CN112359340A - 应用于板式工件的镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种应用于板式工件的镀膜系统，应用于板式工件的镀膜系统包括依次连通的上料台、第一前处理室、镀膜室、第一后处理室以及下料台，所述上料台上设置托盘，所述托盘用于承载基板，所述上料台用于将所述托盘送入所述第一前处理室内，所述下料台用于接受来自于所述第一后处理室流出并卸下所述基板的托盘，所述下料台与所述上料台连通。本发明提供了一种能够方便地对板式工件进行镀膜的镀膜系统。

Description

应用于板式工件的镀膜系统

技术领域

本发明涉及工件镀膜领域，尤其涉及一种应用于板式工件的镀膜系统。

背景技术

真空镀膜是目前较为前沿的镀膜技术，而真空镀膜中的磁控溅射镀膜法采用通过通电阳极放出电子，并使电子在电场的加速作用下与真空腔内的气体分子碰撞，从而使气体分子电离，而电离的气体分子又在电场的作用下轰击阴极上的金属粒子，使金属粒子电离溅射，并使得电离出来的金属离子沉积于工件表面形成薄膜，其中为了使电子能够更加高效的与气体分子进行碰撞，从而提高气体分子电离率，采用在阴极内部装入磁铁形成磁控阴极，因此电子在电场及磁场的共同作用下，将会在真空腔内形成螺旋式轨迹来增加电子与气体分子的碰撞概率。而现有的针对板式工件的镀膜往往是采取整卷进行平摊后进行镀膜，在镀膜后工件还是呈卷状，因而在镀膜时十分不方便，并且在后续使用时还需要开平裁剪，从而会损伤基材膜层，造成工件的损失和浪费。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种应用于板式工件的镀膜系统，旨在提供一种能够方便地对板式工件进行镀膜的镀膜系统。

为实现上述目的，本发明提出的一种应用于板式工件的镀膜系统包括依次连通的上料台、第一前处理室、镀膜室、第一后处理室以及下料台，所述上料台上设置托盘，所述托盘用于承载基板，所述上料台用于将所述托盘送入所述第一前处理室内，所述下料台用于接受来自于所述第一后处理室流出并卸下所述基板的托盘，所述下料台与所述上料台连通。

在一实施例中，所述上料台和所述下料台均包括安装腿、安装支架、第一传输组件以及第二传输组件，所述安装支架设置在所述安装腿上，所述第一传输组件设置在所述安装支架上，所述第二传输组件设置在所述安装支架下方，所述第一传输组件用于传输承载有所述基板的所述托盘，所述第二传输组件用于传输已卸下所述基板的所述托盘。

在一实施例中，所述第一传输组件包括驱动件以及传动辊，所述驱动件与所述传动辊连接，所述传动辊用于将所述托盘沿所述传动辊的延伸方向流转。

在一实施例中，所述第一传输组件还包括联轴器以及同步轮，所述联轴器的第一端与所述驱动件连接，所述同步轮的第一端与所述联轴器的第二端连接，所述同步轮的第二端与所述传动辊的端部连接。

在一实施例中，所述第一传输组件还包括密封件，所述密封件设置在所述驱动件和所述联轴器之间。

在一实施例中，所述第二传输组件包括回流传送架以及回流辊道，所述回流传送架设置在所述安装支架下方，所述回流辊道设置在所述回流传送架上方并用于传输已卸下所述基板的所述托盘。

在一实施例中，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括过渡台，所述过渡台设置在所述上料台和所述第一前处理室之间。

在一实施例中，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括第二前处理室以及第二后处理室，所述第二前处理室设置在所述第一前处理室和所述镀膜室之间，所述第二后处理室设置在所述镀膜室和所述第一后处理室之间。

在一实施例中，所述镀膜室的顶部设置有多个沿所述进料方向间隔布置的安装仓，所述安装仓上用于安装溅射阴极、真空泵阴极离子源。

在一实施例中，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括回流轨道，所述回流轨道位于所述第一前处理室、所述镀膜室和所述第一后处理室下方，所述回流轨道的两端分别与所述上料台和所述下料台相连通。

本发明的技术方案中，应用于板式工件的镀膜系统包括依次连通的上料台、第一前处理室、镀膜室、第一后处理室以及下料台，所述上料台上设置托盘，所述托盘用于承载基板，基板在放置在托盘上后，托盘能够依次流经第一前处理室、镀膜室以及第一后处理室，而在镀膜后已镀膜的基板能够在托盘上取出，并将托盘再回流至上料台处再将工件放置在托盘上，因此托盘能够在该镀膜系统内流转，能够显著提升板式工件的镀膜效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明实施例的应用于板式工件的镀膜系统的结构示意图；

图2为本发明实施例的上料台的结构示意图。

附图标号说明：10、上料台；11、安装腿；12、安装支架；13、第一传输组件；131、驱动件；132、传动辊；14、联轴器；15、同步轮；16、密封件；20、第一前处理室；30、镀膜室；31、安装仓；40、第一后处理室；50、下料台；60、过渡台；70、第二前处理室；80、第二后处理室；90、托盘。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

并且，本发明各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。

本发明提供一种应用于板式工件的镀膜系统。

如图1所示，本发明实施例提供的应用于板式工件的镀膜系统包括依次连通的上料台10、第一前处理室20、镀膜室30、第一后处理室40以及下料台50，所述上料台10上设置托盘90，所述托盘90用于承载基板，所述上料台10用于将所述托盘90送入所述第一前处理室20内，所述下料台50用于接受来自于所述第一后处理室40流出并卸下所述基板的托盘90，所述下料台50与所述上料台10连通。

在本实施例中，应用于板式工件的镀膜系统包括依次连通的上料台10、第一前处理室20、镀膜室30、第一后处理室40以及下料台50，所述上料台10上设置托盘90，所述托盘90用于承载基板，基板在放置在托盘90上后，托盘90能够依次流经第一前处理室20、镀膜室30以及第一后处理室40，而在镀膜后已镀膜的基板能够在托盘90上取出，并将托盘90再回流至上料台10处再将工件放置在托盘90上，因此托盘90能够在该镀膜系统内流转，能够显著提升板式工件的镀膜效率。

具体地，所述上料台10和所述下料台50均包括安装腿11、安装支架12、第一传输组件13以及第二传输组件，所述安装支架12设置在所述安装腿11上，所述第一传输组件13设置在所述安装支架12上，所述第二传输组件设置在所述安装支架12下方，所述第一传输组件13用于传输承载有所述基板的所述托盘90，所述第二传输组件用于传输已卸下所述基板的所述托盘90。在本实施例中，在对板式工件进行镀膜时，首先托盘90位于第一传输组件13上，此时将基板放置在托盘90上，随后托盘90依次流经第一前处理室20、镀膜室30以及第一后处理室40，在镀膜完成后，此时托盘90承载基板流至下料台50的第一传输组件13上，此时将已镀膜的基板卸下后，托盘90再通过第二传输组件传输回上料台10的第一传输组件13，因而提升托盘90的流转效率。

其中，所述第一传输组件13包括驱动件131以及传动辊132，所述驱动件131与所述传动辊132连接，所述传动辊132用于将所述托盘90沿所述传动辊132的延伸方向流转。在本实施例中，通过驱动件131驱动传动辊132转动，从而实现托盘90的运转。

并且，所述第一传输组件13还包括连轴组件，所述连轴组件包括联轴器14以及同步轮15，所述联轴器14的第一端与所述驱动件131连接，所述同步轮15的第一端与所述联轴器14的第二端连接，所述同步轮15的第二端与所述传动辊132的端部连接。通过联轴器14和同步轮15使得传动辊132在转动的过程中更为稳定。

同时，为了保证处理室和镀膜室30内的密封性，在一可选地实施例中，所述第一传输组件13还包括密封件16，所述密封件16设置在所述驱动件131和所述联轴器14之间。

进一步地，所述第二传输组件包括回流传送架以及回流辊道，所述回流传送架设置在所述安装支架12下方，所述回流辊道设置在所述回流传送架上方并用于传输已卸下所述基板的所述托盘90。在本实施例中，在托盘90上的基板镀膜并卸下后托盘90能够流转至回流辊道上，并通过回流辊道传输回上料台10处再进行上料。

另外，在一实施例中，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括过渡台60，所述过渡台60设置在所述上料台10和所述第一前处理室20之间。在本实施例中，当基板上敷设有膜层时，在镀膜之前需要将其附着在表面的膜卸下，因此在上料台10和第一前处理室20之间设置过渡台60，在托盘90承载基板经过过渡台60时，将基板的膜层卸下，方便后续处理及镀膜。

更进一步地，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括第二前处理室70以及第二后处理室80，所述第二前处理室70设置在所述第一前处理室20和所述镀膜室30之间，所述第二后处理室80设置在所述镀膜室30和所述第一后处理室40之间。在本实施例中，第一前处理室20和第一后处理室40的作用在于将处理室和外部空气隔断，而第二前处理室70和第二后处理室80的作用在于调节托盘90的流速。

另外，所述镀膜室30的顶部设置有多个沿所述进料方向间隔布置的安装仓31，所述安装仓31上用于安装溅射阴极、真空泵阴极离子源，因而在本实施例中，可以根据不同配置安装不同的装置，使得安装仓31具备兼容性。

在上述实施例中，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括回流轨道，所述回流轨道位于所述第一前处理室20、所述镀膜室30和所述第一后处理室40下方，所述回流轨道的两端分别与所述上料台10和所述下料台50相连通，在下料台50的第二传输组件接受托盘90后，能够通过回流轨道流转至上料台10的第二传输组件，随后并传输至上料台10的第一传输组件13再次承载基板后流转至第一前处理室20内。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述应用于板式工件的镀膜系统包括依次连通的上料台、第一前处理室、镀膜室、第一后处理室以及下料台，所述上料台上设置托盘，所述托盘用于承载基板，所述上料台用于将所述托盘送入所述第一前处理室内，所述下料台用于接受来自于所述第一后处理室流出并卸下所述基板的托盘，所述下料台与所述上料台连通。

2.根据权利要求1所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述上料台和所述下料台均包括安装腿、安装支架、第一传输组件以及第二传输组件，所述安装支架设置在所述安装腿上，所述第一传输组件设置在所述安装支架上，所述第二传输组件设置在所述安装支架下方，所述第一传输组件用于传输承载有所述基板的所述托盘，所述第二传输组件用于传输已卸下所述基板的所述托盘。

3.根据权利要求2所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述第一传输组件包括驱动件以及传动辊，所述驱动件与所述传动辊连接，所述传动辊用于将所述托盘沿所述传动辊的延伸方向流转。

4.根据权利要求3所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述第一传输组件还包括联轴器以及同步轮，所述联轴器的第一端与所述驱动件连接，所述同步轮的第一端与所述联轴器的第二端连接，所述同步轮的第二端与所述传动辊的端部连接。

5.根据权利要求4所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述第一传输组件还包括密封件，所述密封件设置在所述驱动件和所述联轴器之间。

6.根据权利要求5所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述第二传输组件包括回流传送架以及回流辊道，所述回流传送架设置在所述安装支架下方，所述回流辊道设置在所述回流传送架上方并用于传输已卸下所述基板的所述托盘。

7.根据权利要求6所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括过渡台，所述过渡台设置在所述上料台和所述第一前处理室之间。

8.根据权利要求7所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括第二前处理室以及第二后处理室，所述第二前处理室设置在所述第一前处理室和所述镀膜室之间，所述第二后处理室设置在所述镀膜室和所述第一后处理室之间。

9.根据权利要求8所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述镀膜室的顶部设置有多个沿所述进料方向间隔布置的安装仓，所述安装仓上用于安装溅射阴极、真空泵阴极离子源。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的应用于板式工件的镀膜系统，其特征在于，所述应用于板式工件的镀膜系统还包括回流轨道，所述回流轨道位于所述第一前处理室、所述镀膜室和所述第一后处理室下方，所述回流轨道的两端分别与所述上料台和所述下料台相连通。

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