CN210730330U - 一种用于硅片回程清洗的冲洗机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及清洗设备技术领域，且公开了一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，包括设备壳体，所述设备壳体的一侧固定安装有支撑底座，所述支撑底座上固定安装有电机，所述电机的输出轴上固定套接有主动齿轮，且电机的输出轴上固定安装有旋转轴，所述旋转轴上固定套接有防滑轮。本实用新型通过在输水管上设置一个以上的固定储水架，并在固定储水架的底端设置一个旋转钮来连接冲洗头，使得冲洗头可以进行旋转，使得工作人员可以通过调节冲洗头的方向来进行不同程度的清洗，同时在设备壳体一侧的中部设置有刷毛，使得硅片在进入到设备壳体的内腔时会被刷毛进行刷洗一遍，从而将硅片上的大颗粒灰尘刷掉，提高清洗效果，保证了装置的实用性。

Description

一种用于硅片回程清洗的冲洗机构

技术领域

本实用新型涉及清洗设备技术领域，具体为一种用于硅片回程清洗的冲洗机构。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，清除污染的方法有物理清洗和化学清洗，物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法将硅片表面杂质去除，化学清洗主要采用清洗液直接浸泡清洗，但是效率往往不高，同时由于硅片叠放在一起，浸泡的不是很均匀，因此需要一个个清洗，但是人工清洗费时费力，现有的机械清洗都只有一个清洗头，没有刷洗的机构，效率低下的同时清洗不是很干净，并且对水资源没有循环利用，为此提出一种用于硅片回程清洗的冲洗机构。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，具备多个清洗头，循环利用水源，清洗更加干净的优点，解决了上述背景技术提出的问题。

本实用新型提供如下技术方案：一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，包括设备壳体，所述设备壳体的一侧固定安装有支撑底座，所述支撑底座上固定安装有电机，所述电机的输出轴上固定套接有主动齿轮，且电机的输出轴上固定安装有旋转轴，所述旋转轴上固定套接有防滑轮，所述主动齿轮的两侧分别与两个反转齿轮啮合连接，所述反转齿轮的另一侧啮合连接有同向齿轮，所述旋转轴上放置有硅片，所述设备壳体内腔位于旋转轴的下方位置固定安装有滤网，所述设备壳体底端的一侧固定套接有排污口，且设备壳体外表面靠近排污口的一侧固定套接有水泵，所述水泵的顶端固定套接有回流管，所述回流管的顶端固定安装有输水管，所述输水管的中部固定套接有固定储水架，所述固定储水架的底端固定安装有旋转钮，所述旋转钮的一侧固定安装有冲洗头，所述输水管远离回流管的一端贯穿设备壳体的侧壁并与净水接口固定套接，所述设备壳体的中部开口上沿固定安装有刷毛。

精选的，所述排污口包括支撑体，所述支撑体固定安装在设备壳体底端的一侧，所述支撑体内侧的中部固定安装有伸缩体，所述伸缩体上活动套接有压簧，且伸缩体的顶端固定安装有密封块，所述伸缩体的底端贯穿支撑体的底部固定安装有拉杆，所述支撑体底端的两侧固定安装有卡块，所述拉杆的长度值大于两个卡块之间的距离值。

精选的，所述反转齿轮的直径值小于主动齿轮的直径值，且反转齿轮的轮齿与主动齿轮的轮齿大小相等，所述主动齿轮的直径值等于同向齿轮的直径值。

精选的，所述输水管的数量为两个，两个所述输水管分别连接在回流管上和净水接口上，所述回流管上的输水管安装在设备壳体内腔靠近刷毛的一侧。

精选的，所述刷毛的长度值小于设备壳体开口的高度值，且刷毛的总分布长度值小于设备壳体的长度值。

与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：

1、本实用新型通过在输水管上设置一个以上的固定储水架，并在固定储水架的底端设置一个旋转钮来连接冲洗头，使得冲洗头可以进行旋转，使得工作人员可以通过调节冲洗头的方向来进行不同程度的清洗，同时在设备壳体一侧的中部设置有刷毛，使得硅片在进入到设备壳体的内腔时会被刷毛进行刷洗一遍，从而将硅片上的大颗粒灰尘刷掉，提高清洗效果，保证了装置的实用性。

2、本实用新型通过在设备壳体内腔的底部设置一个滤网用来过滤冲洗后的污水，从而将污渍过滤留在滤网上，过滤后的水源落入到设备壳体内腔的底部，然后被水泵抽回至回流管内，然后再次进入到输水管内，然后从冲洗头内流出冲洗硅片，使得节约水资源，降低成本，提高了装置的可靠性。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型结构同向齿轮示意图；

图3为本实用新型结构排污口示意图。

图中：1、设备壳体；2、支撑底座；3、电机；4、主动齿轮；5、旋转轴；6、防滑轮；7、反转齿轮；8、同向齿轮；9、硅片；10、滤网；11、排污口；111、支撑体；112、伸缩体；113、压簧；114、密封块；115、拉杆；116、卡块；12、水泵；13、回流管；14、输水管；15、固定储水架；16、旋转钮；17、冲洗头；18、净水接口；19、刷毛。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，包括设备壳体1，设备壳体1的一侧固定安装有支撑底座2，支撑底座2上固定安装有电机3，电机3的输出轴上固定套接有主动齿轮4，且电机3的输出轴上固定安装有旋转轴5，旋转轴5上固定套接有防滑轮6，主动齿轮4的两侧分别与两个反转齿轮7啮合连接，反转齿轮7的直径值小于主动齿轮4的直径值，且反转齿轮7的轮齿与主动齿轮4的轮齿大小相等，主动齿轮4的直径值等于同向齿轮8的直径值，在主动齿轮4和同向齿轮8之间设置一个反转齿轮7，使得主动齿轮4和同向齿轮8的转速以及方向一致，提高装置的统一性，同时利用反转齿轮7可以将旋转完美的传导到同向齿轮8上，提高了装置的可靠性，反转齿轮7的另一侧啮合连接有同向齿轮8，旋转轴5上放置有硅片9，设备壳体1内腔位于旋转轴5的下方位置固定安装有滤网10，设备壳体1底端的一侧固定套接有排污口11，排污口11包括支撑体111，支撑体111固定安装在设备壳体1底端的一侧，支撑体111内侧的中部固定安装有伸缩体112，伸缩体112上活动套接有压簧113，且伸缩体112的顶端固定安装有密封块114，伸缩体112的底端贯穿支撑体111的底部固定安装有拉杆115，支撑体111底端的两侧固定安装有卡块116，拉杆115的长度值大于两个卡块116之间的距离值，在支撑体111的内侧设置一个伸缩体112将密封块114的位置限定住，避免密封块114滑脱导致装置运行不正常，同时在伸缩体112上套接一个压簧113使得当水压不够时压簧113将密封块114回弹重新堵住出水口，另外在支撑体111的底端设置一个拉杆115，使得当需要手动清洗污水时只需用力将拉杆115下拉并旋转，利用卡块116将拉杆115的位置卡住，从而使得密封块114不再堵住出水口，实现人工清理，提高了装置的实用性，且设备壳体1外表面靠近排污口11的一侧固定套接有水泵12，水泵12的顶端固定套接有回流管13，回流管13的顶端固定安装有输水管14，输水管14的数量为两个，两个输水管14分别连接在回流管13上和净水接口18上，回流管13上的输水管14安装在设备壳体1内腔靠近刷毛19的一侧，设置两个输水管14使得冲洗的更加干净，同时将连接在回流管13上的输水管14设置在前方进行初步冲洗，使得利用冲洗过的水进行冲洗，再利用少量净水即可将硅片9冲洗干净，从而节约了水资源，提高了装置的实用性，输水管14的中部固定套接有固定储水架15，固定储水架15的底端固定安装有旋转钮16，旋转钮16的一侧固定安装有冲洗头17，输水管14远离回流管13的一端贯穿设备壳体1的侧壁并与净水接口18固定套接，设备壳体1的中部开口上沿固定安装有刷毛19，刷毛19的长度值小于设备壳体1开口的高度值，且刷毛19的总分布长度值小于设备壳体1的长度值，将刷毛19的长度值设置为小于设备壳体1开口的高度值，使得刷毛19不会完全遮挡住设备壳体1的开口导致硅片9无法进入，保证了结构的合理性，同时将刷毛19的总分布长度值设置为小于设备壳体1的长度值，使得刷毛19可以将设备壳体1的开口完全覆盖住，避免出现没有进过刷洗就进入到设备壳体1内腔的情况出现，提高了装置的可行性。

工作原理：使用时，首先启动装置，使得硅片9被传送机构通过设备壳体1一侧的开口传送到设备壳体1内腔的旋转轴5上，同时硅片9在被传送进设备壳体1内腔时会被刷毛19进行初步的刷洗，同时启动电机3从而带动旋转轴5开始旋转将硅片9向前传送，然后输水管14内开始进水，水流首先进入到固定储水架15内，然后进入到冲洗头17内并在重力的作用下冲洗在硅片9上，将污渍冲洗掉并落在滤网10上，污渍被过滤留在滤网10上，水源落入到设备壳体1内腔的底部，然后启动水泵12将水源抽回至回流管13内，然后再次进入到输水管14内，循环利用，最后定时清洗滤网10并排放污水，即可。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。同时在本实用新型的附图中，填充图案只是为了区别图层，不做其他任何限定。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，包括设备壳体(1)，其特征在于：所述设备壳体(1)的一侧固定安装有支撑底座(2)，所述支撑底座(2)上固定安装有电机(3)，所述电机(3)的输出轴上固定套接有主动齿轮(4)，且电机(3)的输出轴上固定安装有旋转轴(5)，所述旋转轴(5)上固定套接有防滑轮(6)，所述主动齿轮(4)的两侧分别与两个反转齿轮(7)啮合连接，所述反转齿轮(7)的另一侧啮合连接有同向齿轮(8)，所述旋转轴(5)上放置有硅片(9)，所述设备壳体(1)内腔位于旋转轴(5)的下方位置固定安装有滤网(10)，所述设备壳体(1)底端的一侧固定套接有排污口(11)，且设备壳体(1)外表面靠近排污口(11)的一侧固定套接有水泵(12)，所述水泵(12)的顶端固定套接有回流管(13)，所述回流管(13)的顶端固定安装有输水管(14)，所述输水管(14)的中部固定套接有固定储水架(15)，所述固定储水架(15)的底端固定安装有旋转钮(16)，所述旋转钮(16)的一侧固定安装有冲洗头(17)，所述输水管(14)远离回流管(13)的一端贯穿设备壳体(1)的侧壁并与净水接口(18)固定套接，所述设备壳体(1)的中部开口上沿固定安装有刷毛(19)。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，其特征在于：所述排污口(11)包括支撑体(111)，所述支撑体(111)固定安装在设备壳体(1)底端的一侧，所述支撑体(111)内侧的中部固定安装有伸缩体(112)，所述伸缩体(112)上活动套接有压簧(113)，且伸缩体(112)的顶端固定安装有密封块(114)，所述伸缩体(112)的底端贯穿支撑体(111)的底部固定安装有拉杆(115)，所述支撑体(111)底端的两侧固定安装有卡块(116)，所述拉杆(115)的长度值大于两个卡块(116)之间的距离值。

3.根据权利要求1所述的一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，其特征在于：所述反转齿轮(7)的直径值小于主动齿轮(4)的直径值，且反转齿轮(7)的轮齿与主动齿轮(4)的轮齿大小相等，所述主动齿轮(4)的直径值等于同向齿轮(8)的直径值。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，其特征在于：所述输水管(14)的数量为两个，两个所述输水管(14)分别连接在回流管(13)上和净水接口(18)上，所述回流管(13)上的输水管(14)安装在设备壳体(1)内腔靠近刷毛(19)的一侧。

5.根据权利要求1所述的一种用于硅片回程清洗的冲洗机构，其特征在于：所述刷毛(19)的长度值小于设备壳体(1)开口的高度值，且刷毛(19)的总分布长度值小于设备壳体(1)的长度值。

Images