CN112259470A - 一种单晶硅片多模式高效清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及单晶硅片技术领域，且公开了一种单晶硅片多模式高效清洗装置，包括工作架，所述工作架的底部固定安装有底板，所述底板的顶部固定安装有净水箱，所述工作架的顶部固定安装有支撑架，所述工作架的顶部固定安装有位于支撑架内部的清洗箱，所述净水箱的左侧固定安装有净水泵，所述净水泵的顶部固定安装有位于清洗箱前侧的导水管。该单晶硅片多模式高效清洗装置，净化泵上设置的吸水管，净化泵启动后将净水从吸水管导至导水管的内部，方便于循环使用，该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过利用蛇形过滤通道和三级滤网，对污水实现曲折型高效过滤，方便于达到快速净化的作用，使净化后的水可以循环使用。

Description

一种单晶硅片多模式高效清洗装置
技术领域
本发明涉及单晶硅片技术领域，具体为一种单晶硅片多模式高效清洗装置。
背景技术
单晶硅片：硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体，不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料。
现有的单晶硅片应用已经十分广泛了，可用于制造半导体器件，针对现有的单晶硅片，在对其加工中需要进行清洗，但是现有的清洗装置较为简单，不能高效的对单晶硅片快速清洗，且现有的清洗装置后的污水不能循环利用，进而造成水资源的浪费，难以满足社会的需求，故而提出了一种单晶硅片多模式高效清洗装置来解决上述中的问题。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本发明提供了一种单晶硅片多模式高效清洗装置，具备高效清洗和方便水循环的优点，解决了现有的清洗装置较为简单，不能高效的对单晶硅片快速清洗，且现有的清洗装置后的污水不能循环利用，进而造成水资源的浪费的问题。
(二)技术方案
为实现上述高效清洗和方便水循环目的，本发明提供如下技术方案：一种单晶硅片多模式高效清洗装置，包括工作架，所述工作架的底部固定安装有底板，所述底板的顶部固定安装有净水箱，所述工作架的顶部固定安装有支撑架，所述工作架的顶部固定安装有位于支撑架内部的清洗箱，所述净水箱的左侧固定安装有净水泵，所述净水泵的顶部固定安装有位于清洗箱前侧的导水管，所述导水管后表面的左右两侧均固定连接有延伸至清洗箱内部的喷水管，所述喷水管的前后两侧均固定安装有喷射头，所述喷水管的前后两侧均固定安装有位于两个喷射头之间的喷淋头，所述支撑架的内部右侧固定安装有固定架，所述固定架的左侧固定安装有数量为两个的主电机，所述主电机的输出轴处固定连接有延伸至清洗箱内部并与其转动连接的清洗辊，所述清洗箱前侧固定安装有贯穿清洗箱并延伸至清洗箱后侧的防脱架，所述防脱架的外部固定安装有驱动输送装置，所述清洗箱的内顶壁前后两侧均固定安装有连接臂，所述连接臂的底部固定安装有防水超声波发生器，所述连接臂的底部固定安装有位于防水超声波发生器前后两侧的擦拭板，所述净水箱的顶部固定安装有贯穿工作架的顶部的过滤箱，所述过滤箱的内部活动安装有与清洗箱内部相通的过滤盒，所述过滤盒的内部开设有蛇形过滤通道。
优选的，所述工作架的底部前后左右四侧均设置有与底板连接的工作立柱，所述净水箱的右侧设置有与其内部相通的注水管。
优选的，所述支撑架包括有与工作架连接且数量为两个的支撑立柱和位于两个支撑立柱顶部的支撑顶板，所述支撑架的前侧设置有控制箱，所述净水泵的右侧设置有延伸至净水箱内部的吸水管。
优选的，所述固定架上设置有位于主电机外部的电机架，所述清洗箱的内部设置有与清洗辊转动连接的轴承座。
优选的，所述清洗辊的外部设置有清洗软毛，所述喷淋头与清洗辊在同一垂直线，所述清洗箱的前后两侧均设置有与防脱架连接的托板。
优选的，所述驱动输送装置包括有位于两个托板顶部的驱动电机和位于两个驱动电机输出轴外部并位于防脱板外部的输送带，所述防脱架的顶部和底部均设置有位于输送带左右两侧的限位导轮。
优选的，所述连接臂的底部设置有与两个擦拭板连接的主连接板，且防水超声波发生器的顶部固定安装有与两个擦拭板连接的副连接板，所述擦拭板的底部设置有擦拭布。
优选的，所述过滤盒的左右两侧均设置有与过滤箱滑动连接的滑条，且过滤盒的前侧设置有与过滤箱前侧密封的密封盖板，且密封盖板的前侧设置有抽拉柄。
优选的，所述过滤盒的内部设置有数量为三个且位于蛇形过滤通道内部的过滤网，且三个过滤网从上至下分别位于粗滤网、细滤网和精滤网。
(三)有益效果
与现有技术相比，本发明提供了一种单晶硅片多模式高效清洗装置，具备以下有益效果：
1、该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过防脱架上设置的驱动输送装置，方便于驱动电机的启动可以带动输送带将单晶硅片输送至清洗箱的内部，而喷水管上设置的喷射头，方便于对输送带上的单晶硅片进行喷射水洗，而连接臂上设置的擦拭板，当单晶硅片移动至位于擦拭板底部，方便于擦拭板对单晶硅片进行擦洗，而连接臂上设置的防水超声波发生器，方便于对单晶硅片表面的污物进行分散并剥离而达到超声波清洗，通过喷水管上设置的喷淋头，方便于对清洗辊持续性的注水，当主电机启动并带动清洗辊转动时，方便于清洗辊表面的清洗软毛在转动的作用下对单晶硅片表面进行刷洗，通过喷水管上设置的喷射头和喷淋头，方便于对清洗箱的内部持续注水，从而对单晶硅片起到泡洗的作用，该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过对单晶硅片持续性的喷射水洗、擦洗、超声波清洗、刷洗和泡洗的多种的清洗，从而达到高效清洗的效果。
2、该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过净水箱上设置的过滤箱，方便于其内部使用后的污水从过滤箱排至过滤盒内部，当污水进入到过滤盒内部并贯穿蛇形过滤通道时，蛇形过滤通道内部的粗滤网、细滤网和精滤网可以将污水中的杂质、细小颗粒及微型颗粒过滤掉，从而对污水达到过滤的效果，净化后的水流至净化箱的内部，而净化泵上设置的吸水管，净化泵启动后将净水从吸水管导至导水管的内部，方便于循环使用，该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过利用蛇形过滤通道和三级滤网，对污水实现曲折型高效过滤，方便于达到快速净化的作用，使净化后的水可以循环使用。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明清洗箱侧视结构示意图；
图3为本发明剖视结构示意图。
图中：1工作架、2底板、3净水箱、4支撑架、5清洗箱、6净水泵、7导水管、8喷水管、9喷射头、10喷淋头、11固定架、12主电机、13清洗辊、14防脱架、15驱动输送装置、16连接臂、17防水超声波发生器、18擦拭板、19过滤箱、20过滤盒、21蛇形过滤通道。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-3，一种单晶硅片多模式高效清洗装置，包括工作架1，工作架1的底部固定安装有底板2，工作架1的底部前后左右四侧均设置有与底板2连接的工作立柱，底板2的顶部固定安装有净水箱3，净水箱3的右侧设置有与其内部相通的注水管，工作架1的顶部固定安装有支撑架4，支撑架4包括有与工作架1连接且数量为两个的支撑立柱和位于两个支撑立柱顶部的支撑顶板，支撑架4的前侧设置有控制箱，工作架1的顶部固定安装有位于支撑架4内部的清洗箱5，净水箱3的左侧固定安装有净水泵6，净水泵6的右侧设置有延伸至净水箱3内部的吸水管，净水泵6的顶部固定安装有位于清洗箱5前侧的导水管7，导水管7后表面的左右两侧均固定连接有延伸至清洗箱5内部的喷水管8，喷水管8的前后两侧均固定安装有喷射头9，喷水管8的前后两侧均固定安装有位于两个喷射头9之间的喷淋头10，支撑架4的内部右侧固定安装有固定架11，固定架11的左侧固定安装有数量为两个的主电机12，固定架11上设置有位于主电机12外部的电机架，主电机12的输出轴处固定连接有延伸至清洗箱5内部并与其转动连接的清洗辊13，清洗箱5的内部设置有与清洗辊13转动连接的轴承座，清洗辊13的外部设置有清洗软毛，喷淋头10与清洗辊13在同一垂直线，清洗箱5前侧固定安装有贯穿清洗箱5并延伸至清洗箱5后侧的防脱架14，清洗箱5的前后两侧均设置有与防脱架14连接的托板，防脱架14的外部固定安装有驱动输送装置15，驱动输送装置15包括有位于两个托板顶部的驱动电机和位于两个驱动电机输出轴外部并位于防脱板14外部的输送带，防脱架14的顶部和底部均设置有位于输送带左右两侧的限位导轮，清洗箱5的内顶壁前后两侧均固定安装有连接臂16，连接臂16的底部固定安装有防水超声波发生器17，连接臂16的底部固定安装有位于防水超声波发生器17前后两侧的擦拭板18，连接臂16的底部设置有与两个擦拭板18连接的主连接板，且防水超声波发生器17的顶部固定安装有与两个擦拭板18连接的副连接板，擦拭板18的底部设置有擦拭布，净水箱3的顶部固定安装有贯穿工作架1的顶部的过滤箱19，过滤箱19的内部活动安装有与清洗箱5内部相通的过滤盒20，过滤盒20的左右两侧均设置有与过滤箱19滑动连接的滑条，且过滤盒20的前侧设置有与过滤箱19前侧密封的密封盖板，且密封盖板的前侧设置有抽拉柄，过滤盒20的内部开设有蛇形过滤通道21，过滤盒20的内部设置有数量为三个且位于蛇形过滤通道21内部的过滤网，且三个过滤网从上至下分别位于粗滤网、细滤网和精滤网。
综上所述，该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过防脱架14上设置的驱动输送装置15，方便于驱动电机的启动可以带动输送带将单晶硅片输送至清洗箱5的内部，而喷水管8上设置的喷射头9，方便于对输送带上的单晶硅片进行喷射水洗，而连接臂16上设置的擦拭板18，当单晶硅片移动至位于擦拭板18底部，方便于擦拭板18对单晶硅片进行擦洗，而连接臂16上设置的防水超声波发生器17，方便于对单晶硅片表面的污物进行分散并剥离而达到超声波清洗，通过喷水管8上设置的喷淋头10，方便于对清洗辊13持续性的注水，当主电机12启动并带动清洗辊13转动时，方便于清洗辊13表面的清洗软毛在转动的作用下对单晶硅片表面进行刷洗，通过喷水管8上设置的喷射头9和喷淋头10，方便于对清洗箱5的内部持续注水，从而对单晶硅片起到泡洗的作用，该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过对单晶硅片持续性的喷射水洗、擦洗、超声波清洗、刷洗和泡洗的多种的清洗，从而达到高效清洗的效果。
并且，通过净水箱3上设置的过滤箱19，方便于其内部使用后的污水从过滤箱19排至过滤盒20内部，当污水进入到过滤盒20内部并贯穿蛇形过滤通道21时，蛇形过滤通道21内部的粗滤网、细滤网和精滤网可以将污水中的杂质、细小颗粒及微型颗粒过滤掉，从而对污水达到过滤的效果，净化后的水流至净化箱3的内部，而净化泵6上设置的吸水管，净化泵6启动后将净水从吸水管导至导水管7的内部，方便于循环使用，该单晶硅片多模式高效清洗装置，通过利用蛇形过滤通道21和三级滤网，对污水实现曲折型高效过滤，方便于达到快速净化的作用，使净化后的水可以循环使用。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (9)

1.一种单晶硅片多模式高效清洗装置，包括工作架(1)，其特征在于：所述工作架(1)的底部固定安装有底板(2)，所述底板(2)的顶部固定安装有净水箱(3)，所述工作架(1)的顶部固定安装有支撑架(4)，所述工作架(1)的顶部固定安装有位于支撑架(4)内部的清洗箱(5)，所述净水箱(3)的左侧固定安装有净水泵(6)，所述净水泵(6)的顶部固定安装有位于清洗箱(5)前侧的导水管(7)，所述导水管(7)后表面的左右两侧均固定连接有延伸至清洗箱(5)内部的喷水管(8)，所述喷水管(8)的前后两侧均固定安装有喷射头(9)，所述喷水管(8)的前后两侧均固定安装有位于两个喷射头(9)之间的喷淋头(10)，所述支撑架(4)的内部右侧固定安装有固定架(11)，所述固定架(11)的左侧固定安装有数量为两个的主电机(12)，所述主电机(12)的输出轴处固定连接有延伸至清洗箱(5)内部并与其转动连接的清洗辊(13)，所述清洗箱(5)前侧固定安装有贯穿清洗箱(5)并延伸至清洗箱(5)后侧的防脱架(14)，所述防脱架(14)的外部固定安装有驱动输送装置(15)，所述清洗箱(5)的内顶壁前后两侧均固定安装有连接臂(16)，所述连接臂(16)的底部固定安装有防水超声波发生器(17)，所述连接臂(16)的底部固定安装有位于防水超声波发生器(17)前后两侧的擦拭板(18)，所述净水箱(3)的顶部固定安装有贯穿工作架(1)的顶部的过滤箱(19)，所述过滤箱(19)的内部活动安装有与清洗箱(5)内部相通的过滤盒(20)，所述过滤盒(20)的内部开设有蛇形过滤通道(21)。
2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述工作架(1)的底部前后左右四侧均设置有与底板(2)连接的工作立柱，所述净水箱(3)的右侧设置有与其内部相通的注水管。
3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述支撑架(4)包括有与工作架(1)连接且数量为两个的支撑立柱和位于两个支撑立柱顶部的支撑顶板，所述支撑架(4)的前侧设置有控制箱，所述净水泵(6)的右侧设置有延伸至净水箱(3)内部的吸水管。
4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述固定架(11)上设置有位于主电机(12)外部的电机架，所述清洗箱(5)的内部设置有与清洗辊(13)转动连接的轴承座。
5.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述清洗辊(13)的外部设置有清洗软毛，所述喷淋头(10)与清洗辊(13)在同一垂直线，所述清洗箱(5)的前后两侧均设置有与防脱架(14)连接的托板。
6.根据权利要求5所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述驱动输送装置(15)包括有位于两个托板顶部的驱动电机和位于两个驱动电机输出轴外部并位于防脱板(14)外部的输送带，所述防脱架(14)的顶部和底部均设置有位于输送带左右两侧的限位导轮。
7.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述连接臂(16)的底部设置有与两个擦拭板(18)连接的主连接板，且防水超声波发生器(17)的顶部固定安装有与两个擦拭板(18)连接的副连接板，所述擦拭板(18)的底部设置有擦拭布。
8.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述过滤盒(20)的左右两侧均设置有与过滤箱(19)滑动连接的滑条，且过滤盒(20)的前侧设置有与过滤箱(19)前侧密封的密封盖板，且密封盖板的前侧设置有抽拉柄。
9.根据权利要求1所述的一种单晶硅片多模式高效清洗装置，其特征在于：所述过滤盒(20)的内部设置有数量为三个且位于蛇形过滤通道(21)内部的过滤网，且三个过滤网从上至下分别位于粗滤网、细滤网和精滤网。
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