需要进行设置，不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
为了能让超构表面光学透镜10能够在不同波长范围内使用，在其中一些实施例中，介质衬底1为氧化铟锡导电玻璃、石英衬底、氧化硅衬底、硅衬底和金刚石衬底中的至少一种，电介质纳米柱4的材料为氧化钛、氧化铪、氧化硅、硅、金属银、金属金和氮化硅中的至少一种，通过选择超构表面光学透镜10的不同材料，可以让超构表面光学透镜10在紫外波段、可见光波段和红外波段使用，并且能够实现高的聚焦效率。在实际应用中，超构表面光学透镜的介质衬底材料和电介质纳米柱材料均可按照实际需要进行设定，不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
本发明实施例还提供一种成像装置，所述成像装置包括如上述任一项实施例所述的超构表面光学透镜。该超构表面光学透镜的具体结构可参见上述任一实施例中的描述，在此不在赘述。本发明实施例提供的成像装置通过超构表面光学透镜，能够使入射光实现多处聚焦。
在其中一些实施例中，请参阅图4，图4为本发明实施例提供的一种成像装置的结构示意图，所述成像装置100包括从物侧到像侧沿同一光轴依次设置的第一偏振片21、超构表面光学透镜10和第二偏振片22，所述超构表面光学透镜10的介质衬底侧靠近所述物侧，所述超构表面光学透镜10的电介质纳米结构侧靠近所述像侧。
为了节省材料，在其中一些实施例中，请再次参阅图4，所述第一偏振片21和所述第二偏振片22均为圆形。在实际应用中，第一偏振片和第二偏振片的形状可根据实际需要进行设置，在此不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
请参阅图5，图5为图4的成像示意图，在此实施例中，成像装置100中的超构表面光学透镜10可以实现三处聚焦，当成像装置100对物体A进行成像时，可在x、y、z三点聚焦，请参阅图5(b)，图5(b)为图5(a)的成像结果，其中，输入偏振代表第一偏振片21的偏振方向，输出偏振代表第二偏振片22的偏振方向，从图中可见，当输入偏振的方向和输出偏振的方向均为水平方向时，物体A在x处聚焦成像；当输入偏振的方向和输出偏振的方向互相垂直时，物体A在y处聚焦成像；当输入偏振的方向和输出偏振的方向均为竖直方向时，物体A在z处聚焦成像。在实际应用中，成像装置100的焦点数和焦距均可按实际需要进行调整，只需要依据所需的焦点数和焦距、对超构表面光学透镜和偏振片进行设计即可，不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
请参阅图6，图6为本发明实施例提供的另一种基于超构表面光学透镜的成像装置，该成像装置100通过利用一个可以多处聚焦的超构表面光学透镜，在固定物距或者在固定像距的情况下，可以实现多处变焦成像。所述成像装置100包括：从物侧到像侧沿同一光轴依次设置的光源30，第一傅里叶透镜41、第二傅里叶透镜42、分辨率板50、第一偏振片21、超构表面光学透镜10、第二偏振片22、物镜60、CCD相机70。在该成像装置100中，光源30产生的光束经过第一偏振片21起偏后，入射到分辨率板50上，并通过超构表面光学透镜10、第二偏振片22出射，接着物镜60将成像面的像放大，最后由CCD相机70捕捉成像结果。
请参阅图7，图7为图6的光场扫描图，其中Ei代表第一偏振片的方向，E0代表第二偏振片的方向，从图中可见，当对入射光和出射光不做任何偏振处理时，物体能够在100微米、200微米、300微米处聚焦；当入射光偏振态和出射光偏振态均为水平方向时，物体在100微米处聚焦；当入射光偏振态和出射光偏振态互相垂直时，物体在200微米处聚焦；当入射光偏振态和出射光偏振态均为竖直方向时，物体在300微米处聚焦。由此可见，该成像装置100在轴向方向上有多个不同间距的焦点，同时每个焦距的位置与入射光和出射光的偏振方向相关联。在实际应用中，成像装置100的焦点数和焦距均可按实际需要进行调整，只需要依据所需的焦点数和焦距、对超构表面光学透镜和偏振片进行设计即可，不需要拘泥于本发明实施例中的限定。
本发明实施例提供一种超构表面光学透镜和成像装置，所述超构表面光学透镜包括介质衬底和设置于介质衬底的电介质纳米结构，其中，电介质纳米结构包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列，电介质纳米结构阵列包括至少一个电介质纳米柱，同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的结构一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的长轴尺寸和短轴一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱在介质衬底表面的面内角度一致。当不同偏振态的入射光经过超构表面光学透镜后，能在像侧实现多处聚焦。
需要说明的是，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，其中所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；在本发明的思路下，以上实施例或者不同实施例中的技术特征之间也可以进行组合，步骤可以以任意顺序实现，并存在如上所述的本发明的不同方面的许多其它变化，为了简明，它们没有在细节中提供；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种超构表面光学透镜，其特征在于，包括：介质衬底和设置于所述介质衬底的电介质纳米结构；
所述电介质纳米结构包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列，所述电介质纳米结构阵列包括至少一个电介质纳米柱；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的纳米结构一致；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的长轴尺寸和短轴尺寸一致；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱在所述介质衬底表面的面内角度一致。
2.根据权利要求1所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的高度一致。
3.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述介质衬底的厚度为0.5mm-5mm。
4.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述介质衬底为氧化铟锡导电玻璃、石英衬底、氧化硅衬底、硅衬底和金刚石衬底中的至少一种。
5.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的高度为200nm-2000nm。
6.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的结构为矩形纳米结构、v型纳米结构、不对称十字形纳米结构和工字形纳米结构的至少一种。
7.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的材料为氧化钛、氧化铪、氧化硅、硅、金属银、金属金和氮化硅中的至少一种。
8.一种成像装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的超构表面光学透镜。
9.根据权利要求8所述的成像装置，其特征在于，所述成像装置还包括第一偏振片、第二偏振片；其中，所述第一偏振片、所述超构表面光学透镜和所述第二偏振片从物侧到像侧沿同一光轴依次设置，所述超构表面光学透镜的介质衬底侧靠近所述物侧，所述超构表面光学透镜的电介质纳米结构侧靠近所述像侧。
10.根据权利要求9所述的成像装置，其特征在于，所述第一偏振片和所述第二偏振片均为圆形。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113075802A (zh) * 2021-02-23 2021-07-06 华南师范大学 基于相变材料Sb2S3的近红外热调制变焦超构透镜
CN113093424A (zh) * 2021-03-30 2021-07-09 武汉华星光电技术有限公司 显示面板及其制备方法
CN113655548A (zh) * 2021-07-08 2021-11-16 湖南大学 一种基于超构表面的光学边缘检测设计方法及装置
CN113655547A (zh) * 2021-07-08 2021-11-16 湖南大学 一种分辨率可调的超透镜阵列及实现方法
CN113934039A (zh) * 2021-10-29 2022-01-14 武汉华星光电技术有限公司 显示装置
CN114063202A (zh) * 2021-12-06 2022-02-18 清华大学深圳国际研究生院 可由任意偏振态调控的多功能超构透镜及其制作方法
CN114217413A (zh) * 2021-12-13 2022-03-22 中国科学院光电技术研究所 一种基于超构表面的超广角宽带偏振成像系统及探测设备
CN114397798A (zh) * 2022-01-20 2022-04-26 东北师范大学 一种紫外全介质超透镜组

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016168173A1 (en) * 2015-04-14 2016-10-20 California Institute Of Technology Multi-wavelength optical dielectric metasurfaces
CN107703579A (zh) * 2017-10-26 2018-02-16 鲁东大学 实现横向多焦点聚焦的超构表面透镜及实现方法
CN109196387A (zh) * 2016-04-05 2019-01-11 哈佛学院院长及董事 用于亚波长分辨率成像的超透镜

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016168173A1 (en) * 2015-04-14 2016-10-20 California Institute Of Technology Multi-wavelength optical dielectric metasurfaces
CN109196387A (zh) * 2016-04-05 2019-01-11 哈佛学院院长及董事 用于亚波长分辨率成像的超透镜
CN107703579A (zh) * 2017-10-26 2018-02-16 鲁东大学 实现横向多焦点聚焦的超构表面透镜及实现方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
SONG GAO ET AL.: "Twofold Polarization-Selective All-Dielectric Trifoci Metalens for Linearly Polarized Visible Light", 《ADVANCED OPTICAL MATERIALS》 *
XIANZHONG CHEN ET AL.: "Longitudinal Multifoci Metalens for Circularly, ADVANCED OPTICAL MATERIALS", 《ADVANCED OPTICAL MATERIALS》 *

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113075802A (zh) * 2021-02-23 2021-07-06 华南师范大学 基于相变材料Sb2S3的近红外热调制变焦超构透镜
CN113093424A (zh) * 2021-03-30 2021-07-09 武汉华星光电技术有限公司 显示面板及其制备方法
CN113655548A (zh) * 2021-07-08 2021-11-16 湖南大学 一种基于超构表面的光学边缘检测设计方法及装置
CN113655547A (zh) * 2021-07-08 2021-11-16 湖南大学 一种分辨率可调的超透镜阵列及实现方法
CN113934039A (zh) * 2021-10-29 2022-01-14 武汉华星光电技术有限公司 显示装置
CN114063202A (zh) * 2021-12-06 2022-02-18 清华大学深圳国际研究生院 可由任意偏振态调控的多功能超构透镜及其制作方法
CN114063202B (zh) * 2021-12-06 2022-12-06 清华大学深圳国际研究生院 可由任意偏振态调控的多功能超构透镜及其制作方法
CN114217413A (zh) * 2021-12-13 2022-03-22 中国科学院光电技术研究所 一种基于超构表面的超广角宽带偏振成像系统及探测设备
WO2023109412A1 (zh) * 2021-12-13 2023-06-22 中国科学院光电技术研究所 一种基于超构表面的超广角宽带偏振成像系统及探测设备
CN114217413B (zh) * 2021-12-13 2023-08-11 中国科学院光电技术研究所 一种基于超构表面的超广角宽带偏振成像系统及探测设备
CN114397798A (zh) * 2022-01-20 2022-04-26 东北师范大学 一种紫外全介质超透镜组

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