CN112300431A - 一种光学扩散膜 - Google Patents
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Abstract
本发明属于液晶显示器用光学薄膜领域,尤其涉及一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层上涂覆有涂布液,所述涂布液包括如下重量百分比的各物质:流平剂0.015%~0.172%;抗静电剂0.549%~0.686%;防粘连粒子2.325%~3.923%;粘合剂树脂27.465%~34.322%;交联剂2.059%~7.427%;溶剂58.838%~65.916%;所述流平剂为丙烯酸酯共聚物。本申请的技术方案能有效兼顾保护膜黏结牢度以及保证防静电效果。
Description
技术领域
本发明属于液晶显示器用光学薄膜领域,尤其涉及一种光学扩散膜。
背景技术
光学扩散膜是液晶显示器的背光模组关键组件之一,主要功能为液晶显示器提供一个均匀的面光源。光学扩散膜一般包括基材、设置在基材上表面的光扩散层和设置在基材下表面的背层。薄型光学扩散膜在下道工序的裁切分条过程中,为了避免外界粉尘颗粒等异物的污染及起到支撑作用,需要在光学扩散膜背层贴覆保护膜处理。
行业内一般通过无防静电效果的光学扩散膜背层与低粘保护膜之间静电吸附作用进行贴合,贴覆上的保护膜牢度不够,容易脱落;而且在下道工序中,贴有保护膜的光学扩散膜片材需要撕掉保护膜,组装成背光模组时扩散膜表面存在大量静电,危害大。还有通过保护膜自带胶黏层贴覆在带有防静电效果的光学扩散膜背层上,这种方案虽然无明显的静电危害,但是也存在保护膜贴合牢度不够的问题。因而光学扩散膜兼顾与保护膜黏着牢固和防静电效果是行业难题。
发明内容
本申请提供一种光学扩散膜,其能有效兼顾保护膜黏结牢度以及防静电效果。
为了解决上述技术问题,本申请采取的技术方案为,一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层上涂覆有涂布液,所述涂布液包括如下重量百分比的各物质:
流平剂0.015%~0.172%;
抗静电剂0.549%~0.686%;
防粘连粒子2.325%~3.923%;
粘合剂树脂27.465%~34.322%;
交联剂2.059%~7.427%;
溶剂58.838%~65.916%;
所述流平剂为丙烯酸酯共聚物,具有以下结构式:—(CH2CR1COOR2)x—(CH2CR3COOR4)y—,
其中,R1为甲基或氢,R2为C4~C8的直链或支链烷基,R3为甲基或氢,R4为羟乙基、羟丙基或缩水甘油基,x为50~70,y为7~9。
作为本申请改进的技术方案,所述抗静电剂为烷基磺酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基磷酸酯盐或烷基季铵盐中的一种或任意重量百分含量的多种。
作为本申请改进的技术方案,所述防粘连粒子为粒径为3~7μm、粒径变异系数为15%以下、并凸出涂层高度为1~2μm的高聚物树脂微珠,所述高聚物树脂微珠为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚硅氧烷、聚甲基丙烯酸正丁酯、聚甲基丙烯酸异丁酯、聚酰胺、聚氨酯微珠中的一种或任意重量百分含量的多种。
作为本申请改进的技术方案,所述粘合剂树脂为羟基丙烯酸树脂、聚酯树脂或环氧树脂中的一种或任意重量百分含量的多种。
作为本申请改进的技术方案,所述交联剂为脂肪族聚异氰酸酯。
作为本申请改进的技术方案,所述溶剂为高挥发速率溶剂、中等挥发速率溶剂及低挥发速率溶剂中的一种或任意重量百分含量的多种;所述高挥发速率溶剂为丙酮、丁酮、乙酸乙酯和乙酸甲酯中的一种或任意重量百分含量的多种;所述中挥发速率溶剂为乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲苯、二甲苯和乙酸戊酯中的一种或任意重量百分含量的多种;所述低挥发速率溶剂为丙二醇甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚和环己酮中的一种或任意重量百分含量的多种。
作为本申请改进的技术方案,所述基材为PET薄膜,所述基材厚度为25~250μm;所述基材表面经过电晕或等离子处理。
作为本申请改进的技术方案,所述光扩散层为具有40%~99%雾度的光学扩散层。
作为本申请改进的技术方案,所述涂布液采用如下方式制备:在配液桶中先加入配方量的溶剂和粘合剂树脂搅拌均匀,再加入配方量的流平剂、抗静电剂和防粘连粒子搅拌均匀,使用前10分钟加入配方量交联剂搅拌均匀,备用。
作为本申请改进的技术方案,所述涂布液采用微凹版涂布法:
将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的透明基材的另一表面上,经过烘箱烘干溶剂同时进行交联反应,烘箱的温度范围为90℃~120℃,烘干时间为0.5min~5min;置于40℃的熟化室中熟化48h~96h,得到包括所述背层的光学扩散膜。
有益效果
(1)本申请的流平剂具有低分子量与中低极性,在用于光学扩散膜的涂布液时,轻微降低表面张力而不影响涂层的覆膜牢度。
(2)本申请的丙烯酸酯共聚物通过有限相容性迁移至粘合剂树脂的表面,促进湿膜表层的表面张力均匀化,提高涂层表面平整性,从而提高涂层的覆膜牢度。
(3)本申请的丙烯酸酯共聚物含有羟基官能团,使流平剂在涂层固化过程能够与树脂反应,提高流平剂与树脂的相容性;在用于光学扩散膜时,适当降低其在粘合剂树脂中的迁出能力,减少流平剂在涂层表面析出导致的雾影,从而进一步提高涂层的覆膜牢度。
(4)本申请的涂布液通过粒径变异系数为15%以下的防粘连粒子,即具有粒径相同或者窄粒径分布的粒子,设计粒子凸出涂层高度为1~2μm,提高粒子凸出涂层的平整性,从而进一步提高扩散膜背层与贴合保护膜之间的覆膜牢度。
(5)本申请的涂布液选用的抗静电剂、丙烯酸酯共聚物流平剂与粘合剂树脂具有适度相容性,不影响抗静电剂迁移至涂层表面,从而使涂层具有良好的防静电效果。
综上,本申请的流平剂、涂布液应用于光学扩散膜时,具有表面张力适度与表面平整度高的特性,与所覆保护膜之间黏着牢度好,同时具有良好的防静电效果,可以解决光学扩散膜兼顾与保护膜的覆膜牢度和防静电效果的技术难题。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的和技术方案更加清楚,下面将结合本发明实施例,对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本技术领域技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样定义,不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本申请涉及一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层上涂覆有涂布液。光扩散层+透明基材+背层,组成完整的扩散膜产品。
所述透明基材为PET薄膜,所述基材厚度为25μm~250μm。透明基材并未特别限定其材质和厚度,具有良好的表面平滑性(合适的表面粗糙度)、机械强度(合适的拉伸强度与断裂伸长率)、耐温性(合适的耐热尺寸稳定性,如在85℃环境下持续稳定1000小时以上)以及耐光(耐紫外老化,QUV老化试验机测试)、耐侯性(合适的耐湿热尺寸稳定性,如:85℃85%RH 1000小时)的材料都可以用作光学扩散膜的基材,以保证基材的耐热尺寸稳定性和透光率,如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚酰亚胺等。基材一般选取20~300um厚度,太薄其耐热尺寸稳定性下降明显,太厚则会影响光线的透过率。本发明中的透明基材表面可以通过电晕或等离子处理等方式处理;为提高基材表面与涂布液的粘着性,亦可采用在基材表面预涂底层,来改善涂布层与基材的粘着性能。
所述光扩散层为具有40%~99%雾度的光学扩散层,用于提供扩散膜的雾度及扩散效果。
所述涂布液包括如下重量百分比的各物质:流平剂0.015%~0.172%;抗静电剂0.549%~0.686%;防粘连粒子2.325%~3.923%;粘合剂树脂27.465%~34.322%;交联剂2.059%~7.427%;溶剂58.838%~65.916%。
所述流平剂重量百分比为0.015%~0.172%,所述流平剂重量占粘合剂树脂重量的0.05%~0.5%,若重量占比小于0.05%,则流平剂用量太少,起不到促进流平的作用;若重量占比大于0.5%,则出现表观雾影的弊病。
所述抗静电剂重量百分比为0.549%~0.686%,提供了涂层合适的防静电效果。若重量百分比小于0.549%,则抗静电剂用量太少,起不到防静电效果;若重量百分比大于0.686%,则容易出现抗静电剂析出粘合剂树脂产生表观不良。
所述防粘连粒子重量百分比为2.325%~3.923%,提供了涂层合适的防粘连效果。若重量百分比小于2.325%,则防粘连粒子太少,起不到防粘连效果;若重量百分比大于3.923%,则使背层的雾度偏高透光率下降,降低扩散膜的辉度,而且背层粒子数目偏多还会摩擦损伤相接触的其他膜片。
所述粘合剂树脂重量百分比为27.465%~34.322%,提供了合适的成膜性,可以很好地包裹住防粘连粒子;并且得到合适的树脂层厚度,有利于防粘连粒子凸出涂层一定的高度。
所述交联剂重量百分比为2.059%~7.427%,交联剂用量是基于交联剂中异氰酸酯基数量与粘合剂树脂中羟基或环氧基数量相匹配而计算出来的。合适重量的交联剂与粘合剂树脂充分交联,从而赋予成膜物树脂良好的致密性及良好的涂层附着力。
所述溶剂重量百分比为58.838%~65.916%,这个范围的溶剂用量保证了涂布液合适的固含量及粘度范围,有利于涂布方法的选择以及涂布得到合适的背层。
本发明中,所述流平剂为丙烯酸酯共聚物,起到调节粘合剂树脂的流平作用。本发明的流平剂分子量介于10000~11000;并具有以下结构式—(CH2CR1COOR2)x—(CH2CR3COOR4)y—……(Ⅰ),其中R1为甲基或氢,R2为C4~C8的直链或支链烷基,R3为甲基或氢,R4为羟乙基、羟丙基或缩水甘油基,x为50~70,y为7~9。该丙烯酸酯共聚物具有中低分子量与中低极性,在涂布液中轻微降低表面张力而不影响涂层的覆膜牢度;通过有限相容性迁移至粘合剂树脂的表面,促进湿膜表层的表面张力均匀化,提高涂层表面平整性,从而提高涂层的覆膜牢度;含有羟基官能团,使流平剂在涂层固化过程能够与树脂反应,提高流平剂与树脂的相容性,适当降低其在粘合剂树脂中的迁出能力,减少流平剂在涂层表面析出导致的雾影,从而进一步提高涂层的覆膜牢度。
常规技术中加入有机硅类流平剂,促使粘合剂树脂的涂布液发生流平作用,提高流平性能,但大幅度降低表面张力,影响涂层的覆膜牢度。
有机硅类流平剂相比丙烯酸酯类流平剂有显著特质,即大幅度降低涂布液的表面张力(如低至32dyn/cm),提高涂布液的底材润湿能力和流动性。但是该涂层作为扩散膜的背层,后续工段需要覆保护膜,就需要涂层表面张力不能过低,否则覆保护膜时发生贴不上保护膜或者贴上保护膜即掉等覆膜牢度问题。
本发明中,所述抗静电剂选用烷基盐,所述烷基盐包括:烷基磺酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基磷酸酯盐或烷基季铵盐。通过烷基种类调整抗静电剂的极性(不同烷基的极性不同,烷基盐类抗静电剂的极性由主要组成部分即烷基的极性决定。),从而使抗静电剂在树脂体系有适度的相容性。若相容性太好则抗静电剂不容易迁移到涂层表面,不能实现抗静电性能;若相容性太差则迁移太快,影响抗静电性能的稳定性,且容易产生抗静电剂析出而污染涂层表面,从而降低贴合保护膜的黏着牢度。
本申请配方中设有防粘连粒子,若涂布液去掉防粘连粒子,则涂层表面很光滑很平整,扩散膜片材在使用时容易与相接触膜片如导光板发生粘连,从而影响整个背光模组的光学效果。加入防粘连粒子,防粘连粒子表面裹着粘合剂树脂,会凸出涂层一定的高度。需要控制这个凸出高度,凸出太少则涂层表面很平整起不到防粘连作用,凸出太多则涂层表面很粗糙会影响贴合保护膜的牢度。所述防粘连粒子的粒径为3~7μm;所述防粘连粒子的粒径变异系数为15%以下;所述防粘连粒子凸出涂层高度为1~2μm。通过设置防粘连粒子的粒径大小与粒径分布,结合设置防粘连粒子凸出涂层高度的技术方案,提高防粘连粒子凸出涂层的平整性,从而进一步提高涂层与保护膜的黏着牢度。
防粘连粒子起到表面凸起作用,防止扩散膜在使用时与相邻膜片粘连在一起。本文选用高聚物树脂微珠,所述高聚物树脂微珠为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚硅氧烷、聚甲基丙烯酸正丁酯、聚甲基丙烯酸异丁酯、聚酰胺、聚氨酯微珠中的一种或任意组合,其为高交联的高聚物树脂微珠,不溶于溶剂,被粘合剂树脂包裹,一起固着在薄膜表面。现有技术也有采用无机粒子如氧化铝、氧化硅等作为防粘连粒子,但是与有机溶剂相容性不好,涂出来涂层表观不好。
粘合剂树脂为羟基丙烯酸树脂、聚酯树脂或环氧树脂。粘合剂树脂的官能团(羟基或环氧基)与交联剂(也叫固化剂)的官能团(异氰酸酯基)在高温阶段发生交联固化,形成成膜物,包裹住防粘连粒子、防静电剂一起固着在薄膜表面。
所述交联剂为脂肪族聚异氰酸酯。
溶剂起到调节涂布液固含量与粘度的作用,方便涂布方式的选择。涂布液的溶剂一般为高、中、低挥发速率的混合溶剂,选用不同挥发速率是为了涂布过程中溶剂挥发导致的表观效果、干燥温度及干燥时间的需要。采用高挥发速率溶剂,则干燥温度低、干燥时间短,有利降低能耗,但是表观流平不好;采用低挥发速率溶剂有利于表观控制,但是干燥温度高、干燥时间长,增加能耗。
本文中所述溶剂为高挥发速率溶剂、中等挥发速率溶剂及低挥发速率溶剂中的一种或几种;所述高挥发速率溶剂为丙酮、丁酮、乙酸乙酯和乙酸甲酯中的至少一种;所述中挥发速率溶剂为乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲苯、二甲苯和乙酸戊酯中的至少一种;所述低挥发速率溶剂为丙二醇甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚和环己酮中的至少一种。丙烯酸酯共聚物通过限定分子量在这个溶剂体系中具有有限相容性,适合作为流平剂,如果是相容性更差,适合作为消泡剂。
本发明中,所述基材表面可以通过电晕或等离子处理等方式简单处理,为提高基材表面与涂布液的粘着性,亦可采用在基材表面预涂底层,来改善涂布层与基材的粘着性能。对于小尺寸背光模组,选用25~50μm厚度的基材,搭配本技术方案的背层,容易得到薄型化的具有保护膜黏着牢固与防静电效果的光学扩散膜。
本发明中,所述光扩散层为具有40%~99%雾度的光扩散层,通过公知技术得到所述光扩散层。
常规涂布方法:在透明基材一表面涂布背层液,涂布方法没有特别的限制,可以采用棒涂、刮刀涂布、刮板涂布、辊涂、反向辊涂、接触辊涂、微凹版涂布、浸涂、帘式涂布、旋涂、吻合涂布等方式进行。并进行热风、红外线、微波加热、导热加热等方式干燥。优选热风干燥。干燥后,根据需要,使用设定的温度和时间进行硬化处理。
本发明中,所述背层的涂覆方式为微凹版涂布法。将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,经过烘箱烘干溶剂同时进行交联反应,烘箱的温度范围为90℃~120℃,烘干时间为0.5min~5min。然后放在40℃的熟化室中熟化48h~96h,得到包括所述背层的光学扩散膜。
对丙烯酸酯共聚物的聚合方法没有特别的限定,可以使用溶液聚合法、乳液聚合法等适宜的公知的聚合方法。丙烯酸酯共聚物的分子量优选为10000~11000。
溶液聚合法:以(甲基)丙烯酸烷基酯(C4~C8直链或支链)为主单体,(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯或(甲基)丙烯酸缩水甘油酯为功能单体,两者质量比约为9:1,再加入少量丙烯酸(2%~3%),以醋酸乙酯和甲苯为溶剂,溶剂量与单体总量相等。将全部溶剂和少量单体混合物、过氧化二苯甲酰引发剂加入聚合釜内,在回流温度下聚合反应,热量由夹套或釜顶回流冷凝器带走。其余单体混合局根据散热速率逐步滴加。加完单体混合物,再经充分聚合、冷却,聚合液出料完成。
为了便于本领域技术人员的理解,以下结合实施例对本发明作进一步详细描述,但这些实施例所提及的内容并非用于对本发明其他实施方式的限定。
实施例1
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为2μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
流平剂(具有式(Ⅰ)结构的丙烯酸酯共聚物,其中R1为氢,R2为C8的直链烷基,R3为甲基,R4为羟乙基,x为50,y为9,相对分子量为10370):
—(CH2CHCOOC8H17)50—(CH2CCH3COOCH2CH2OH)9—
实施例2
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为1μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
流平剂(具有式(Ⅰ)结构的丙烯酸酯共聚物,其中R1为氢,R2为C7的支链烷基,R3为氢,R4为羟丙基,x为53,y为8,相对分子量为10050):
—(CH2CHCOOC7H15)53—(CH2CHCOOCH2CH2CH2OH)8—
实施例3
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为1.5μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
流平剂(具有式(Ⅰ)结构的丙烯酸酯共聚物,其中R1为甲基,R2为C6的直链烷基,R3为甲基,R4为环氧基,x为58,y为8,相对分子量为10884):
—(CH2CCH3COOC6H13)58—(CH2CCH3COOCHCH2O)8—
实施例4
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为1~2μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
流平剂(具有式(Ⅰ)结构的丙烯酸酯共聚物,其中R1为氢,R2为C5的支链烷基,R3为甲基,R4为羟丙基,x为65,y为7,相对分子量为10238):
—(CH2CHCOOC5H11)65—(CH2CCH3COOCH2CH2CH2OH)7—
实施例5
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为1~2μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
流平剂(具有式(Ⅰ)结构的丙烯酸酯共聚物,其中R1为氢,R2为C4的直链烷基,R3为氢,R4为羟乙基,x为70,y为9,相对分子量为10004):
—(CH2CHCOOC4H9)70—(CH2CHCOOCH2CH2OH)9—
对比例1
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为1μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
流平剂(具有式(Ⅰ)结构的丙烯酸酯共聚物,其中R1为氢,R2为C7的支链烷基,R3为氢,R4为羟丙基,x为53,y为8,相对分子量为10050):
—(CH2CHCOOC7H15)53—(CH2CHCOOCH2CH2CH2OH)8—
对比例2
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为1μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
流平剂(具有式(Ⅰ)结构的丙烯酸酯共聚物,其中R1为氢,R2为C7的支链烷基,R3为氢,R4为羟丙基,x为53,y为8,相对分子量为10050):
—(CH2CHCOOC7H15)53—(CH2CHCOOCH2CH2CH2OH)8—
对比例3
一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,所述背层的涂布液组分及重量百分比如下,将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的PET基材的另一表面上,使防粘连粒子凸出背层高度为1μm。测试光学扩散膜的性能,结果见表1。
表1:各实施例性能数据表
表1中,表观评价方法为:在三波长灯下观察扩散膜涂层无涂布不均、流平不良、雾影等弊病,判定为合格。覆膜牢度评价方法为:扩散膜表面贴上市售保护膜(剥离力0.03~0.05N/25mm),通过GB/T2792测试剥离力,达到保护膜原有剥离力范围判定为覆膜牢度合格。防静电效果评价方法为:通过高阻计(型号:SME-8310)测试表面电阻,表面电阻小于等于1.0×1012Ω为防静电效果合格。
由表中的性能数据可以看出,实施例1-5为采用本发明技术方案的光学扩散膜,具有表观均匀平整、良好的覆膜牢度及防静电效果。对比例1为丙烯酸酯共聚物流平剂过少,涂层表面不够平整光滑,降低了覆膜牢度,同时影响了抗静电剂迁移至表面;对比例2为丙烯酸酯共聚物流平剂过多,涂层表面出现雾影,降低了覆膜牢度;对比例3为有机硅类流平剂,虽然流平良好表观合格,但是严重降低了覆膜牢度。
以上仅为本发明的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些均属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种光学扩散膜,包括透明基材、设置在透明基材上表面的光扩散层和设置在透明基材下表面的背层,其特征在于,所述背层上涂覆有涂布液,所述涂布液包括如下重量百分比的各物质:
流平剂0.015%~0.172%;
抗静电剂0.549%~0.686%;
防粘连粒子2.325%~3.923%;
粘合剂树脂27.465%~34.322%;
交联剂2.059%~7.427%;
溶剂58.838%~65.916%;
所述流平剂为丙烯酸酯共聚物,具有以下结构式:—(CH2CR1COOR2)x—(CH2CR3COOR4)y—,
其中,R1为甲基或氢,R2为C4~C8的直链或支链烷基,R3为甲基或氢,R4为羟乙基、羟丙基或缩水甘油基,x为50~70,y为7~9。
2.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述抗静电剂为烷基磺酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基磷酸酯盐或烷基季铵盐中的一种或任意重量百分含量的多种。
3.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述防粘连粒子为粒径为3~7μm、粒径变异系数为15%以下、并凸出涂层高度为1~2μm的高聚物树脂微珠,所述高聚物树脂微珠为聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚硅氧烷、聚甲基丙烯酸正丁酯、聚甲基丙烯酸异丁酯、聚酰胺、聚氨酯微珠中的一种或任意重量百分含量的多种。
4.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述粘合剂树脂为羟基丙烯酸树脂、聚酯树脂或环氧树脂中的一种或任意重量百分含量的多种。
5.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述交联剂为脂肪族聚异氰酸酯。
6.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述溶剂为高挥发速率溶剂、中等挥发速率溶剂及低挥发速率溶剂中的一种或任意重量百分含量的多种;所述高挥发速率溶剂为丙酮、丁酮、乙酸乙酯和乙酸甲酯中的一种或任意重量百分含量的多种;所述中挥发速率溶剂为乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲苯、二甲苯和乙酸戊酯中的一种或任意重量百分含量的多种;所述低挥发速率溶剂为丙二醇甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚和环己酮中的一种或任意重量百分含量的多种。
7.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述基材为PET薄膜,所述基材厚度为25~250μm;所述基材表面经过电晕或等离子处理。
8.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述光扩散层为具有40%~99%雾度的光学扩散层。
9.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述涂布液采用如下方式制备:在配液桶中先加入配方量的溶剂和粘合剂树脂搅拌均匀,再加入配方量的流平剂、抗静电剂和防粘连粒子搅拌均匀,使用前10分钟加入配方量交联剂搅拌均匀,备用。
10.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜,其特征在于,所述涂布液采用微凹版涂布法:
将背层涂布液涂布到设置光学扩散层的透明基材的另一表面上,经过烘箱烘干溶剂同时进行交联反应,烘箱的温度范围为90℃~120℃,烘干时间为0.5min~5min;置于40℃的熟化室中熟化48h~96h,得到包括所述背层的光学扩散膜。
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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